导读:本文包含了气相沉积方法论文开题报告文献综述及选题提纲参考文献，主要关键词:氧化亚铜,脉冲热蒸发化学气相沉积(PSE-CVD),XRD,SEM
气相沉积方法论文文献综述
潘冠福[1]（2019）在《采用化学气相沉积方法制备纯净的氧化亚铜》一文中研究指出采用自行搭建的脉冲热蒸发化学气相沉积(PSE-CVD)系统,制备了薄膜状的氧化亚铜样品。通过使用XRD、SEM和XPS叁种检测手段分别从晶相鉴别、微观特征和元素构成的方面对沉积的样品迚行了表征。结果证实脉冲热蒸发化学气相沉积法能够制备出高纯度的氧化亚铜。(本文来源于《当代化工》期刊2019年08期）
陈胜男[2]（2019）在《超声雾化辅助气相沉积方法制备TiN薄膜及其光电性能研究》一文中研究指出TiN具有本征电阻率低、辐射率低、机械稳定性好等特性,其在低辐射镀膜领域的应用前景十分广泛,但是传统的物理气相沉积、化学气相沉积方法对制备工艺和环境的要求极为苛刻。本文采用超声雾化喷涂方法,以TiN纳米为前驱体,在低温敞开环境条件下成功制备了 TiN镀膜玻璃,研究了 TiN纳米粉体在有机体系、水体系中分散的稳定性及粒径分布规律,获得稳定性较好、粒径分布小的水体系TiN纳米分散液,研究了前驱体分散液中颗粒粒径对TiN薄膜物相组成、形貌、光学性能以及亲水性的影响。低辐射镀膜玻璃是在玻璃表面镀由单层或多层银等金属或他导电性能较好的化合物组成的薄膜体系,对可见光有较高的透射率,对红外光有很高的反射率,因而具有良好的隔热性能,本文选取国内外不同工艺技术制备的10批次镀膜玻璃样品,对其结构与性能进行对比研究,结合理论分析与计算,提出改善薄膜辐射性能的可行性膜结构设计思路。具体研究结果如下:(1)通过调节溶液pH值,加入Tween80分散助剂结合超声处理,TiN粉体在水溶液中等电点由pH/1iep = 5.67降低至pHiep = 4.95,粉体表面ζ电位绝对值控制在40mV以上,最佳超声处理时间为30min,可以得到粒径分布在170nm左右的稳定分散液;球磨处理16～20h能够促进分散助剂与粉体的结合,在较高浓度下获得分散粒径小于200nm的稳定分散液。(2)分散液粒径分布对超声雾化辅助沉积的TiN薄膜形貌以及性能具有较大影响。粒径为65nm的TiN分散液沉积得到的薄膜致密均匀。真空热处理后接触角由0°增加至80°,表面O含量和结晶性增加。空气氧化处理得到TiN/Ti02复合薄膜,400℃以上薄膜发生向结晶态Ti02的转变,氧化过程中残留有机物的氧化在表面形成碳化物,对薄膜亲水性产生影响。粒径为170nm的TiN分散液沉积得到疏松多孔的薄膜,具有较强的光学吸收,真空热处理使薄膜由0°接触角的超亲水性转变为153°接触角的超疏水性,薄膜内残留水分和有机分散剂挥发分解,表面非晶态物相TiOxNy逐渐向Ti02转变,分散剂分解表面能降低,形成了超疏水纳米结构。(3)透明导电薄膜的辐射率与薄膜电导率、形貌具有较大的关系,F-离子掺杂可促进(200)晶面的生长、增加薄膜载流子浓度,薄膜厚度增加、粗糙度的降低,能够进一步改善薄膜辐射性能。对现有样品的性能研究结果显示,采用“阻挡层+功能层”的结构设计,保证F-离子的有效掺杂,对结构的调控使薄膜绝对反射率接近全反射曲线以最大限度降低散射的影响,控制制备厚度在600nm以上,表面粗糙度Rq<15nm,电阻率低于6.OX10-4Ω ·cm的镀膜玻璃,可以实现辐射率的显着降低。以上研究结果对于探究改进镀膜玻璃低辐射性能、拓展以纳米分散液前驱体制备薄膜的应用领域、深入研究纳米粉体表面化学状态对薄膜表面特性的影响和具有重要意义。(本文来源于《浙江大学》期刊2019-03-01）
冯秋菊,李芳,李彤彤,李昀铮,石博[3]（2018）在《外电场辅助化学气相沉积方法制备网格状β-Ga_2O_3纳米线及其特性研究》一文中研究指出利用外电场辅助化学气相沉积(CVD)方法,在蓝宝石衬底上制备出了由叁组生长方向构成的网格状β-Ga_2O_3纳米线.研究了不同外加电压大小对β-Ga_2O_3纳米线表面形貌、晶体结构以及光学特性的影响.结果表明:外加电压的大小对样品的表面形貌有着非常大的影响,有外加电场作用时生长的β-Ga_2O_3纳米线取向性开始变好,只出现了由叁组不同生长方向构成的网格状β-Ga_2O_3纳米线;并且随着外加电压的增加,纳米线分布变得更加密集、长度明显增长.此外,采用这种外电场辅助的CVD方法可以明显改善样品的结晶和光学质量.(本文来源于《物理学报》期刊2018年21期）
贾欢,杨振辉[4]（2018）在《物理气相沉积制备叶片热障涂层的控制系统与工艺方法》一文中研究指出本文涉及物理气相沉积制备叶片热障涂层的控制系统,包括顺序连接的工艺控制系统、高压电子束发生器、高压电子束,以及与工艺控制系统顺序连接的工艺动作控制器、工艺动作执行机构,还包括与高压电子束所作用的涂层靶材,用于在基体工件上生成涂层;所述工艺控制系统连有工件轴控制装置,所述工件轴控制装置与基体工件连接,以便于控制基体工件的旋转。(本文来源于《中国设备工程》期刊2018年19期）
冯博,王超明,李启锐[5]（2018）在《一种气相沉积过程中连接器的防护方法》一文中研究指出电子连接器广泛应用于电子、电器、仪表中PCB电路板中,其在电路阻断处或孤立不通的电路之间能起到桥梁的作用,担负起电流或信号传输的任务。但在叁防涂敷过程中容易污染,沾染上叁防材料,会造成连接器失效等不良后果。因此,叁防涂敷过程中连接器的防护尤为重要。介绍了一种叁防涂敷过程中简单高效的连接器的防护方法。(本文来源于《航空计算技术》期刊2018年05期）
[6]（2018）在《一种化学气相沉积法制备聚对二甲苯纳米纤维的方法》一文中研究指出本发明公开了一种化学气相沉积法制备聚对二甲苯纳米纤维的方法,属材料技术领域。本发明采用化学气相沉积技术,以聚对二甲苯为前驱体,以向列型液晶为模板,通过气相沉积聚合反应成功制备了聚对二甲苯纳米纤维,该制备方法具有纤维自身的尺寸、形貌、组成可控的特点,避免了传统静电纺丝法制备纤维存在溶剂后处理问题,环境污染严重等缺点,所得可应用于药物释放体系、组织工程、微流体装置等,具有很高的应用价值。(本文来源于《化学分析计量》期刊2018年01期）
[7]（2018）在《一种金刚石薄膜微波等离子体化学气相沉积方法及装置》一文中研究指出本发明提供了一种利用磁控技术提高金刚石薄膜微波等离子体化学气相沉积设备沉积速率的方法和装置。该方法包含以下步骤:在微波等离子体化学气相沉积工艺中利用磁场形成电子捕集阱,电子在捕集阱的约束下,在衬底上方固定区域作封闭的曲线运动,电子在运动过程中碰撞反应气体碰撞生成前驱反应基团和石墨组织抑制基团,从而提高反应基团浓度,实现金刚石薄膜沉积速率的提高。使用该方法的反应腔装置由微波源、螺钉调配器、定向耦合器、同轴天线、波导装置、调节活塞、谐振腔、石英罩、磁场发生装置等组成。本发明优点是可以显着提高金刚石微波等离子体化学气相沉积工艺的薄膜沉积速率,工艺和装置简单,便于实施。(本文来源于《化学分析计量》期刊2018年01期）
王晓晨[8]（2017）在《化学气相沉积法制备二氧化硅膜中的缺陷分析和解决方法》一文中研究指出大规模集成电路制造中,元器件的二氧化硅介电质层,是由化学气相沉积技术所制备。通过化学气相沉积技术制备的薄膜往往膜层和基体结合紧密,密度均匀,成分易控且沉积速度快。然而其所制备的薄膜经常出现厚度超标、表面晶状物缺陷和微粒污染物问题,严重影响元器件的性能。论文对二氧化硅膜的形成机理作了详细分析,介绍了主要设备的组成和主要工艺过程。论述了反应温度在成膜工艺过程中的影响,通过在不同温度下的镀膜工艺实验,得到了最佳的工艺反应温度;分析了在掺杂磷元素的二氧化硅膜制备工艺中,磷和氧元素的化学反应,研发了一种弱酸清洗法来解决二氧化硅膜表面的晶状物缺陷的方法;采用模拟各环节故障的方法依次分析了各环节对微粒污染物的影响,并改进了部分装置及工艺,消除了大多数微粒污染物缺陷。采用了上述改进措施之后,在制备二氧化硅介电质膜时,二氧化硅膜的厚度和晶状物缺陷得到解决,微粒污染物得到了极大的降低,产品的整体良率得到了提高,为企业创造了经济效益。(本文来源于《天津大学》期刊2017-05-01）
郝腾[9]（2016）在《基于物理气相沉积的高精度位相型CGH制备方法研究》一文中研究指出离轴非球面、自由曲面光学系统由于具有改善像质、降低光学系统尺寸和重量的特点,在天基、地基望远系统中有着重要的应用。但其复杂的面形,给光学检测带来了新的挑战。计算全息(Computer Generated Hologram,CGH)检测法,作为一种高精度、无像差、应用范围广的检测方法,在离轴非球面、自由曲面的检测中发挥着着重要的作用。CGH是计算全息检测的关键元件,光学检测中常用的CGH有振幅型CGH和位相型CGH。振幅型CGH精度较高但衍射效率较低,限制了其应用范围。位相型CGH衍射效率较高,应用范围更广,但受其制备工艺的影响,其精度普遍较低。研究高精度的位相型CGH的制备方法,对CGH检测具有重要的工程意义。目前,位相型CGH的主要制备方法为反应离子刻蚀法,其制作精度较低。本文为提高CGH制作精度,采用增材制备法,对基于物理气相沉积的位相型CGH制备进行研究,论文主要研究内容包括以下叁个部分:1.基于物理气相沉积的位相型CGH理论研究对位相型CGH波前理论进行研究,建立了物理气相沉积型CGH的误差模型,对物理气相沉积的位相型CGH精度进行讨论;2.激光直写机床误差研究对激光直写设备误差所导致的位相型CGH误差进行研究,提出机床运动误差模型和补偿方案,并进行实验验证;3.物理气相沉积技术制备位相型CGH在理论和制备方法研究的基础上,利用磁控溅射物理气相沉积技术制备位相型CGH,其精度和一级衍射效率分别为0.020λ[均方根(RMS)值]和0.245。(本文来源于《中国科学院长春光学精密机械与物理研究所》期刊2016-10-01）
[10]（2016）在《气相沉积方法比较》一文中研究指出(本文来源于《热处理》期刊2016年03期）
气相沉积方法论文开题报告
（1）论文研究背景及目的
此处内容要求：
首先简单简介论文所研究问题的基本概念和背景，再而简单明了地指出论文所要研究解决的具体问题，并提出你的论文准备的观点或解决方法。
写法范例：
TiN具有本征电阻率低、辐射率低、机械稳定性好等特性,其在低辐射镀膜领域的应用前景十分广泛,但是传统的物理气相沉积、化学气相沉积方法对制备工艺和环境的要求极为苛刻。本文采用超声雾化喷涂方法,以TiN纳米为前驱体,在低温敞开环境条件下成功制备了 TiN镀膜玻璃,研究了 TiN纳米粉体在有机体系、水体系中分散的稳定性及粒径分布规律,获得稳定性较好、粒径分布小的水体系TiN纳米分散液,研究了前驱体分散液中颗粒粒径对TiN薄膜物相组成、形貌、光学性能以及亲水性的影响。低辐射镀膜玻璃是在玻璃表面镀由单层或多层银等金属或他导电性能较好的化合物组成的薄膜体系,对可见光有较高的透射率,对红外光有很高的反射率,因而具有良好的隔热性能,本文选取国内外不同工艺技术制备的10批次镀膜玻璃样品,对其结构与性能进行对比研究,结合理论分析与计算,提出改善薄膜辐射性能的可行性膜结构设计思路。具体研究结果如下:(1)通过调节溶液pH值,加入Tween80分散助剂结合超声处理,TiN粉体在水溶液中等电点由pH/1iep = 5.67降低至pHiep = 4.95,粉体表面ζ电位绝对值控制在40mV以上,最佳超声处理时间为30min,可以得到粒径分布在170nm左右的稳定分散液;球磨处理16～20h能够促进分散助剂与粉体的结合,在较高浓度下获得分散粒径小于200nm的稳定分散液。(2)分散液粒径分布对超声雾化辅助沉积的TiN薄膜形貌以及性能具有较大影响。粒径为65nm的TiN分散液沉积得到的薄膜致密均匀。真空热处理后接触角由0°增加至80°,表面O含量和结晶性增加。空气氧化处理得到TiN/Ti02复合薄膜,400℃以上薄膜发生向结晶态Ti02的转变,氧化过程中残留有机物的氧化在表面形成碳化物,对薄膜亲水性产生影响。粒径为170nm的TiN分散液沉积得到疏松多孔的薄膜,具有较强的光学吸收,真空热处理使薄膜由0°接触角的超亲水性转变为153°接触角的超疏水性,薄膜内残留水分和有机分散剂挥发分解,表面非晶态物相TiOxNy逐渐向Ti02转变,分散剂分解表面能降低,形成了超疏水纳米结构。(3)透明导电薄膜的辐射率与薄膜电导率、形貌具有较大的关系,F-离子掺杂可促进(200)晶面的生长、增加薄膜载流子浓度,薄膜厚度增加、粗糙度的降低,能够进一步改善薄膜辐射性能。对现有样品的性能研究结果显示,采用“阻挡层+功能层”的结构设计,保证F-离子的有效掺杂,对结构的调控使薄膜绝对反射率接近全反射曲线以最大限度降低散射的影响,控制制备厚度在600nm以上,表面粗糙度Rq<15nm,电阻率低于6.OX10-4Ω ·cm的镀膜玻璃,可以实现辐射率的显着降低。以上研究结果对于探究改进镀膜玻璃低辐射性能、拓展以纳米分散液前驱体制备薄膜的应用领域、深入研究纳米粉体表面化学状态对薄膜表面特性的影响和具有重要意义。
（2）本文研究方法
调查法：该方法是有目的、有系统的搜集有关研究对象的具体信息。
观察法：用自己的感官和辅助工具直接观察研究对象从而得到有关信息。
实验法：通过主支变革、控制研究对象来发现与确认事物间的因果关系。
文献研究法：通过调查文献来获得资料，从而全面的、正确的了解掌握研究方法。
实证研究法：依据现有的科学理论和实践的需要提出设计。
定性分析法：对研究对象进行“质”的方面的研究，这个方法需要计算的数据较少。
定量分析法：通过具体的数字，使人们对研究对象的认识进一步精确化。
跨学科研究法：运用多学科的理论、方法和成果从整体上对某一课题进行研究。
功能分析法：这是社会科学用来分析社会现象的一种方法，从某一功能出发研究多个方面的影响。
模拟法：通过创设一个与原型相似的模型来间接研究原型某种特性的一种形容方法。
气相沉积方法论文参考文献
[1].潘冠福.采用化学气相沉积方法制备纯净的氧化亚铜[J].当代化工.2019
[2].陈胜男.超声雾化辅助气相沉积方法制备TiN薄膜及其光电性能研究[D].浙江大学.2019
[3].冯秋菊,李芳,李彤彤,李昀铮,石博.外电场辅助化学气相沉积方法制备网格状β-Ga_2O_3纳米线及其特性研究[J].物理学报.2018
[4].贾欢,杨振辉.物理气相沉积制备叶片热障涂层的控制系统与工艺方法[J].中国设备工程.2018
[5].冯博,王超明,李启锐.一种气相沉积过程中连接器的防护方法[J].航空计算技术.2018
[6]..一种化学气相沉积法制备聚对二甲苯纳米纤维的方法[J].化学分析计量.2018
[7]..一种金刚石薄膜微波等离子体化学气相沉积方法及装置[J].化学分析计量.2018
[8].王晓晨.化学气相沉积法制备二氧化硅膜中的缺陷分析和解决方法[D].天津大学.2017
[9].郝腾.基于物理气相沉积的高精度位相型CGH制备方法研究[D].中国科学院长春光学精密机械与物理研究所.2016
[10]..气相沉积方法比较[J].热处理.2016
标签：氧化亚铜; 脉冲热蒸发化学气相沉积(PSE-CVD); XRD; SEM;