导读:本文包含了活性屏离子渗氮论文开题报告文献综述及选题提纲参考文献，主要关键词:活性屏离子渗氮,技术,基础研究,应用现状
活性屏离子渗氮论文文献综述
陈全刚,牛君,陈永生,张庆纯,荣宝晶[1]（2017）在《活性屏离子渗氮技术基础及应用研究现状》一文中研究指出作为一种非常有发展前途的离子渗氮新技术,活性屏离子渗氮技术对传统离子渗氮中出现的空心阴极效应、电场效应、大小工件不可混装等问题进行了修缮和改进,解决了众多技术难题,但是该技术从实验室小规模研究到现实大规模应用还存在一定的不足之处。本文对近几年来国内外对活性屏离子渗氮技术(ASPN)的基础与工业化研究现状和发展成果进行简要介绍与阐述。(本文来源于《内燃机与配件》期刊2017年21期）
李杨,何永勇,朱宜杰,邱剑勋,修俊杰[2]（2017）在《2Cr13马氏体不锈钢活性屏离子渗氮技术》一文中研究指出对2Cr13马氏体不锈钢分别进行常规直流离子渗氮和活性屏离子渗氮对比试验。渗氮温度均为440℃,渗氮时间为8 h。采用金相显微镜、扫描电镜、X射线衍射仪、表面粗糙度仪、显微硬度仪和电化学工作站等设备分析表征两种渗氮样品。实验结果表明:活性屏离子渗氮在避免了传统离子渗氮缺点的同时,取得了与其相同的硬化效果。可在马氏体不锈钢表面制备一定厚度的均匀致密的白亮层,其相结构是以ε-Fe_(2-3)N相为主,并伴随少量的αN相。马氏体不锈钢活性屏渗氮处理不仅可以提高表面硬度,而且获得了良好的耐蚀性能。(本文来源于《金属热处理》期刊2017年05期）
缪跃琼,高玉新,郑少梅[3]（2016）在《304不锈钢双活性屏离子渗氮》一文中研究指出目的考察304不锈钢双活性屏离子渗氮技术的可行性及处理效果。方法利用双活性屏离子渗氮(DASPN)和普通直流离子渗氮(DCPN)两种技术对304不锈钢进行低温(420℃)硬化处理,对比分析两种工艺所得渗层的组织,对比研究两种工艺所得渗层的相结构、硬度和耐蚀性能。结果采用DASPN技术可获得比采用DCPN技术更为均匀、致密的渗层,渗层为单一S相层,硬度为763HV0.25。电化学测试表明,两种渗氮技术相比,DASPN处理获得的渗层耐蚀性能更优。结论采用DASPN技术对304不锈钢进行低温硬化处理,在试样距双屏的距离为70 mm时能够获得比DCPN更好的渗氮效果。该技术适于工业化推广应用。(本文来源于《表面技术》期刊2016年04期）
郑少梅,郝国祥[4]（2015）在《活性屏阴极溅射在离子渗氮工艺中的作用机理》一文中研究指出通过采用活性屏等离子渗氮新工艺对工件表面进行渗氮处理,并对处理后工件的渗氮层厚度、表面硬度和渗氮层的组织进行分析和测试,从而探讨活性屏在活性屏等离子渗氮工艺中的作用机理。实验结果表明:当采用大尺寸活性屏渗氮时,随着离活性屏距离的增加,工件表面的渗氮层越薄,工件的表面硬度也越低,渗氮效果变差。分析认为这是因为从活性屏上溅射出大量的可以作为渗氮载体的纳米粒子受到平均自由程的限制,不能够到达离活性屏较远的工件表面,也就无法将活性氮原子输运到工件的表面,从而导致渗氮效果变差。因此,在采用大尺寸活性屏进行渗氮时,活性屏阴极溅射作用减弱,此时活性屏主要起到均匀加热工件的作用。(本文来源于《第十一次全国热处理大会论文集》期刊2015-07-18）
郭俊文,田林海,林乃明,唐宾[5]（2014）在《活性屏与工件的距离对40Cr钢活性屏离子渗氮行为的影响》一文中研究指出为提高40Cr钢的抗磨及耐蚀性能,用304不锈钢冲孔板制成的活性屏对40Cr钢进行离子渗氮(ASPN)处理,研究了活性屏与工件的距离对渗层组织结构和性能的影响,并与普通直流离子渗氮(DCPN)进行了比较。用光学显微镜(OM)、X射线衍射仪(XRD)、辉光放电光谱仪(GDOES)、显微硬度计、往复摩擦磨损试验机和电化学工作站对渗层组织、相成分、硬度、耐磨及耐腐蚀性能进行分析。结果表明:经不锈钢活性屏离子渗氮处理后,试样表面得到了致密均匀的渗氮层,渗层主要由ε-Fe2-3N、γ′-Fe4N和CrN相组成,且随着试样与活性屏距离从10mm、20mm增加到30mm,对应的渗层厚度从6μm、4.7μm减小到3.5μm。经氮化处理后,40Cr钢的耐磨性和耐腐蚀性都有显着的提高,ASPN处理后试样的耐腐蚀性较DCPN有明显的提高。(本文来源于《中国表面工程》期刊2014年03期）
赵程,刘肃人[6]（2013）在《活性屏离子渗氮技术基础及应用研究现状》一文中研究指出活性屏离子渗氮(ASPN)技术解决了传统离子渗氮(DCPN)技术一直存在工件打弧、电场效应、空心阴极效应、工件温度测量困难、大小工件不能混装、对操作人员技术水平要求高等技术难题,具有较高的推广应用价值。本文简要论述了近几年国内外对ASPN技术的基础研究与工业化研究的现状,并介绍了我国ASPN技术研发的成果。(本文来源于《金属加工(热加工)》期刊2013年S1期）
罗铸,崔怀玲,李敏[7]（2012）在《钛合金精密零件的活性屏离子渗氮》一文中研究指出采用活性屏离子渗氮技术对钛合金进行渗氮处理,并将渗氮层的组织、形貌、维氏硬度和零件的变形情况与普通离子氮化的试件作对比。结果表明,活性屏离子氮化的组织和性能优于普通离子氮化,工件变形小、表面光洁度高、操作简单、过程可控、质量一致性好,可以解决钛合金精密零件普通离子氮化存在的问题。(本文来源于《航天制造技术》期刊2012年05期）
蓝跃龙,王宇,郑少梅,赵程[8]（2012）在《活性屏离子渗氮技术中偏压电源伏安特性》一文中研究指出研究了活性屏离子渗氮技术中,气体成分、主电压、温度、压强以及笼子尺寸对偏压伏安特性曲线的影响,并用气体放电理论对曲线做出了解释。实验结果表明,在H2或N2/H2气氛中,偏压的伏安特性曲线呈线性增长;而在纯N2气氛中,偏压的伏安特性曲线则呈非线性,并在250 V时出现拐点。研究还发现,在偏压一定的情况下,偏流会随着主电压和气压的升高而增大,随着温度的升高而减小,而笼子尺寸对偏压的伏安特性曲线的影响比较小。(本文来源于《材料热处理学报》期刊2012年02期）
郑少梅,赵程[9]（2011）在《偏压对活性屏离子渗氮工艺的影响》一文中研究指出通过对40C钢进行活性屏离子渗氮处理,研究了在活性屏离子渗氮工艺过程中工件所加的偏压对渗氮层的影响。试验结果表明,在不加偏压或偏压较低的情况下,对距离活性屏较近的工件,其表面有一定厚度的渗氮层形成,硬度提高;而距离活性屏较远的工件,其表面几乎没有渗氮层的形成,但当增大偏压至400~450 V时,工件表面产生弱的辉光放电,距离活性屏较远的工件表面也有渗氮层形成。通过控制偏压值,可以使工件表面形成厚度均匀的渗氮层,提高工件硬度;同时也可以避免直流离子渗氮过程中产生的打弧、边缘效应等问题。(本文来源于《真空科学与技术学报》期刊2011年06期）
李孔军,刘锦云,金应荣,赵广彬[10]（2010）在《纯氮气氛下铜制活性屏离子渗氮试验》一文中研究指出铁-氮化合物微粒被认为是活性屏离子渗氮过程中活性氮原子的主要输运载体,试验采用既不吸附氮也不与氮反应生成化合物的铜制活性屏和纯氮气氛,在没有铁-氮化合物微粒的情况下,对45钢试样进行渗氮处理。结果表明,在此条件下,45钢存在渗氮层,渗氮过程除依托铁-氮化合物输运外,活性氮原子还有其它重要的不可忽视的输运方式。(本文来源于《金属热处理》期刊2010年09期）
活性屏离子渗氮论文开题报告
（1）论文研究背景及目的
此处内容要求：
首先简单简介论文所研究问题的基本概念和背景，再而简单明了地指出论文所要研究解决的具体问题，并提出你的论文准备的观点或解决方法。
写法范例：
对2Cr13马氏体不锈钢分别进行常规直流离子渗氮和活性屏离子渗氮对比试验。渗氮温度均为440℃,渗氮时间为8 h。采用金相显微镜、扫描电镜、X射线衍射仪、表面粗糙度仪、显微硬度仪和电化学工作站等设备分析表征两种渗氮样品。实验结果表明:活性屏离子渗氮在避免了传统离子渗氮缺点的同时,取得了与其相同的硬化效果。可在马氏体不锈钢表面制备一定厚度的均匀致密的白亮层,其相结构是以ε-Fe_(2-3)N相为主,并伴随少量的αN相。马氏体不锈钢活性屏渗氮处理不仅可以提高表面硬度,而且获得了良好的耐蚀性能。
（2）本文研究方法
调查法：该方法是有目的、有系统的搜集有关研究对象的具体信息。
观察法：用自己的感官和辅助工具直接观察研究对象从而得到有关信息。
实验法：通过主支变革、控制研究对象来发现与确认事物间的因果关系。
文献研究法：通过调查文献来获得资料，从而全面的、正确的了解掌握研究方法。
实证研究法：依据现有的科学理论和实践的需要提出设计。
定性分析法：对研究对象进行“质”的方面的研究，这个方法需要计算的数据较少。
定量分析法：通过具体的数字，使人们对研究对象的认识进一步精确化。
跨学科研究法：运用多学科的理论、方法和成果从整体上对某一课题进行研究。
功能分析法：这是社会科学用来分析社会现象的一种方法，从某一功能出发研究多个方面的影响。
模拟法：通过创设一个与原型相似的模型来间接研究原型某种特性的一种形容方法。
活性屏离子渗氮论文参考文献
[1].陈全刚,牛君,陈永生,张庆纯,荣宝晶.活性屏离子渗氮技术基础及应用研究现状[J].内燃机与配件.2017
[2].李杨,何永勇,朱宜杰,邱剑勋,修俊杰.2Cr13马氏体不锈钢活性屏离子渗氮技术[J].金属热处理.2017
[3].缪跃琼,高玉新,郑少梅.304不锈钢双活性屏离子渗氮[J].表面技术.2016
[4].郑少梅,郝国祥.活性屏阴极溅射在离子渗氮工艺中的作用机理[C].第十一次全国热处理大会论文集.2015
[5].郭俊文,田林海,林乃明,唐宾.活性屏与工件的距离对40Cr钢活性屏离子渗氮行为的影响[J].中国表面工程.2014
[6].赵程,刘肃人.活性屏离子渗氮技术基础及应用研究现状[J].金属加工(热加工).2013
[7].罗铸,崔怀玲,李敏.钛合金精密零件的活性屏离子渗氮[J].航天制造技术.2012
[8].蓝跃龙,王宇,郑少梅,赵程.活性屏离子渗氮技术中偏压电源伏安特性[J].材料热处理学报.2012
[9].郑少梅,赵程.偏压对活性屏离子渗氮工艺的影响[J].真空科学与技术学报.2011
[10].李孔军,刘锦云,金应荣,赵广彬.纯氮气氛下铜制活性屏离子渗氮试验[J].金属热处理.2010