本文主要研究内容
作者新型（2019）在《新型液晶微光学器件—分子取向的设计和先进光刻技术》一文中研究指出：近日,肯特州立大学液晶研究所的韦齐和教授所率领的研究组,成功地将液晶光学器件用于高斯激光光束的整形。在该文中,根据广义Snell定律与Pancharatnam-Berry(PB)相,他们通过设计局域的液晶分子排布便可以直接作用于入射光束的局域相位,进而修改透射光束的形状和光强分布。该课题组开创了独特的等离子激元的超掩模板技术来用于液晶分子的光配向。该掩模类似于传统的光刻掩模,但其透射光不仅有光强分布,更有光的偏振分布。利用光配向
Abstract
jin ri ,ken te zhou li da xue ye jing yan jiu suo de wei ji he jiao shou suo lv ling de yan jiu zu ,cheng gong de jiang ye jing guang xue qi jian yong yu gao si ji guang guang shu de zheng xing 。zai gai wen zhong ,gen ju an yi Snellding lv yu Pancharatnam-Berry(PB)xiang ,ta men tong guo she ji ju yu de ye jing fen zi pai bu bian ke yi zhi jie zuo yong yu ru she guang shu de ju yu xiang wei ,jin er xiu gai tou she guang shu de xing zhuang he guang jiang fen bu 。gai ke ti zu kai chuang le du te de deng li zi ji yuan de chao yan mo ban ji shu lai yong yu ye jing fen zi de guang pei xiang 。gai yan mo lei shi yu chuan tong de guang ke yan mo ,dan ji tou she guang bu jin you guang jiang fen bu ,geng you guang de pian zhen fen bu 。li yong guang pei xiang
论文参考文献
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