导读:本文包含了半导体废水论文开题报告文献综述及选题提纲参考文献，主要关键词:半导体废水,晶背研磨废水,超滤,反渗透
半导体废水论文文献综述
王春冬,李正华,应晓芳[1]（2019）在《UF-RO工艺回用处理半导体废水》一文中研究指出半导体制造过程中产生的晶背研磨废水具有有机物浓度低,悬浮物含量高的特点,针对某半导体厂的晶背研磨废水和反洗废水,设计采用UF-RO工艺处理。工程应用表明:在晶背研磨废水TOC质量浓度为0.5～5.0 mg/L,浊度为80～100 NTU, SiO2质量浓度为2～4 mg/L,反洗废水TOC质量浓度为1.5～3.0 mg/L,浊度为4～8NTU时,处理出水TOC质量浓度低于1 mg/L,浊度低于0.1 mg/L, SiO2质量浓度低于1 mg/L,完全可以回用至超纯水预处理系统。(本文来源于《工业用水与废水》期刊2019年05期）
赵天楚,魏延雨,刘经纬,祝旭宏[2]（2019）在《有机半导体材料光催化降解含油废水》一文中研究指出以有机半导体材料2,8-二(4′-二苯氨基)苯基-4,6-二苯基-1,9-蒽唑啉为光催化剂,对光催化降解汽油废水、柴油废水、焦化废水、芳烃废水4种不同性质的石油烃类废水进行了研究,发现其对4种不同的石油烃类废水具有很好的光催化降解效果,2 h除油率达到40%～55%,10 h除油率达到95%以上,COD_(Cr)(重铬酸盐指数)去除率达到61.35%以上,且汽油废水和柴油废水相对容易降解。不同pH值下的实验结果表明pH值在1.21～3.21光催化降解效果较好。对油质量浓度从10.2 mg/L到1 603.8 mg/L的柴油废水,10 h COD_(Cr)去除率均可达到70%～90%,若废水中的油含量过高,则需要稀释方可光催化降解。催化剂可以循环使用4次,除油率仍达到95%以上,COD_(Cr)去除率均达到90%以上。(本文来源于《炼油技术与工程》期刊2019年10期）
尹晓峰,刘金玲,韩志强,李勇华[3]（2019）在《300 mm芯片半导体厂废水处理工程实例》一文中研究指出近年随着科技的不断进步和人民需求的日益增长,我国半导体生产行业得到了较快的发展,但是随之而来是大量的半导体废水排放问题。文章以某300 mm芯片半导体生产厂废水处理工程为实例,重点介绍了半导体芯片厂排放废水的种类和废水处理工艺,并在此基础上提出了改进建议。(本文来源于《《环境工程》2019年全国学术年会论文集（下册）》期刊2019-08-30）
杨晓春,王华丽,周丽兵[4]（2019）在《半导体行业含氟废水处理探讨》一文中研究指出目前,上海市执行的《半导体行业污染物排放标准》(DB31/445-2006)中氟化物排放限值为20mg/L,虽然即将实施的《电子工业污染物排放标准》二次征求意见稿中氟化物间接排放限值没有变化,但北京市现行的《水污染物综合排放标准》(DB11/307-2013)表3中规定,排入公共污水处理系统的氟化物限值仅为10mg/L。对于整个半导体行业来说,氟化物的排放限值要求有日益严格的趋势。出于对排放标准的前瞻性考虑,为应对日益严格的污染物排放要求,某半导体公司对既有的含氟废水混凝-沉淀处理工艺做出了一系列改进,包括改变CaCl_2投加量、改变水力停留时间、电絮凝、投加除氟剂等,形成半导体行业含氟废水处理最佳可行技术。这对指导上海乃至全国半导体行业含氟废水的达标排放具有重要意义。(本文来源于《环境与发展》期刊2019年06期）
宋智云,王敏,黄攀峰[5]（2019）在《MBR膜处理半导体行业废水的工程实践》一文中研究指出采用MBR回收半导体厂排放的DWWA、DOWW,运行结果表明,MBR产水TOC小于4mg/L,浊度小于0.1mg/L,满足回收要求。每日产水量约1800m~3。整套系统运行成本较低,约3.8 RMB/m~3,接近自来水价格。在两年的运行过程中,MBR膜清洗频率较低,约每月一次NaClO清洗,每两年进行一次柠檬酸清洗。(本文来源于《科学技术创新》期刊2019年08期）
高峰伟[6]（2019）在《半导体材料钨酸盐催化超声降解有机染料废水》一文中研究指出据报道,半导体材料钨酸盐(Ag_8W_4O_(16),BaWO_4)可作为光催化剂处理有机染料废水。本文根据超声作用机理与光催化机理的联系以及已有研究者对Bi_2WO_6、ZnWO_4、CoWO_4等钨酸盐催化超声降解有机污染物的研究结果,推测Ag_8W_4O_(16),BaWO_4和Br~--BaWO_4可能亦具有良好的催化超声降解有机污染物性能。本文通过水热合成法制备了半导体材料钨酸盐(Ag_8W_4O_(16),BaWO_4,Br~--BaWO_4)催化剂,并将其分别用于催化超声降解有机染料甲基橙(Methyl Orange,MO)、日落黄(Sunset Yellow,SY)和罗丹明B(Rhodamine B,Rh B)。通过紫外-可见(UV-vis)分光光度计检测其最大吸收峰处的吸光度变化来判定催化剂(Ag_8W_4O_(16),BaWO_4,Br~--BaWO_4)的催化超声活性。并考察了实验参数(Br离子的掺杂量,水热合成过程溶液的pH,煅烧温度,催化剂的加入量,溶液pH,溶液的初始浓度、超声功率和超声时间等因素)对降解率的影响。另外,测量了Ag_8W_4O_(16)催化剂和有机染料MO的Zeta电位。通过活性氧(Reactive Oxygen Species,ROS)清除剂探讨了催化剂(Ag_8W_4O_(16),BaWO_4,Br~--BaWO_4)催化超声降解MO、SY和Rh B的反应机理,并研究了催化剂的可重复利用性能。主要研究结果如下:(1)水热合成法制备的Ag_8W_4O_(16),BaWO_4和Br~--BaWO_4,通过X-射线衍射(XRD)、扫描电镜(SEM)、场发射扫描电子显微镜(FESEM)和能谱仪(EDS)进行结构和形貌表征、元素分析,结果表明:水热合成法制备的Ag_8W_4O_(16),BaWO_4和Br~--BaWO_4颗粒分布均匀,结晶度较高,使用能谱仪(EDS)对Br~--BaWO_4催化剂进行了元素种类分析,结果表明成功制备了Br离子掺杂的BaWO_4。(2)经研究发现,上述实验参数对MO、SY和Rh B的催化超声降解率有重要的影响,所制备的催化剂均表现出优良的超声催化降解性能及良好的重复使用性。(3)ROS清除剂研究结果表明,Ag_8W_4O_(16),BaWO_4和Br~--BaWO_4催化超声降解MO、SY和Rh B的机理归因于ROS清除剂的产生,其中主要是单线态氧(~1O_2)和羟基自由基(·OH)对降解起作用。(4)Ag_8W_4O_(16),BaWO_4和Br~--BaWO_4催化超声降解反应符合拟一级动力学。(5)通过BaWO_4催化超声不同染料(刚果红、Rh B和金橙II)的研究,表明BaWO_4对不同结构和性质染料都具有一定的声催化活性。研究结果表明钨酸盐(Ag_8W_4O_(16),BaWO_4和Br~--BaWO_4)在处理有机染料废水方面具有良好的应用前景,同时也为大规模超声处理有机染料废水提供了理论基础和实验依据。(本文来源于《沈阳化工大学》期刊2019-03-12）
张云秀,陈鸣,厉晓华[7]（2018）在《半导体先进制程对废水处理的挑战和对策》一文中研究指出2017年以来,国内半导体制造进入28纳米制程量产阶段。很多半导体代工厂因此引入Single Wafer机台,该类型机台所使用化学品量与制程有较大的改变。同时,大陆普遍更重视环保,排放法规有变紧的趋势,这对废水处理部门造成挑战。本文系统介绍了半导体厂先进制程的废水处理新情况,以及相应的对策,供行业内推广和借鉴。(本文来源于《资源节约与环保》期刊2018年11期）
刘东旭,陈常东,王芳芳,李淳,康明亮[8]（2018）在《铋钨基半导体光催化剂表面晶相的定向调控及光催化降解含酚废水的研究》一文中研究指出以石油为原料,以裂解、精炼、分馏、重整和合成等工艺为主的一系列生产过程产生的石化工业废水,具有污染物组分复杂(含油、氨氮、环状难降解有机物等物质)、毒性大(含酚、氰、胺类)等特点,是重要的工业污染源之一,因此石化工业废水的处理技术成为研究的热点[1]。光催化技术氧化能力强,操作条件比较容易控制,不造成二次污染,受到了广泛关注[2-3]。但是光催化技术的实际应用往往受限于光催化性能。本研究以铋、钨基半导体(本文来源于《第十一届全国环境催化与环境材料学术会议论文集》期刊2018-07-20）
朱加豆,江宇,洪耀良,黄评[9]（2018）在《叁星半导体公司闪存芯片生产废水处理工程》一文中研究指出根据叁星半导体有限公司闪存芯片项目生产废水的水质水量特点,采用"分质预处理-混凝-水解酸化-IC厌氧反应器-A/O-MBR-芬顿氧化-混凝"新型组合工艺进行处理,详细介绍了分质预处理和深度处理阶段的工艺设计、工艺流程和主要构筑物的设计参数。运行结果表明,该组合工艺处理效果稳定,最终出水水质均远优于设计排放标准。(本文来源于《中国给水排水》期刊2018年10期）
田一骅[10]（2017）在《新型半导体光电催化技术在废水处理中的应用研究》一文中研究指出随着工业的迅猛发展,电化学氧化和光催化处理染料废水逐步成为水处理领域的研究热点,传统方法在处理有机废水方面往往需要面临能耗大、降解不完全,甚至会造成二次污染等问题。光电催化作为一种新型的水处理方法,通过在水处理过程中施加一个外加电场,从而使光生电子(e-)-空穴(h+)分离,延长载流子寿命,实现电催化和光催化的协同作用,进而明显提高了光催化效率。而高性能膜电极是光电催化技术实际应用的关键。基于此,本文重点开展制备具有良好催化效果的光电膜电极,并采用XRD、SEM、DRS、LSV、XPS、CV,EIS等方法对其理化性质进行表征,主要研究内容如下:(1)叁维多孔二氧化钛薄膜(3D-TiO2-TFE)的制备和最佳条件的探索:以钛片为基底,通过改变水热温度、水热时间、回火温度条件得到制备膜电极的最佳条件。研究结果表明,二氧化钛薄膜电极具有叁维结构,可以使光在材料中进行多次折射、散射,增加膜电极的光利用率。通过光照对活性艳蓝进行活性测试,得出膜电极具有非常好的光催化活性,对染料的降解率达88%。(2)黑色二氧化钛(B-TiO2)掺杂PbO2电极的制备及光电催化性能的研究:选取P25为原料,使用NaBH4为还原剂,在高温环境下制备B-TiO2。采用电沉积法,并通过更改电镀液中B-TiO2的比例来寻找制备膜电极的最佳条件。从线性伏安图中可以看出,利用B-TiO2本身具有高析氧过电位的特点,膜电极的析氧过电位明显提高,从而抑制副反应的发生,提高膜电极的电化学性能。降解30mg/L的活性艳蓝染料,降解率可达80%。(3)导电炭黑修饰PbO2电极制备及光电催化性能的研究:选取HNO3酸化后的导电炭黑、硝酸铅、NaF为原料配制电镀液,采用电沉积法制备膜电极,考察了不同酸化后导电炭黑的投加量对膜电极的影响。研究结果显示,电极表面的晶粒尺寸有所减小,电化学活性面积有明显提升,表面活性位点增加,提高了电极的电化学性能。降解30mg/L的活性艳蓝染料,降解率可达92%。多次循环后电极仍有明显活性,表明电极稳定性良好。(4)Ti_4O_7掺杂PbO2电极制备及光催化性能的研究:同前述方法制备刻蚀钛片。以一定比例的硝酸铅、NaF、Ti_4O_7配置电镀液,采用电沉积法制备改性的Pb02电极。在Ti_4O_7的投加量为1g./L时,电极表面晶粒出现明显的细化,比表面积大大提升,从而增加了膜电极表面的活性位点。在紫外光照射下对30mg/L的活性艳蓝染料的降解率可达80%。(本文来源于《大连工业大学》期刊2017-05-01）
半导体废水论文开题报告
（1）论文研究背景及目的
此处内容要求：
首先简单简介论文所研究问题的基本概念和背景，再而简单明了地指出论文所要研究解决的具体问题，并提出你的论文准备的观点或解决方法。
写法范例：
以有机半导体材料2,8-二(4′-二苯氨基)苯基-4,6-二苯基-1,9-蒽唑啉为光催化剂,对光催化降解汽油废水、柴油废水、焦化废水、芳烃废水4种不同性质的石油烃类废水进行了研究,发现其对4种不同的石油烃类废水具有很好的光催化降解效果,2 h除油率达到40%～55%,10 h除油率达到95%以上,COD_(Cr)(重铬酸盐指数)去除率达到61.35%以上,且汽油废水和柴油废水相对容易降解。不同pH值下的实验结果表明pH值在1.21～3.21光催化降解效果较好。对油质量浓度从10.2 mg/L到1 603.8 mg/L的柴油废水,10 h COD_(Cr)去除率均可达到70%～90%,若废水中的油含量过高,则需要稀释方可光催化降解。催化剂可以循环使用4次,除油率仍达到95%以上,COD_(Cr)去除率均达到90%以上。
（2）本文研究方法
调查法：该方法是有目的、有系统的搜集有关研究对象的具体信息。
观察法：用自己的感官和辅助工具直接观察研究对象从而得到有关信息。
实验法：通过主支变革、控制研究对象来发现与确认事物间的因果关系。
文献研究法：通过调查文献来获得资料，从而全面的、正确的了解掌握研究方法。
实证研究法：依据现有的科学理论和实践的需要提出设计。
定性分析法：对研究对象进行“质”的方面的研究，这个方法需要计算的数据较少。
定量分析法：通过具体的数字，使人们对研究对象的认识进一步精确化。
跨学科研究法：运用多学科的理论、方法和成果从整体上对某一课题进行研究。
功能分析法：这是社会科学用来分析社会现象的一种方法，从某一功能出发研究多个方面的影响。
模拟法：通过创设一个与原型相似的模型来间接研究原型某种特性的一种形容方法。
半导体废水论文参考文献
[1].王春冬,李正华,应晓芳.UF-RO工艺回用处理半导体废水[J].工业用水与废水.2019
[2].赵天楚,魏延雨,刘经纬,祝旭宏.有机半导体材料光催化降解含油废水[J].炼油技术与工程.2019
[3].尹晓峰,刘金玲,韩志强,李勇华.300mm芯片半导体厂废水处理工程实例[C].《环境工程》2019年全国学术年会论文集（下册）.2019
[4].杨晓春,王华丽,周丽兵.半导体行业含氟废水处理探讨[J].环境与发展.2019
[5].宋智云,王敏,黄攀峰.MBR膜处理半导体行业废水的工程实践[J].科学技术创新.2019
[6].高峰伟.半导体材料钨酸盐催化超声降解有机染料废水[D].沈阳化工大学.2019
[7].张云秀,陈鸣,厉晓华.半导体先进制程对废水处理的挑战和对策[J].资源节约与环保.2018
[8].刘东旭,陈常东,王芳芳,李淳,康明亮.铋钨基半导体光催化剂表面晶相的定向调控及光催化降解含酚废水的研究[C].第十一届全国环境催化与环境材料学术会议论文集.2018
[9].朱加豆,江宇,洪耀良,黄评.叁星半导体公司闪存芯片生产废水处理工程[J].中国给水排水.2018
[10].田一骅.新型半导体光电催化技术在废水处理中的应用研究[D].大连工业大学.2017