本文主要研究内容
作者张磊,吴勇,顿易章,夏思瑶（2019）在《采用CVD法制备空心叶片内腔铝化物涂层》一文中研究指出：采用自主研制的化学气相沉积(Chemical vapor deposition,CVD)内腔铝化物涂层设备及工艺在空心叶片内腔微小冷却通道制备了铝化物涂层。借助金相显微镜(OM)、扫描电镜(SEM)、能谱仪(EDS)、X射线衍射(XRD)等方法分析了空心叶片内腔及微小冷却通道不同部位的涂层厚度以及涂层的表面形貌、元素成分和相组成。结果表明:自主研制的CVD内腔渗铝设备及工艺可靠,涂层厚度达33～39μm,内腔涂层完整均匀,不存在漏渗;涂层主要分为内外两层,外层主要由β-Ni Al相组成,Al含量为26. 85wt%,对基体可以进行有效地防护,具有广阔的工程化应用前景。
Abstract
cai yong zi zhu yan zhi de hua xue qi xiang chen ji (Chemical vapor deposition,CVD)nei qiang lv hua wu tu ceng she bei ji gong yi zai kong xin xie pian nei qiang wei xiao leng que tong dao zhi bei le lv hua wu tu ceng 。jie zhu jin xiang xian wei jing (OM)、sao miao dian jing (SEM)、neng pu yi (EDS)、Xshe xian yan she (XRD)deng fang fa fen xi le kong xin xie pian nei qiang ji wei xiao leng que tong dao bu tong bu wei de tu ceng hou du yi ji tu ceng de biao mian xing mao 、yuan su cheng fen he xiang zu cheng 。jie guo biao ming :zi zhu yan zhi de CVDnei qiang shen lv she bei ji gong yi ke kao ,tu ceng hou du da 33～39μm,nei qiang tu ceng wan zheng jun yun ,bu cun zai lou shen ;tu ceng zhu yao fen wei nei wai liang ceng ,wai ceng zhu yao you β-Ni Alxiang zu cheng ,Alhan liang wei 26. 85wt%,dui ji ti ke yi jin hang you xiao de fang hu ,ju you an kuo de gong cheng hua ying yong qian jing 。
论文参考文献
论文详细介绍
论文作者分别是来自金属热处理的张磊,吴勇,顿易章,夏思瑶，发表于刊物金属热处理2019年05期论文，是一篇关于化学气相沉积论文,空心叶片内腔论文,铝化物涂层论文,金属热处理2019年05期论文的文章。本文可供学术参考使用，各位学者可以免费参考阅读下载，文章观点不代表本站观点，资料来自金属热处理2019年05期论文网站，若本站收录的文献无意侵犯了您的著作版权，请联系我们删除。
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