本文主要研究内容
作者刘笑,姚鹏,薛栋林,邓伟杰（2019）在《内循环式非牛顿流体抛光单晶硅的仿真与试验研究》一文中研究指出：为了提高磨料流抛光的效率与应用范围,提出内循环式非牛顿流体抛光方法对传统磨料流加工方式和使用的磨料进行改进。利用计算流体动力学软件对抛光区域的仿真,研究了流道中抛光流体的速度与压力的分布规律和流道槽深与入口速度对于壁面剪切应力的影响。通过单因素试验,研究了磨粒的粒径、质量分数和流道槽深对工件材料去除率和表面粗糙度的影响,并将入口处压力的试验结果与仿真结果对比。结果表明:抛光盘入口处压力仿真结果与试验结果相对误差不超过6%,验证了仿真的可靠性;材料去除率最高可达0.193μm/min,表面粗糙度由280nm降至37nm,证明了内循环式非牛顿流体抛光技术的可行性。
Abstract
wei le di gao mo liao liu pao guang de xiao lv yu ying yong fan wei ,di chu nei xun huan shi fei niu du liu ti pao guang fang fa dui chuan tong mo liao liu jia gong fang shi he shi yong de mo liao jin hang gai jin 。li yong ji suan liu ti dong li xue ruan jian dui pao guang ou yu de fang zhen ,yan jiu le liu dao zhong pao guang liu ti de su du yu ya li de fen bu gui lv he liu dao cao shen yu ru kou su du dui yu bi mian jian qie ying li de ying xiang 。tong guo chan yin su shi yan ,yan jiu le mo li de li jing 、zhi liang fen shu he liu dao cao shen dui gong jian cai liao qu chu lv he biao mian cu cao du de ying xiang ,bing jiang ru kou chu ya li de shi yan jie guo yu fang zhen jie guo dui bi 。jie guo biao ming :pao guang pan ru kou chu ya li fang zhen jie guo yu shi yan jie guo xiang dui wu cha bu chao guo 6%,yan zheng le fang zhen de ke kao xing ;cai liao qu chu lv zui gao ke da 0.193μm/min,biao mian cu cao du you 280nmjiang zhi 37nm,zheng ming le nei xun huan shi fei niu du liu ti pao guang ji shu de ke hang xing 。
论文参考文献
论文详细介绍
论文作者分别是来自工具技术的刘笑,姚鹏,薛栋林,邓伟杰，发表于刊物工具技术2019年06期论文，是一篇关于非牛顿流体论文,计算流体动力学论文,材料去除率论文,粗糙度论文,工具技术2019年06期论文的文章。本文可供学术参考使用，各位学者可以免费参考阅读下载，文章观点不代表本站观点，资料来自工具技术2019年06期论文网站，若本站收录的文献无意侵犯了您的著作版权，请联系我们删除。
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