导读:本文包含了光学临近效应论文开题报告文献综述及选题提纲参考文献，主要关键词:集成电路制造技术,光学临近效应修正,掩模版,离子注入层
光学临近效应论文文献综述
张辰明[1]（2017）在《55纳米工艺节点中离子注入层的光学临近效应修正》一文中研究指出集成电路制造技术中,传统的光学临近效应修正都是基于平坦化衬底的。针对离子注入层的包括有源区、浅槽隔离区和栅极的复杂结构,一直是以近似平坦化的办法来修正光学临近效应的。这样做会导致离子注入层图形尺寸同原始设计产生偏差甚至产生光刻工艺缺陷。本文阐述了一套针对离子注入层的混合式光学临近效应修正方法。通过模型式的修正办法来补偿常规的光学临近效应变化,而利用规则式的修正办法来补偿衬底变化造成的误差。首先根据集成电路的设计规则和电路特性,设计一组测试图形。这组测试图形包括覆盖最小设计规则的离子注入层图形,以及根据设计规则以及电路特性分布在其周围的有源区和栅极结构。分别将这叁层图形出版在有源区、栅极、离子注入层掩模版上。利用有源区掩模版构造出有源区和浅槽隔离区衬底,利用栅极掩模版构造出栅极衬底。在这两种衬底上,通过电子显微镜测量离子注入层图形受到衬底变化的影响。分析这部分数据后,将这种影响转化成补偿表。在正常的离子注入层光学临近效应修正前,加入一步规则式的目标层调整步骤,使补偿表在目标层上得以实施,构建出一层新的目标层。最后在此新的目标层上进行模型式光学临近效应修正。通过在N型源漏层上测试该流程,可以将衬底造成的离子注入层图形误差控制在+/-10%以内。结果表明基于固定的浅槽隔离、栅极工艺,这一方法可以预测并成功补偿衬底造成的离子注入层图形偏差。(本文来源于《上海交通大学》期刊2017-05-01）
朱亮,闻人青青,阎江,顾以理,杨华岳[2]（2008）在《基于多光刻胶有效扩散长度的光学临近效应修正模型校准方法(英文)》一文中研究指出提出了基于多光刻胶有效扩散长度的光学临近效应修正模型校准方法,其考虑了一维和二维图形之间光刻胶有效扩散长度的不同.该方法的一个重要步骤在于建立起全新的校准流程,使得一维图形和二维图形具有相同的光学参数和不同的光刻胶有效扩散长度.另外,在该模型校准流程中提出了一种基于可制造性设计理念的交互.从校准结果的关键尺寸误差及仿真轮廓和扫描电子显微镜图像的对比来看,基于多光刻胶有效扩散长度的光学临近效应修正模型校准方法的输出模型更加精确和稳定.(本文来源于《半导体学报》期刊2008年12期）
光学临近效应论文开题报告
（1）论文研究背景及目的
此处内容要求：
首先简单简介论文所研究问题的基本概念和背景，再而简单明了地指出论文所要研究解决的具体问题，并提出你的论文准备的观点或解决方法。
写法范例：
提出了基于多光刻胶有效扩散长度的光学临近效应修正模型校准方法,其考虑了一维和二维图形之间光刻胶有效扩散长度的不同.该方法的一个重要步骤在于建立起全新的校准流程,使得一维图形和二维图形具有相同的光学参数和不同的光刻胶有效扩散长度.另外,在该模型校准流程中提出了一种基于可制造性设计理念的交互.从校准结果的关键尺寸误差及仿真轮廓和扫描电子显微镜图像的对比来看,基于多光刻胶有效扩散长度的光学临近效应修正模型校准方法的输出模型更加精确和稳定.
（2）本文研究方法
调查法：该方法是有目的、有系统的搜集有关研究对象的具体信息。
观察法：用自己的感官和辅助工具直接观察研究对象从而得到有关信息。
实验法：通过主支变革、控制研究对象来发现与确认事物间的因果关系。
文献研究法：通过调查文献来获得资料，从而全面的、正确的了解掌握研究方法。
实证研究法：依据现有的科学理论和实践的需要提出设计。
定性分析法：对研究对象进行“质”的方面的研究，这个方法需要计算的数据较少。
定量分析法：通过具体的数字，使人们对研究对象的认识进一步精确化。
跨学科研究法：运用多学科的理论、方法和成果从整体上对某一课题进行研究。
功能分析法：这是社会科学用来分析社会现象的一种方法，从某一功能出发研究多个方面的影响。
模拟法：通过创设一个与原型相似的模型来间接研究原型某种特性的一种形容方法。
光学临近效应论文参考文献
[1].张辰明.55纳米工艺节点中离子注入层的光学临近效应修正[D].上海交通大学.2017
[2].朱亮,闻人青青,阎江,顾以理,杨华岳.基于多光刻胶有效扩散长度的光学临近效应修正模型校准方法(英文)[J].半导体学报.2008