导读:本文包含了基片负偏压论文开题报告文献综述及选题提纲参考文献，主要关键词:磁控溅射,纳米膜层,择优取向,基片负偏压
基片负偏压论文文献综述
王会强,邢艳秋,孙维连,董婷婷,孙铂[1]（2014）在《磁控溅射基片负偏压对Ti/TiN复合纳米薄膜择优取向的影响》一文中研究指出采用中频反应磁控溅射技术,以高纯Ti(99.99%)为靶材,以高纯氮气(99.99%)为反应气体,在铝合金基片上沉积Ti/TiN复合纳米膜层。通过XRD、SEM、EDS等分析Ti/TiN复合纳米膜层微观组织和物相结构,研究基片负偏压对Ti/TiN复合纳米薄膜择优取向生长的影响。研究表明,将片加上-150 V负偏压时,Ti/TiN薄膜优先沿(111)面生长;将基片加上-200 V负偏压时,Ti/TiN薄膜优先沿(220)面生长;将基片加上-350 V负偏压时,Ti/TiN薄膜优先沿(200)面生长。继续增大基片负偏压时,由于薄膜中Ar离子浓度大幅增长,高能离子长时间轰击破坏晶粒取向性,使薄膜呈无择优取向。(本文来源于《材料热处理学报》期刊2014年04期）
王飞,徐可为[2]（2004）在《基片负偏压对Cu膜纳米压入硬度及微观结构的影响》一文中研究指出测试了不同溅射偏压下Cu膜的纳米压入硬度,探讨了溅射偏压、残余应力及压痕尺寸效应对Cu膜硬度的影响。结果表明,随着溅射偏压的增大,薄膜晶粒尺寸及残余压应力均减小,导致薄膜的硬度增大,并在80 V达到最大值,随后有所降低。同时薄膜中的压痕尺寸效应对薄膜硬度随压入深度的分布有很大的影响。(本文来源于《稀有金属材料与工程》期刊2004年05期）
王玉魁,李声,李秀兰,高路斯,韩会民[3]（1995）在《基片负偏压对PEMSIP法铁基体TiN涂层相组成的影响》一文中研究指出利用等离子体增强磁控溅射离子镀（ＰＥＭＳＩＰ）技术在铁基体上沉积ＴｉＮ涂层之前，先镀一层很薄的钛中间层，继之再沉积ＴｉＮ。研究了基片负偏压对涂层相组成的影响。结果表明，随着基片负偏压增加，膜层的相分朝着富氮相及其含量增加的方向发展，变化趋势为（α－Ｔｉ＋Ｔｉ_２Ｎ＋ＴｉＮ）→（Ｔｉ_２Ｎ＋ＴｉＮ）→ＴｉＮ。在基体与中间层界面处有ＦｅＴｉ相；在中间层与后继膜的交接处，发现α＝１与Ｔｉ_２Ｎ有取向关系。(本文来源于《材料科学与工程》期刊1995年04期）
王玉魁,张兴龙,韩会民,高路斯,王传恩[4]（1995）在《基片负偏压对PEMSIP法TiN涂层的影响》一文中研究指出应用Ｘ射线衍射分析研究了基片负偏压对ＰＥＭＳＩＰ法ＴｉＮ涂层相组成的影响；结果表明，随着基片负偏压增加，膜层相组成朝着富氮相及其含量增加的方向发展，进而影响膜层的硬度。通过微区化学成分分析（ＥＤＳ）研究了膜基界面附近的成分分布。结果表明，界面处有过渡层；偏压愈高，过渡层愈显着。(本文来源于《大连理工大学学报》期刊1995年03期）
王玉魁,韩会民,高路斯,王传思,刘云月[5]（1995）在《基片负偏压对PEMSIP法高速钢基体TiN涂层结合力的影响》一文中研究指出利用等离子体增强磁控溅射离子镀技术，在高速钢基体上沉积ＴｉＮ之前先镀一层很薄的钛膜做界面膜，继之再沉积ＴｉＮ。利用能谱分析研究界面附近的元素成布，通过刻痕试验测定膜与基体之间的结合力。结果表明，沉积钦界面膜时基片负偏压愈大，基体与界面膜之间的过渡区就愈明显，膜与基体结合性能愈好。(本文来源于《机械工程材料》期刊1995年02期）
基片负偏压论文开题报告
（1）论文研究背景及目的
此处内容要求：
首先简单简介论文所研究问题的基本概念和背景，再而简单明了地指出论文所要研究解决的具体问题，并提出你的论文准备的观点或解决方法。
写法范例：
测试了不同溅射偏压下Cu膜的纳米压入硬度,探讨了溅射偏压、残余应力及压痕尺寸效应对Cu膜硬度的影响。结果表明,随着溅射偏压的增大,薄膜晶粒尺寸及残余压应力均减小,导致薄膜的硬度增大,并在80 V达到最大值,随后有所降低。同时薄膜中的压痕尺寸效应对薄膜硬度随压入深度的分布有很大的影响。
（2）本文研究方法
调查法：该方法是有目的、有系统的搜集有关研究对象的具体信息。
观察法：用自己的感官和辅助工具直接观察研究对象从而得到有关信息。
实验法：通过主支变革、控制研究对象来发现与确认事物间的因果关系。
文献研究法：通过调查文献来获得资料，从而全面的、正确的了解掌握研究方法。
实证研究法：依据现有的科学理论和实践的需要提出设计。
定性分析法：对研究对象进行“质”的方面的研究，这个方法需要计算的数据较少。
定量分析法：通过具体的数字，使人们对研究对象的认识进一步精确化。
跨学科研究法：运用多学科的理论、方法和成果从整体上对某一课题进行研究。
功能分析法：这是社会科学用来分析社会现象的一种方法，从某一功能出发研究多个方面的影响。
模拟法：通过创设一个与原型相似的模型来间接研究原型某种特性的一种形容方法。
基片负偏压论文参考文献
[1].王会强,邢艳秋,孙维连,董婷婷,孙铂.磁控溅射基片负偏压对Ti/TiN复合纳米薄膜择优取向的影响[J].材料热处理学报.2014
[2].王飞,徐可为.基片负偏压对Cu膜纳米压入硬度及微观结构的影响[J].稀有金属材料与工程.2004
[3].王玉魁,李声,李秀兰,高路斯,韩会民.基片负偏压对PEMSIP法铁基体TiN涂层相组成的影响[J].材料科学与工程.1995
[4].王玉魁,张兴龙,韩会民,高路斯,王传恩.基片负偏压对PEMSIP法TiN涂层的影响[J].大连理工大学学报.1995
[5].王玉魁,韩会民,高路斯,王传思,刘云月.基片负偏压对PEMSIP法高速钢基体TiN涂层结合力的影响[J].机械工程材料.1995