一、我国光掩模发展的过去和现状（论文文献综述）
陈龙维[1]（2021）在《KLA3xx系列机台数据准备扩展系统的设计与实现》文中进行了进一步梳理阐述KLA 3xx系列机台可提供光掩模缺陷检测、量测和数据分析处理,能够协助光掩模制造商识别光掩模缺陷和图案位置错误,降低良率风险。由于该系列机台大多是在1990年代中期制造,受计算机操作系统处理能力和硬件空间限制,严重制约了它的产能利用。利用新型IBM服务器硬件性能和Synopsys公司CATS软件技术相结合的应用优势,设计一套独立于3xx系列机台的数据准备扩展系统,通过将处理后的数据导入3xx系列机台直接用于光掩模缺陷检测的方式,可实现对3xx系列机台产能的最大化利用。
王顺天[2]（2021）在《基于Himawari-8卫星火点反演及中国区域生物质燃烧环境效应探究》文中研究指明露天生物质燃烧是大气中气溶胶和痕量气体的重要来源,卫星遥感是探测生物质燃烧的重要手段。本文基于Himawari-8AHI地球同步卫星载荷光谱,构建了适用于中国区域的火点反演算法,并使用Himawari-8火灾监测数据结合MODIS火辐射功率数据估算了我国2016-2020年多种污染物的排放总量,从排放角度初步评估了我国生物质燃烧的环境效应。火点反演的前提是准确的云掩模信息,本研究基于图像增强方法对反射率进行了校正,基于云的光学特性构建了快速日间云检测算法。本研究通过TROPOMI有效云量反演结果、MODIS云掩模产品验证日间云检测算法的性能,本研究构建的日间云检测算法的命中率约为85%,满足火点反演需求。夜间云掩模信息使用已有火点算法中的处理步骤获取。在获取准确的云掩模信息后,本研究针对陆地晴空像元进行了一系列的时空测试提取火灾像元。在潜在火点提取步骤,本研究测试了适用于我国区域的中红外通道亮温的固定阈值;在背景火点提取步骤,适用于不同尺度、不同规模的火灾事件的背景测试条件被用来进一步筛选疑似火灾像元;在时间序列分析步骤,Prophet模型被首次应用到火点反演算法中,对于长期受云影响的像元,本研究构建了基于亮温时间序列的统计特征的额外测试。通过上述三个步骤,火点像元被最终提取出来。经测试,本研究构建的火点反演算法更适用于我国,以MODIS火点反演结果为基准,本研究在我国的火点反演结果的命中率比JAXA火点产品高出约10%。本研究将Himawari-8与MODIS火辐射功率产品相结合,构建了我国每日火辐射能量的空间分布,并基于火辐射能量进一步估算了我国2016-2020生物质燃烧排放的颗粒物和痕量气体的总质量。本研究从生物质燃烧排放角度评估了我国生物质燃烧的环境效应,我国在2016-2020年由于生物质燃烧向大气排放的年均总颗粒物质量约为225 Tg,CO约为13403.5 Gg,NMVOC约为2015.7 Gg,PM2.5 约为 1619.4 Gg,PM10 约为 2313.8 Gg,OC 约为 709.2 Gg,BC 约为95.1 Gg,CO2约为310016.1 Gg。东北地区的农作物秸秆燃烧是生物质燃烧排放污染物的最大贡献源。本研究计算的生物质燃烧排放与GFAS火灾排放清单产品趋势相似但差异显着,同步卫星观测火灾数据在我国生物质燃烧排放估算和环境效应探究等方面的应用仍需进一步探究。
师少龙[3]（2020）在《面向早期肿瘤检测应用的活体计算技术研究》文中进行了进一步梳理早期肿瘤病灶的检测对提升患者的存活率具有重要意义,但由于其实现难度较高而一直是生物医学领域的一个难题。现有的医学造影成像方法使用的纳米粒子作为造影剂主要依赖人体循环系统进行大面积输送,缺乏局部靶向传输所需的外力驱动和引导,易导致机体的毒副作用、低靶向性和低疗效等。而基于纳米机器人的肿瘤检测系统虽然可以提高效率,但其需要肿瘤的具体位置信息作为先验知识,而受目前医学成像技术的限制,早期肿瘤病灶的位置信息是难以获取的。因此,本文拟提出一种能够综合以上两种技术优势的全新的肿瘤检测系统,在不需要肿瘤位置信息作为先验知识的条件下利用纳米机器人实现直接靶向检测的目的。本课题旨在从计算的角度设计基于纳米机器人的可操控智能纳米系统。该系统可以利用早期肿瘤病灶诱发的活体组织环境的变化控制纳米机器人对高危组织进行有规律搜索,最终实现肿瘤病灶的检测。运用这种方法进行早期肿瘤检测时无需肿瘤病灶位置的先验知识,同时可以极大提高检测效率。论文的主要研究内容如下:分析了早期肿瘤病灶所诱发的生物组织环境的特异性变化进而提出了“生物梯度场”的概念,介绍了可用于肿瘤病灶检测的外部可控磁性纳米机器人系统,并对群体智能算法的计算机理进行了简要分析。基于此,在考虑纳米机器人在肿瘤检测过程中所受体内约束的情况下提出了“活体计算”的概念。纳米机器人作为计算智能体在外部理想控制情况下考虑了其在肿瘤检测过程中的速度的衰减情况,建立了早期肿瘤检测的数学优化模型,并运用侵入渗流技术设计肿瘤病灶的血管网络模型作为活体计算的主要约束条件。受群体智能算法理论的启发分别设计了用于单病灶和多病灶肿瘤检测的检测算法。研究了在目前磁场控制技术条件下的群体纳米机器人的控制问题,针对此约束条件提出了能有效实现肿瘤检测的活体计算策略（弱者优先进化策略）。在该策略的作用下纳米机器人群体可以在外部统一磁场的控制作用下沿着比较理想的路径向肿瘤病灶位置逼近,并最终到达目标位置完成肿瘤病灶的检测。运用仿真实验在多种有代表性的生物梯度场场景下证明了该计算策略的有效性。根据弱者优先进化策略计算出的纳米机器人在迭代计算过程中的运动方向,对纳米机器人在迭代计算过程中的步长问题进行了研究。在固定步长情况下设计了“张-弛（Tension-Relaxation,T-R）”策略用于平衡计算过程中纳米机器人的控制和追踪周期;在变化步长情况下设计了指数进化策略用于调整活体计算的“探索”和“开发”性能。仿真实验结果证明T-R法则和指数进化策略的设计对提高肿瘤检测效率具有至关重要的意义。基于对单病灶肿瘤检测的研究结果,结合多灶性肿瘤自身特点,提出了基于连续靶向策略的活体计算算法用于多病灶肿瘤的检测。分别在不同时刻在同一注射位置注射的纳米机器人群体可以在算法的作用下分别沿着不同的运动路径检测到各自的靶向肿瘤病灶,最终实现多病灶肿瘤检测。通过与传统的蛮力搜索算法比较可知活体计算算法在肿瘤检测方面的优越性,同时与传统的群体智能算法比较结果证明了其特殊性。根据所提出的活体计算理论,搭建了相应的体外实验平台用于实现活体计算的体外验证。利用光刻技术制备了二维微流道网络用以模拟高危组织的血管网络结构,制备了Janus微粒作为磁性微纳机器人实现在亥姆霍兹线圈系统作用下的运动控制。实验结果表明纳米机器人群体在活体计算算法的作用下可以分别实现相应肿瘤病灶的靶向检测。体外实验证明了本文所提出的活体计算对单病灶肿瘤和多病灶肿瘤检测的有效性,为其早日实现临床应用打下基础。
雷亚奎[4]（2019）在《基于硅纳米线的场效应微探针与超柔性径向结光电器件的制备及生物应用研究》文中认为快速的现代化进程加快了人类的生活节奏,并且工作、生活压力的增大也日益损害着人们的健康。而相关生物信号的检测对疾病的监控和预防有着重要的指导作用。其中电信号广泛存在于生物体内,并参与调节细胞的各种行为,为此,从细胞层面出发,深入研究细胞内电信号的变化规律对于理解其作用于细胞及器官行为方式有着重大科学意义。而传统的用于细胞电信号检测的探针则固定于衬底材料表面且为阵列方式排布,检测时依赖于细胞的被动贴附,使细胞无法精确定位从而阻碍了其亚阈值事件的精确测量,并抑制了细胞正常的迁移。基于硅纳米线结构的三维扭结式场效应晶体管（FET）生物探针的出现为实现主动、精确的单细胞探测开辟了新的模式。然而,制备该结构纳米线工艺复杂,且效率低下,无法实现批量生产。为此,本文利用课题组首创的IPSLS自组装纳米线生长技术,通过对纳米线的形貌进行编程,首次实现所需探针形貌纳米线的批量生产。通过调控生长参数,实现纳米线沿预设沟道的稳定生长。并结合光刻、溅射以及超临界干燥等技术,实现在1cm2范围内14个生物探针的规模生产,且成功实现了生物器件的转移和悬空。另一方面,生物体内可植入式电刺激器件通过向机体发出电刺激信号来激励器官或组织响应以恢复正常的生理活动,成为改善生活质量和延长患者生命周期不可或缺的医疗工具。然而,由于此类器件内部供电电池的使用寿命有限,手术更换电池无法避免,增加了痛苦和发病率,甚至有潜在的死亡风险。由于近红外光线能够穿透人体皮肤,研究认为利用光电器件将透过皮肤的光转换为电能即可实现植入式电刺激器件的无电池工作。且小尺寸、无导线、能贴附于体内组织或器官表面直接激励的光电器件成为体内刺激应用的重要发展方向,即要求光电器件具有超柔性和导电性。而导电柔性衬底中的铝箔（AF）具有较高的光学反射率,是作为超柔性且导电的光电器件优异的衬底材料。为此,本文利用铝箔的优异性能,在等离子体增强型化学气相沉积（PECVD）系统中,通过催化剂引导的气-液-固（VLS）生长方式,在超柔性导电铝箔表面生长基于硅纳米线的氢化非晶硅（a-Si:H）薄膜径向结光电器件,探究其与电激励相关的性能,如开路电压和短路电流。结果显示,该器件在一个太阳光照强度下的电压-电流密度曲线表明该光电器件的开路电压（Voc）可达0.67 V,光电流密度（Jsc）为12.7mA/cm2,可满足不同的体内刺激需求。之后将其应用于实验动物（猪）的心脏表面,用于直接起搏心脏跳动。超柔性光电器件在心脏器官表面可形成良好的贴合,并可实现小尺寸的裁剪。光照射超柔性光电器件表面时,电子和空穴分离,使与p型硅纳米线（SiNWs）相连的导电铝箔带有正电,可直接刺激心脏表面,实现原位心脏起搏,而不需要使用导线传输电刺激。当刺激频率大于心脏自身的窦性心律时,即可获得新的起搏点,进而替代窦房结进行起搏控制。初期实验结果表明,相比窦性心律的101次/分钟,刺激后获得了 128次/分钟的起搏频率。本文通过对基于硅纳米线结构的生物探针和纳米光电心脏起搏器的制备、形貌和电学的表征,以及动物实验的深入研究,为扩展硅基纳米线材料在生物方面的应用提供主要的指导方向。本论文的创新点可以归结如下:（1）首次以平面引导方式规模化获得可定向的硅纳米线FET生物微探针;考察硅纳米线在预设引导沟道中的生长情况,并进行参数优化;深度开发纳米线微探针的稳定转移和悬空技术;克服现有细胞内探针技术无法实现定向且批量制备的缺陷;为可主动且精确的单细胞内电生理特性的检测提供基础。（2）首次在铝箔表面制备超柔性非晶硅径向结光电器件用于刺激心脏原位起搏,实现了光电器件在无电池、小尺寸、无导线且能贴附于体内器官表面等情况下的直接激励,拓展了非晶硅径向结太阳能光电器件的应用范围。
吕楠[5]（2014）在《集成电路制造过程中光刻系统仿真的多边形处理算法研究》文中提出在过去的五十多年间,微电子技术尤其是集成电路领域的高速发展对电路性能的要求日益增长。作为集成电路制造中的核心技术,光刻工艺的飞速发展成功地使集成电路尺寸从微米级进入了纳米级,这使得集成电路的规模和复杂程度越来越高。近几年间,半导体主流制造技术从90nm,65nm转移到40nm、28nm及以下,这意味着更小的特征尺寸（CD, critical dimension）需要更先进的制造工艺以及更精确的制造流程,来提高集成电路的性能,降低功耗,此时,在晶圆表面制造出来的图形会发生明显的畸变现象,随即产生光学邻近效应（OPE, Optical Proximity Effect）,从而影响集成电路的制造成品率。为应对这一挑战,在工业领域提出了分辨率增强技术（RET, Resolution Enhancement Technology）,以减少光学邻近效应对集成电路制造的影响,使在现有生产环境下,能够尽可能制造出特征尺寸更小的集成电路来。不管应用何种技术,均需要精确预测出在光刻条件下,通过对掩模图形进行照射呈现在晶圆表面的图形。本文在深入探讨集成电路制造流程基础上,提出了基于部分相干理论的光刻建模的多边形处理算法,将掩模上的多边形图案进行切分优化,将其划分成若干矩形或三角形。并在Linux环境下应用C语言设计出一个完整的光刻仿真系统,在此系统中,设计的具体光学参数为：光源波长为193nm,数值孔径在0.3-0.8之间,部分相干系数可调范围为0.2-0.8之间,可一次性仿真1μm×1μm到10μm×10μm范围内的45nm-0.18μm工艺的复杂版图。
王冠亚[6]（2013）在《高精度掩模版电子束光刻关键技术研究》文中提出电子束光刻是目前分辨率最高、使用最灵活的纳米加工技术,在半导体制造和微细加工领域等领域有广泛的应用。作为推进半导体产业不断发展的核心技术,光刻技术从出现以来就在集成电路生产中扮演着重要的角色。随着光刻技术分辨率的不断提高,相应的高精度掩模制作难度也越来越大。目前,大部分高精度掩模都是采用电子束光刻方法制作完成的。但是电子束光刻的关键技术还需要进一步研究。本论文在深入理解电子束光刻技术及电子与光刻胶相互作用机理的基础上对高精度掩模的关键制备技术进行了深入研究。针对电子束光刻中的邻近效应,对电子束光刻过程进行了蒙特卡罗计算机模拟。在理论模拟的基础上,对电子束光刻工艺进行了优化,成功制备了高精度光学掩模。论文中主要研究成果包括：1.本论文首先从电子束光刻的基本原理出发,通过对电子在光刻胶和衬底中碰撞散射理论以及能量沉积理论的研究。2.在理论模拟结果的基础上,校正实验数据,优化曝光工艺参数,从而达到减小电子束邻近效应,提高电子束光刻分辨率的目的。3.利用光栅扫描电子束光刻制版系统MEBES4700S,对高精度掩模版制造的曝光策略及其控制技术进行了研究,其中包括版图图形数据处理技术、高精度曝光参数调整、写策略的定制、自一致邻近效应校正技术以及曝光剂量和线宽控制等。4.测量了电子束光刻制版系统MEBES4700S工作电压下的点扩散函数,成功研制了接近机器极限分辨率的350nm掩模版。
董启明[7]（2013）在《超透镜（Superlens）光刻技术的研究》文中进行了进一步梳理由于光学分辨率极限的存在，传统的光学光刻技术已经很难满足日益先进的光电子学的微细加工要求，为此需要发展新型的光刻技术。超透镜光刻技术作为新近发展的一种高分辨率技术，因其成本低，有能力实现所谓的“完美成像”，目前受到广泛关注。我们在自然科学青年基金项目（No:60906052）的资助下，对此技术展开了较为系统深入的理论和实验研究。本论文侧重于实验研究，研究内容如下：基于左手材料的基本特性，对完美成像的原理进行了推导，并将超透镜结构激发表面等离子体（SPP）耦合的机理与完美成像做了对比分析，系统地归纳了超透镜成像理论。设计了可用于实验的超透镜光刻模型，并通过建立近场光学传递函数分析了各介质层参数对成像的影响，通过有限时域差分（FDTD）方法模拟超透镜光刻成像，验证了结构模型的可行性。为了获得微纳米级的掩模版，对经济便捷的胶体微球自组装方法进行了研究。尝试了利用无皂乳液聚合法制备聚苯乙烯（PS）微球，获得了单分散性小于15%的PS球。讨论分析了影响PS球自组装效果的因素，提出一种新型PS球自组装方法，可简单高效地获得大面积紧密堆积的PS球单层膜，无缺陷面积达100μm2以上。使用扫描电子显微镜（SEM）等仪器对超透镜结构的制作和光刻实验过程进行了详细的描述表征。首先利用自组装和镀膜沉积结合的方法制作了纳米级的三角形阵列掩膜，然后是制作超透镜结构，包括旋涂上间隔层、沉积银膜、下间隔层，最后是光刻成像实验。讨论分析了聚甲基丙烯酸甲酯（PMMA）和光刻胶在不同转速下的厚度、均匀性对光刻成像的影响，提出了工艺参数的优化方案。实验最后成功地复制了边长为190nm的三角形阵列图形，细节结构保真度较高，分辨率达到入射波长的1/7,验证了亚波长成像。
钟希欢[8]（2012）在《动态分形数字掩模技术制作微透镜及其阵列的研究》文中研究表明随着微光学器件的应用越来越广泛，微光学器件正在朝更微形化、阵列化、结构复杂化等多个方面发展，并已经取得了很多卓有成效的研究。针对不同场合的需求，对微光学器件的光学性能提出了越来越高的要求，所以对微光学器件的制作方法也提出了越来越高的要求。微光学器件的制作方法从传统的机械方法到数字化掩模光刻技术，技术的每一次更新都相应的解决了微光学器件制作过程中的难题。本文基于对多种数字无掩模光刻技术的充分研究，针对其中存在的不足之处，创新的提出来一种制作微光学器件的方法。本文研究的主要工作有：1.通过研究了大量最新的相关资料，透彻分析了各种微光学器件制作方法的优点和缺点之后，引出本文研究的主要内容——动态分形数字掩模技术，以及分析研究该技术的必要性。2.详细阐述了动态分形数字掩模技术的原理及其相关理论。并且提出了动态分形曝光法的设计以及分析了该曝光方法提出的必要性,通过实验证明动态分形曝光方法有利于制作出三维面形良好的微透镜及其阵列。3.阐述了动态分形数字掩模技术的设计理论，提出了动态分形量化法以及对曝光时间确定简便的方法。随后利用MATLAB软件对动态分形数字掩模技术的理论进行了仿真实验，实验结果证明该技术的动态分形量化法和确定曝光时间的理论是完全可行的。4.在设计曝光掩模图形的过程中，创新的将三种制作方法的数字掩模曝光图形设计在同一幅掩模图形中并进行曝光，实验得到了本文预想的结果。随后还利用动态分形数字掩模技术进行微透镜阵列和光栅阵列的制作实验，以进一步验证该技术的可行性与正确性。本文还对实验工艺方面进行了一些探讨，对那些会影响到微透镜及其阵列三维面形的因素寻找了一些改善方法。
王志诚[9]（2012）在《KrF掩模版在ArF曝光机上的应用研究》文中指出在集成电路制造中,以光刻技术为主要方法的微细加工是实现大规模集成电路的一个关键技术,单个半导体器件的几何尺寸的大小依赖于该技术的不断进步,芯片集成度的突飞猛进得益于该技术的快速发展。目前在光刻工艺中需要使用掩模版将设计图形转移到晶圆上。通常在设计制造掩模版时需要考虑曝光光源的影响,所以需要对掩模版上图形进行一定的修正,从而避免或减小图形的失真。但是对于不同的曝光光源对掩模版图形的修正具有不同的方法,同时掩模版所使用的相移掩模厚度也会不同,将造成掩模版无法在不同光源的光刻机上使用,从而造成生产资源的闲置,间接造成制造成本的增加。本论文将研究将KrF掩模版应用于ArF曝光机上,首先通过光刻胶的性能选择合适的ArF光刻胶,再用prolitho仿真软件的模拟,确定最佳的光刻胶厚度。再对ArF光刻机的制程参数进行调整及优化,选择最佳的NA及Sigma。同时与基准制程（KrF制程）相对比,通过实验找到ArF工艺最佳的DOF及曝光能量,从UDOF及EL确定工艺窗口ArF工艺大小。为了能够得到良好的CD,通过CD均匀性实验,检查硅片上CD的整体情况,同时通过对光阻做ADI及AEI剖面图,检查在显影及蚀刻工艺后的光刻胶情况。最后经过2个LOT的试生产检查产品是否具有缺陷。经过以上工作使得ArF曝光机能够兼容KrF掩模版,从而大大提高ArF机台的利用率,达到提高产量并减小成本的目的。
陈宝钦[10]（2011）在《微光刻与微/纳米加工技术》文中指出介绍了微电子技术的关键工艺技术——微光刻与微/纳米加工技术,回顾了中国制版光刻与微/纳米加工技术的发展历程与现状,讨论了微光刻与微/纳米加工技术面临的挑战与需要解决的关键技术问题,并介绍了光学光刻分辨率增强技术、下一代光刻技术、可制造性设计技术、纳米结构图形加工技术与纳米CMOS器件研究等问题。近年来,中国科学院微电子研究所通过光学光刻系统的分辨率增强技术（RET）,实现亚波长纳米结构图形的制造,并通过应用光学光刻系统和电子束光刻系统之间的匹配与混合光刻技术及纳米结构图形加工技术成功研制了20～50nm CMOS器件和100nm HEMT器件。
二、我国光掩模发展的过去和现状（论文开题报告）
（1）论文研究背景及目的
此处内容要求：
首先简单简介论文所研究问题的基本概念和背景，再而简单明了地指出论文所要研究解决的具体问题，并提出你的论文准备的观点或解决方法。
写法范例：
本文主要提出一款精简64位RISC处理器存储管理单元结构并详细分析其设计过程。在该MMU结构中,TLB采用叁个分离的TLB,TLB采用基于内容查找的相联存储器并行查找,支持粗粒度为64KB和细粒度为4KB两种页面大小,采用多级分层页表结构映射地址空间,并详细论述了四级页表转换过程,TLB结构组织等。该MMU结构将作为该处理器存储系统实现的一个重要组成部分。
（2）本文研究方法
调查法：该方法是有目的、有系统的搜集有关研究对象的具体信息。
观察法：用自己的感官和辅助工具直接观察研究对象从而得到有关信息。
实验法：通过主支变革、控制研究对象来发现与确认事物间的因果关系。
文献研究法：通过调查文献来获得资料，从而全面的、正确的了解掌握研究方法。
实证研究法：依据现有的科学理论和实践的需要提出设计。
定性分析法：对研究对象进行“质”的方面的研究，这个方法需要计算的数据较少。
定量分析法：通过具体的数字，使人们对研究对象的认识进一步精确化。
跨学科研究法：运用多学科的理论、方法和成果从整体上对某一课题进行研究。
功能分析法：这是社会科学用来分析社会现象的一种方法，从某一功能出发研究多个方面的影响。
模拟法：通过创设一个与原型相似的模型来间接研究原型某种特性的一种形容方法。
三、我国光掩模发展的过去和现状（论文提纲范文）
（1）KLA3xx系列机台数据准备扩展系统的设计与实现（论文提纲范文）
| 0 引言 |
| 1 KLA 3xx系列机台 |
| 2 技术特点 |
| 2.1 KLA Database PPE系统 |
| 2.2 KOP系统 |
| 2.3 Perl计算机程序语言 |
| 2.4 Shell |
| 2.5 CATS图形图像处理软件 |
| 3 KOP系统的设计 |
| 3.1 系统总体结构设计 |
| 3.2 KOP系统功能设计 |
| 3.2.1 VNC远程登录模块 |
| 3.2.2 KOP数据处理模块 |
| 3.2.3 DPS数据传输 |
| 4 KOP系统的实现 |
| 5 结语 |
（2）基于Himawari-8卫星火点反演及中国区域生物质燃烧环境效应探究（论文提纲范文）
| 摘要 |
| ABSTRACT |
| 第1章 绪论 |
| 1.1 研究背景与意义 |
| 1.2 国内外研究现状 |
| 1.2.1 星载火点探测仪器发展现状 |
| 1.2.2 火点反演算法发展现状 |
| 1.2.3 生物质燃烧排放估算方法发展现状 |
| 1.3 研究内容与技术路线 |
| 1.4 章节安排 |
| 第2章 云检测与火点反演原理 |
| 2.1 云检测原理 |
| 2.1.1 云的分类 |
| 2.1.2 云的辐射特性 |
| 2.1.3 云检测原理 |
| 2.2 火点反演原理 |
| 2.2.1 普朗克定律 |
| 2.2.2 斯蒂芬波尔茨曼定律 |
| 2.2.3 维恩位移定律 |
| 2.2.4 亮温 |
| 2.2.5 火点反演流程 |
| 第3章 云检测算法的构建与验证 |
| 3.1 日间云检测算法的构建 |
| 3.1.1 反射率随太阳天顶角变化 |
| 3.1.2 反射率校正 |
| 3.1.3 云指数判定 |
| 3.1.4 云检测偏差校正 |
| 3.1.5 日间云检测算法总结 |
| 3.2 夜间云检测算法的构建 |
| 3.2.1 时序对比 |
| 3.2.2 亮温阈值判别 |
| 3.2.3 亮温差阈值判别 |
| 3.2.4 红外背景亮温判别 |
| 3.2.5 夜间云检测算法总结 |
| 3.3 高光谱云反演算法的构建 |
| 3.4 云检测算法的验证 |
| 第4章 火点反演算法的构建与验证 |
| 4.1 Himawari-8火点探测通道观测特性 |
| 4.2 潜在火点提取 |
| 4.3 背景火点提取 |
| 4.4 时间序列分析 |
| 4.4.1 Prophet模型简介 |
| 4.4.2 基于Prophet模型的时间序列分析 |
| 4.4.3 基于同时刻亮温统计特性的时间序列分析 |
| 4.5 火点反演结果与对比 |
| 第5章 生物质燃烧环境效应初探 |
| 5.1 火辐射功率的获取 |
| 5.2 火辐射能量的计算 |
| 5.3 生物质燃烧排放的估算 |
| 5.4 生物质燃烧环境效应探究 |
| 5.5 与GFAS火灾排放清单的对比 |
| 第6章 总结与展望 |
| 6.1 研究总结 |
| 6.2 展望 |
| 参考文献 |
| 致谢 |
| 在读期间发表的学术论文与取得的其他研究成果 |
（3）面向早期肿瘤检测应用的活体计算技术研究（论文提纲范文）
| 摘要 |
| ABSTRACT |
| 第1章 绪论 |
| 1.1 课题背景及研究的目的和意义 |
| 1.2 国内外在早期肿瘤检测方面的研究现状及分析 |
| 1.2.1 国外纳米医学肿瘤检测研究现状 |
| 1.2.2 国内纳米医学肿瘤检测研究现状 |
| 1.3 纳米医学在早期肿瘤检测的研究现状简析 |
| 1.4 本文的主要研究目标、研究内容及章节安排 |
| 1.4.1 研究目标 |
| 1.4.2 研究内容 |
| 1.4.3 章节安排 |
| 第2章 活体计算概念的提出 |
| 2.1 引言 |
| 2.2 生物梯度场 |
| 2.3 计算策略简介 |
| 2.4 活体计算问题表征 |
| 2.4.1 体内约束 |
| 2.4.2 问题定义 |
| 2.5 本章小结 |
| 第3章 理想控制条件下的活体计算 |
| 3.1 引言 |
| 3.2 计算模型的建立 |
| 3.3 基于活体计算的单肿瘤病灶检测 |
| 3.3.1 过程描述 |
| 3.3.2 血流速度变化形态 |
| 3.3.3 血管网络建模 |
| 3.3.4 算法设计 |
| 3.3.5 结果分析 |
| 3.4 基于活体计算的多灶性肿瘤检测 |
| 3.4.1 问题定义 |
| 3.4.2 模型建立 |
| 3.4.3 算法设计 |
| 3.4.4 仿真结果分析 |
| 3.5 本章小结 |
| 第4章 均匀磁场下的活体计算策略 |
| 4.1 引言 |
| 4.2 活体计算特征分析 |
| 4.3 活体计算建模 |
| 4.3.1 问题推导 |
| 4.3.2 计算步骤 |
| 4.3.3 生物梯度场表示 |
| 4.4 活体计算策略 |
| 4.4.1 顺序进化策略 |
| 4.4.2 弱者优先进化策略 |
| 4.4.3 强者优先进化策略 |
| 4.4.4 随机进化策略 |
| 4.5 算法研究 |
| 4.6 仿真结果分析 |
| 4.7 本章小结 |
| 第5章 活体计算的迭代步长研究 |
| 5.1 引言 |
| 5.2 肿瘤不同生长阶段的血管网络 |
| 5.3 固定步长的计算策略 |
| 5.4 变化步长的计算策略 |
| 5.5 算法设计 |
| 5.6 仿真结果分析 |
| 5.6.1 “张-弛”策略的验证 |
| 5.6.2 指数进化策略的验证 |
| 5.7 本章小结 |
| 第6章 基于多病灶肿瘤检测的活体计算 |
| 6.1 引言 |
| 6.2 多病灶肿瘤检测基础 |
| 6.2.1 问题描述 |
| 6.2.2 血管网络模型 |
| 6.2.3 生物梯度场表示 |
| 6.3 多病灶肿瘤检测计算策略 |
| 6.4 算法设计 |
| 6.5 仿真结果分析 |
| 6.6 本章小结 |
| 第7章 活体计算的体外实验验证 |
| 7.1 引言 |
| 7.2 实验平台搭建 |
| 7.2.1 微流道网络的制备 |
| 7.2.2 微型机器人的制备 |
| 7.2.3 磁场控制系统搭建 |
| 7.3 实验设计 |
| 7.4 实验结果分析 |
| 7.5 本章小结 |
| 结论 |
| 参考文献 |
| 攻读博士学位期间发表的论文及其他成果 |
| 致谢 |
| 个人简历 |
（4）基于硅纳米线的场效应微探针与超柔性径向结光电器件的制备及生物应用研究（论文提纲范文）
| 摘要 |
| Abstract |
| 第一章 绪论 |
| 1.1 引言 |
| 1.2 几种纳米线的制备方法 |
| 1.2.1 “自上而下”的刻蚀方法制备纳米线 |
| 1.2.2 “自下而上”的生长方法制备纳米线 |
| 1.2.3 IPSLS自组装平面硅基纳米线生长原理简介 |
| 1.2.4 激光引导IPSLS平面纳米线生长简介 |
| 1.3 基于硅纳米线的生物电信号传感器 |
| 1.3.1 生物传感器的发展历史与现状 |
| 1.3.2 场效应晶体管生物传感器 |
| 1.4 基于硅纳米线的光电器件应用 |
| 1.4.1 太阳能光电器件的发展背景 |
| 1.4.2 太阳能光电器件原理 |
| 1.4.3 传统的平面电池在生物体内的应用 |
| 1.4.4 径向结纳米线光电器件及其应用 |
| 1.5 硅纳米线器件其它应用 |
| 1.5.1 光电传感FET器件 |
| 1.5.2 NEMS器件 |
| 1.5.3 柔性电子器件 |
| 1.6 本论文的主要工作及研究内容 |
| 参考文献 |
| 第二章 硅纳米线生物探针期间的制备与表征 |
| 2.1 引言 |
| 2.2 平面硅纳米线场效应晶体管器件制备与表征 |
| 2.2.1 光刻板的设计与制备 |
| 2.2.2 平面硅纳米线的制备 |
| 2.2.3 平面硅纳米线的直径调控与形貌表征 |
| 2.2.4 平面硅纳米线FET器件制备 |
| 2.2.5 纳米线FET器件的电学性能 |
| 2.2.6 纳米线FET器件的光电性能 |
| 2.3 生物探针器件的制备与表征 |
| 2.3.1 生物探针器件的制备流程 |
| 2.3.2 生物探针器件的电学表征 |
| 2.3.3 生物探针器件的转移 |
| 2.4 本章小结 |
| 参考文献 |
| 第三章 径向结光电器件用于心脏起搏的研究 |
| 3.1 引言 |
| 3.2 PIN径向结光电器件的制备 |
| 3.2.1 径向结光电器件的制备流程 |
| 3.2.2 超柔性径向结光电器件光电表征 |
| 3.2.3 超柔性径向结光电器件的频率响应 |
| 3.3 超柔性径向结光电器件贴片与径向结纳米线溶液的制备 |
| 3.3.1 超柔性径向结光电器件贴片制备 |
| 3.3.2 径向结光电器件PBS溶液制备 |
| 3.3.3 径向结光电器件起搏导线的制备 |
| 3.4 径向结光电器件用于心脏起搏的实验研究 |
| 3.4.1 动物心脏起搏实验 |
| 3.4.2 生物体的透光性测试 |
| 3.5 本章小结 |
| 参考文献 |
| 第四章 总结与展望 |
| 4.1 课题研究总结 |
| 4.2 问题与展望 |
| 攻读硕士期间取得成果清单 |
| 致谢 |
（5）集成电路制造过程中光刻系统仿真的多边形处理算法研究（论文提纲范文）
| 致谢 |
| 摘要 |
| Abstract |
| 第1章 绪论 |
| 1.1 引言 |
| 1.2 集成电路设计技术 |
| 1.3 集成电路制造工艺 |
| 1.4 纳米尺度下集成电路制造工艺面临的问题 |
| 1.5 关键技术和现状分析 |
| 1.5.1 光学邻近校正 |
| 1.5.2 移相掩模 |
| 1.5.3 离轴照明 |
| 1.5.4 次分辨率辅助图形 |
| 1.6 集成电路的可制造性设计 |
| 1.7 论文的研究内容 |
| 1.8 本章小结 |
| 第2章 集成电路的生产工艺及流程 |
| 2.1 集成电路制造简介 |
| 2.2 光刻胶的制备 |
| 2.3 光刻成像过程 |
| 2.4 蚀刻过程 |
| 2.5 掩模 |
| 2.6 本章小结 |
| 第3章 光学邻近校正技术 |
| 3.1 分辨率与焦深 |
| 3.2 光学邻近效应 |
| 3.2.1 一维图形的光学邻近效应 |
| 3.2.2 二维图形的光学邻近效应 |
| 3.3 光学邻近校正 |
| 3.3.1 基于规则的OPC |
| 3.3.2 基于模型的OPC |
| 3.4 本章小结 |
| 第4章 光刻仿真系统及建模 |
| 4.1 光刻机系统描述 |
| 4.2 光刻仿真系统 |
| 4.2.1 光刻仿真系统基本构成 |
| 4.2.2 光刻成像理论 |
| 4.3 点光强计算算法 |
| 4.4 光刻仿真系统的建模 |
| 4.5 本章小结 |
| 第5章 多边形处理的算法研究 |
| 5.1 多边形切分算法提出的背景 |
| 5.2 对多边形切分研究 |
| 5.3 实验结果 |
| 第6章 总结与展望 |
| 6.1 本文总结 |
| 6.2 未来展望 |
| 参考文献 |
| 作者简介 |
（6）高精度掩模版电子束光刻关键技术研究（论文提纲范文）
| 摘要 |
| Abstract |
| 第一章 绪论 |
| 1.1 引言 |
| 1.2 传统光学光刻技术及其面临的挑战 |
| 1.3 下一代光刻技术应用前景 |
| 1.4 电子束光刻及其在高精度掩模制造中的应用 |
| 1.5 论文的目的与意义 |
| 1.6 论文的主要内容 |
| 第二章 电子束光刻技术 |
| 2.1 电子束光刻技术发展概况 |
| 2.2 电子束光刻技术原理 |
| 2.2.1 电子束光刻系统结构 |
| 2.2.2 电子束光刻系统分类 |
| 2.2.3 电子光学原理简介 |
| 2.3 电子束光刻工艺技术 |
| 2.4 电子抗蚀剂 |
| 2.5 邻近效应校正技术 |
| 2.5.1 电子束光刻中的邻近效应机制 |
| 2.5.2 邻近效应的物理描述 |
| 2.5.3 邻近效应校正技术 |
| 2.5.4 自一致邻近效应校正技术 |
| 2.6 本章小结 |
| 第三章 高精度掩模版电子束光刻总体方案 |
| 3.1 版图的数据处理 |
| 3.2 束流和束斑的选择 |
| 3.3 工艺参数调整 |
| 3.3.1 工件台和板架的定位精度 |
| 3.3.2 场拼接精度调整 |
| 3.4 写策略 |
| 3.5 光栅扫描电子束光刻方式的邻近效应校正 |
| 3.6 实验方案 |
| 3.7 本章小结 |
| 第四章 高精度掩模版电子束光刻实验结果与分析 |
| 4.1 版图处理 |
| 4.2 曝光参数调整 |
| 4.3 邻近效应校正 |
| 4.4 曝光实验结果分析 |
| 4.5 高精度掩模曝光制造结果 |
| 4.6 本章小结 |
| 第五章 论文结论与展望 |
| 参考文献 |
| 致谢 |
| 个人简历、在学期间发表的论文与研究成果 |
（7）超透镜（Superlens）光刻技术的研究（论文提纲范文）
| 摘要 |
| ABSTRACT |
| 第一章 绪论 |
| 1.1 光刻技术概述及面临的挑战 |
| 1.2 下一代光刻技术 - -纳米光刻技术 |
| 1.3 超透镜光刻的发展历史 |
| 1.4 论文的主要内容 |
| 第二章 超透镜光刻成像原理与设计 |
| 2.1 左手材料的特性 |
| 2.1.1 左手材料中电磁波的传播特性 |
| 2.1.2 左手材料的负折射特性 |
| 2.2 超透镜成像理论 |
| 2.2.1 完美透镜成像 |
| 2.2.2 超透镜成像 |
| 2.3 超透镜光刻模型设计 |
| 2.3.1 超透镜光刻模型 |
| 2.3.2 介质层厚度设计 |
| 2.3.3 FDTD 模拟成像 |
| 2.4 本章小结 |
| 第三章 自组装方法制备微纳米结构 |
| 3.1 胶体微球中的纳米科技 |
| 3.2 聚苯乙烯微球的制备 |
| 3.3 PS 球自组装单层膜 |
| 3.3.1 微球自组装技术介绍 |
| 3.3.2 影响自组装效果的因素 |
| 3.3.3 自组装微球单层膜的新方法 |
| 3.4 本章小结 |
| 第四章 超透镜光刻实验 |
| 4.1 超透镜光刻结构 |
| 4.2 超透镜光刻实验过程 |
| 4.2.1 掩模的制作 |
| 4.2.2 间隔层 1 的制作 |
| 4.2.3 银层的制作 |
| 4.2.4 间隔层 2 的制作 |
| 4.2.5 旋涂光刻胶与曝光 |
| 4.3 光刻成像结果与讨论 |
| 4.3.1 微米级超透镜光刻 |
| 4.3.2 纳米级超透镜光刻 |
| 4.4 本章小结 |
| 第五章 总结与展望 |
| 5.1 结论 |
| 5.2 下一步工作展望 |
| 致谢 |
| 参考文献 |
| 攻硕期间取得的研究成果 |
（8）动态分形数字掩模技术制作微透镜及其阵列的研究（论文提纲范文）
| 摘要 |
| Abstract |
| 目录 |
| 第1章 引言 |
| 1.1 微光学研究及现状 |
| 1.2 微光学器件制作方法介绍 |
| 1.2.1 二元套刻技术 |
| 1.2.2 直写技术 |
| 1.2.3 灰度掩模技术 |
| 1.3 无掩模数字光刻技术 |
| 1.4 动态分形数字掩模技术提出的必要性 |
| 1.5 本论文研究主要工作及内容安排 |
| 1.5.1 论文主要研究工作 |
| 1.5.2 论文主要内容安排 |
| 第2章 动态分形数字掩模技术 |
| 2.1 引言 |
| 2.2 动态分形数字掩模技术 |
| 2.2.1 实时数字掩模技术 |
| 2.2.2 分形数字掩模技术 |
| 2.2.3 动态分形数字掩模技术的原理 |
| 2.2.4 动态分形曝光法提出的必要性及其原理 |
| 第3章 微透镜的设计 |
| 3.1 引言 |
| 3.2 衍射透镜的设计及其制作理论 |
| 3.2.1 二元光学的基本理论 |
| 3.2.2 衍射透镜的标量设计理论 |
| 3.3 动态分形数字掩模技术的设计方法 |
| 3.4 动态分形数字掩模技术的仿真验证 |
| 第4章 实验及其分析 |
| 4.1 引言 |
| 4.2 实验硬件装置 |
| 4.3 DMD的成像原理 |
| 4.4 实验软件部分 |
| 4.5 实验步骤及工艺 |
| 4.6 对本实验工艺的优化 |
| 4.7 动态分形数字掩模技术制作微透镜的实验结果与分析 |
| 4.7.1 微透镜掩模设计图形 |
| 4.7.2 本实验的主要光刻工艺参数 |
| 4.7.3 实验用的对比数字掩模图形 |
| 4.7.4 实验结果及其分析 |
| 4.8 动态分形数字掩模技术制作微透镜阵列 |
| 4.9 动态分形数字掩模技术制作光栅阵列 |
| 第5章 结论 |
| 参考文献 |
| 致谢 |
| 硕士期间发表的论文 |
（9）KrF掩模版在ArF曝光机上的应用研究（论文提纲范文）
| 摘要 |
| Abstract |
| 第1章 引言 |
| 1.1 研究背景 |
| 1.2 本文研究意义 |
| 1.3 本章小结 |
| 第2章 光刻技术原理及工艺流程 |
| 2.1 光刻工艺在集成电路制造中的作用 |
| 2.2 光刻技术的光学原理 |
| 2.3 光刻技术的工艺流程 |
| 2.4 光刻曝光光源 |
| 2.5 本章小结 |
| 第3章 光刻分辨率增强技术的应用与分析 |
| 3.1 离轴照明技术 |
| 3.2 相移掩模技术 |
| 3.3 光学邻近效应校正技术 |
| 3.4 本章小结 |
| 第4章 光刻胶选用及其评估 |
| 4.1 光刻胶的类型及其性能指标 |
| 4.2 光刻胶反应机理 |
| 4.3 深紫外线光刻胶 |
| 4.4 光刻胶的选择及评估 |
| 4.5 本章小结 |
| 第5章 KrF掩模版在ArF光刻机上应用与优化 |
| 5.1 KrF掩模版与ArF掩模版的区别 |
| 5.2 KrF光刻工艺与ArF光刻工艺对比 |
| 5.3 ArF光刻工艺评估及工艺参数优化 |
| 5.4 OPC模型验证 |
| 5.5 CD均匀性和剖面检查 |
| 5.6 硅片缺陷及产品良率检测 |
| 5.7 本章小结 |
| 第6章 总结与展望 |
| 6.1 总结 |
| 6.2 展望 |
| 参考文献 |
| 致谢 |
（10）微光刻与微/纳米加工技术（论文提纲范文）
| 0 引 言[1-2] |
| 1 光学光刻分辨率增强技术 |
| 1.1 移相掩模制造技术 |
| 1.2 光学邻近效应校正掩模制造与可制造性设计技术 |
| 1.3 浸没透镜与两次曝光光刻技术 |
四、我国光掩模发展的过去和现状（论文参考文献）
- [1]KLA3xx系列机台数据准备扩展系统的设计与实现[J]. 陈龙维. 集成电路应用, 2021(12)
- [2]基于Himawari-8卫星火点反演及中国区域生物质燃烧环境效应探究[D]. 王顺天. 中国科学技术大学, 2021(08)
- [3]面向早期肿瘤检测应用的活体计算技术研究[D]. 师少龙. 哈尔滨工业大学, 2020(01)
- [4]基于硅纳米线的场效应微探针与超柔性径向结光电器件的制备及生物应用研究[D]. 雷亚奎. 南京大学, 2019(04)
- [5]集成电路制造过程中光刻系统仿真的多边形处理算法研究[D]. 吕楠. 浙江大学, 2014(07)
- [6]高精度掩模版电子束光刻关键技术研究[D]. 王冠亚. 中国科学院大学(工程管理与信息技术学院), 2013(08)
- [7]超透镜（Superlens）光刻技术的研究[D]. 董启明. 电子科技大学, 2013(01)
- [8]动态分形数字掩模技术制作微透镜及其阵列的研究[D]. 钟希欢. 南昌航空大学, 2012(01)
- [9]KrF掩模版在ArF曝光机上的应用研究[D]. 王志诚. 复旦大学, 2012(03)
- [10]微光刻与微/纳米加工技术[J]. 陈宝钦. 微纳电子技术, 2011(01)