导读:本文包含了脉冲直流磁控溅射论文开题报告文献综述及选题提纲参考文献，主要关键词:高功率脉冲磁控溅射,TiSiN涂层,纳米复合,低应力
脉冲直流磁控溅射论文文献综述
李林儒,王振玉,左潇,刘林林,黄美东[1]（2019）在《直流磁控溅射和高功率脉冲磁控溅射TiSiN涂层的结构与性能比较》一文中研究指出目的对比研究HiPIMS和DCMS技术对涂层组织、结构与性能的影响,为不同磁控溅射技术制备硬质涂层提供理论依据与实验指导。方法在相同功率密度下,通过HiPIMS和DCMS技术分别制备Ti Si N涂层。通过X射线衍射仪(XRD)、X射线光电子能谱(XPS)、扫描电子显微镜(SEM)、透射电子显微镜(TEM)、扫描探针显微镜(SPM)表征涂层的结构和形貌,并通过纳米压痕仪、划痕仪、UMT-3摩擦磨损试验机、电化学工作站表征涂层的力学、摩擦学和耐腐蚀性能。结果与DCMS制备的Ti SiN涂层相比,HiPIMS技术所制备的涂层表面更加光滑,结构更为致密,硬度提高了10%,且应力降低了35%,呈低应力高硬度特征,涂层的韧性和结合力也明显提高,膜基结合力由DCMS涂层的40N提高至50N。同时,涂层的耐磨和耐腐蚀性能得到提升,摩擦系数降低了18%,腐蚀电流密降低了将近1个数量级。结论与DCMS相比,HiPIMS技术在制备Ti SiN纳米复合涂层上具有显着优势,有效提高了涂层的综合使役性能。(本文来源于《表面技术》期刊2019年09期）
徐星,苏峰华,李助军[2]（2019）在《脉冲偏压对直流磁控溅射沉积MoN薄膜结构及性能的影响》一文中研究指出MoN薄膜是一种具有潜在应用价值的薄膜材料,但对于其结构和性能的研究还较少。采用直流磁控溅射技术在304不锈钢基体表面沉积MoN薄膜,研究了脉冲偏压对MoN薄膜结构和性能的影响,并系统研究了MoN薄膜在不同摩擦条件下的摩擦磨损行为。采用X射线衍射仪和扫描电镜分析薄膜的晶相结构、晶粒尺寸、表面及断面形貌,采用HMV-2T显微硬度仪测试薄膜的显微硬度。采用UMT-TriboLab多功能摩擦磨损试验机评价薄膜的摩擦磨损性能,并用扫描电镜观察磨损表面,分析其磨损机制。结果表明:脉冲偏压显着影响直流磁控沉积的MoN薄膜的晶相结构、表面形貌、断面结构、硬度和摩擦磨损性能;随脉冲偏压的增大,MoN薄膜的膜厚、硬度都先增大后减小,而薄膜的磨损率却先减小后增大,其中-500 V脉冲偏压下沉积的MoN薄膜具有最高硬度为7731 N/mm~2,以及最低的磨损率为5.8×10~(-7)mm~3/(N·m)。此外,MoN薄膜在不同载荷和转速的摩擦条件下表现出不同的摩擦学行为。(本文来源于《中国表面工程》期刊2019年02期）
刘婵,王东伟,李晓敏,武英桐,黄美东[3]（2019）在《脉冲负偏压对直流磁控溅射碳膜结构和性能的影响》一文中研究指出通过直流磁控溅射技术在基体(硅片、高速钢、钢片)上沉积碳膜。保持其它工艺参数基本恒定,探究薄膜在100V-400V脉冲负偏压下,结构和性能的变化规律。实验结果表明,这种碳膜为非晶态硬质薄膜,具有较好表面形貌,且随着脉冲偏压数值的逐渐增加,其厚度、沉积速率和硬度均呈现先增大后减小的趋势,而摩擦系数则先减小后增大。当脉冲负偏压为200 V时,薄膜具有最佳的力学性能。(本文来源于《真空》期刊2019年02期）
高迪,林松盛,许伟,邹俭鹏,杨洪志[4]（2019）在《高功率脉冲复合直流磁控溅射制备类金刚石薄膜的结构与性能》一文中研究指出采用高功率脉冲复合直流磁控溅射技术,以工作气压、基底偏压和靶电压为影响因素设计正交试验进行类金刚石(DLC)薄膜的制备研究,采用扫描电镜(SEM)、纳米硬度计、拉曼光谱和3D轮廓仪等对DLC膜层进行结构与性能分析。结果表明:制备得到的DLC薄膜厚度约为1μm,硬度在10.00～25.00 GPa之间,最高可达24.29 GPa;对DLC薄膜拉曼峰进行高斯拟合得到位于1 520～1 540 cm~(-1)处的特征峰G峰和1 330～1 370 cm~(-1)处的特征峰D峰。在3个影响因素中,基底偏压对膜层厚度、硬度、致密性及sp3含量的影响最大,而靶电压及工作气压对膜层结构性能影响较小。随着基底偏压的增加,薄膜厚度逐渐减小,硬度逐渐增大;峰强比Id/Ig逐渐减小,sp3含量逐渐增大,且薄膜截面由疏松多孔的柱状结构变为孔隙较少的致密结构。(本文来源于《粉末冶金工业》期刊2019年01期）
袁建鹏[5]（2016）在《脉冲偏压对直流磁控溅射制备CuNiIn薄膜过程中钛合金基体的影响》一文中研究指出用直流磁控溅射技术制备CuNiIn薄膜,研究了电源脉冲偏压对钛合金基体结构和力学性能的影响。采用热电偶丝实时监控沉积过程中的基体温度变化,利用截面金相法对比分析了基体在膜层制备前后结构和形貌的变化情况,利用高温拉伸试验机测量了有CuNiIn膜层的试样和无膜层试样的抗拉强度和弹性模量。结果表明:20%低占空比、500V的脉冲偏压下,基体沉积过程中的温度可保持在300℃以下;膜层制备过程对钛合金基体组织和力学性能的影响很小。(本文来源于《热喷涂技术》期刊2016年02期）
彭寿,李刚,蒋继文,钟汝梅[6]（2016）在《氧气流量和溅射功率对脉冲直流磁控溅射制备Nb_2O_5薄膜性能的影响》一文中研究指出采用非对称双极性脉冲直流磁控溅射系统在玻璃衬底上制备了Nb_2O_5薄膜,重点研究了O_2流量和溅射功率对薄膜结构、成分、形貌和光学性能的影响。XRD结果表明:所有制备的薄膜均为非晶结构;XPS用于分析不同O_2流量下沉积的薄膜表面Nb的化学状态,O_2流量达到4.0 sccm以上才能得到满足化学计量比的Nb_2O_5薄膜;AFM结果显示:随着O_2流量的增加,薄膜表面更加平滑、均匀,而溅射功率为80 W时所制备的Nb_2O_5薄膜表现出最大的表面粗糙度大约为1.59 nm;光学结果表明,随着O_2流量增加,可见光区的平均光学透过率逐渐增大,但溅射功率超过40 W,溅射功率对薄膜可见光区的透过率影响很小;此外,通过改变O_2流量和溅射功率,可以很好地调节薄膜的折射率,从而更加便于消影玻璃中光学介质膜系的设计与生长。(本文来源于《玻璃》期刊2016年02期）
吕起鹏,李刚,公发全,王锋,卢俊[7]（2014）在《低温等离子体辅助脉冲直流磁控溅射制备TiN薄膜》一文中研究指出采用一种新型的等离子体辅助脉冲直流磁控溅射溅射沉积方法,在低温状态(100℃)下制备了氮化钛薄膜,利用X射线衍射仪、轮廓仪、分光光度计、原子力显微镜对氮化钛薄膜进行了表征,研究了等离子体源在薄膜制备过程中的作用。结果表明采用该方法可在低温环境下制备高温抗氧化性能良好的氮化钛薄膜。当离子源功率为500 W时,制备的氮化钛薄膜表现良好氮化钛(111)择优取向,薄膜表面粗糙度为1.43 nm,红外反射率可达到90%。(本文来源于《真空科学与技术学报》期刊2014年11期）
李刚,吕起鹏,公发权,王锋,孙龙[8]（2014）在《欠氧化气氛下等离子体辅助脉冲直流磁控溅射高纯度Al_2O_3薄膜》一文中研究指出为实现高纯度氧化铝薄膜的快速稳定溅射沉积,采用非平衡闭合磁场孪生靶技术,利用脉冲直流磁控溅射方法,首先对溅射电压随氧流量的迟滞现象进行了研究,在此基础上,提出了一种新型的等离子体辅助溅射沉积方法。溅射过程处于迟滞回线的金属模式,保证了高的溅射速率;在真空室内引入一等离子体放电区,沉积在工件上的超薄层非化学计量比氧化铝薄膜,高速通过等离子体放电区时,放电区内解离的氧原子使得氧化铝薄膜被进一步氧化,同时放电区内的氩离子对薄膜进行轰击,增加了薄膜的致密性。利用该方法在不同等离子体功率下进行了氧化铝薄膜的制备,分别利用分光光度计、椭偏仪、原子力显微镜对薄膜的光学特性、表面形貌进行了表征,表征结果说明利用该等离子体辅助磁控溅射方法可获得高纯度的致密氧化铝薄膜。(本文来源于《真空科学与技术学报》期刊2014年03期）
李春伟,田修波,刘天伟,秦建伟,巩春志[9]（2013）在《直流偏压对铝合金表面高功率脉冲磁控溅射沉积钒薄膜耐蚀性的影响》一文中研究指出采用高功率脉冲磁控溅射(HPPMS)法,在工业纯铝基体上生长得到V薄膜,研究不同直流偏压对薄膜相结构、形貌及不同温度处理对耐蚀性的影响。结果表明,薄膜相结构为单一的V(111)相。薄膜表面光滑、平整,且随偏压的增大,薄膜表面粗糙度先减小后增大,最小仅为0.488nm。薄膜沉积过程中离子吸引效应和溅射效应的竞争导致薄膜沉积速率随着偏压的增大先减小后增大。20℃时镀V薄膜样品在偏压为-100V时耐蚀性最佳,其腐蚀电位比基体提高了0.425V,腐蚀电流下降了2个数量级以上。镀V薄膜样品经过200和300℃加热处理后,其耐蚀性提高,但是与基体相比,经200℃处理后的镀V薄膜样品腐蚀电流最大降低了1个数量级,而经300℃处理后的镀V薄膜样品耐蚀性与基体相比提高并不明显。(本文来源于《稀有金属材料与工程》期刊2013年01期）
邵宇川,易葵,方明,张俊超[10]（2011）在《脉冲直流反应磁控溅射制备氧化铌薄膜的性质》一文中研究指出使用脉冲直流反应磁控溅射在不同基底偏压的条件下制备Nb_2O_5薄膜。制备过程为金属Nb靶在纯氧环境中反应完成。使用光谱仪,原子力显微镜,场发射扫描电镜研究了Nb_2O_5薄膜的性质。对Nb_2O_5单层膜进行了激光损伤测试。测试激光脉冲为12ns,波长为1064nm。结果表明,相对阴极电压而言,基底偏压对薄膜损伤阈值具有很大的影响,基底偏压为-60V制备的Nb_2O_5薄膜损伤阈值最高,达到28.8J/cm~2。(本文来源于《长叁角地区科技论坛激光分论坛暨上海市激光学会2011年学术年会论文集》期刊2011-11-11）
脉冲直流磁控溅射论文开题报告
（1）论文研究背景及目的
此处内容要求：
首先简单简介论文所研究问题的基本概念和背景，再而简单明了地指出论文所要研究解决的具体问题，并提出你的论文准备的观点或解决方法。
写法范例：
MoN薄膜是一种具有潜在应用价值的薄膜材料,但对于其结构和性能的研究还较少。采用直流磁控溅射技术在304不锈钢基体表面沉积MoN薄膜,研究了脉冲偏压对MoN薄膜结构和性能的影响,并系统研究了MoN薄膜在不同摩擦条件下的摩擦磨损行为。采用X射线衍射仪和扫描电镜分析薄膜的晶相结构、晶粒尺寸、表面及断面形貌,采用HMV-2T显微硬度仪测试薄膜的显微硬度。采用UMT-TriboLab多功能摩擦磨损试验机评价薄膜的摩擦磨损性能,并用扫描电镜观察磨损表面,分析其磨损机制。结果表明:脉冲偏压显着影响直流磁控沉积的MoN薄膜的晶相结构、表面形貌、断面结构、硬度和摩擦磨损性能;随脉冲偏压的增大,MoN薄膜的膜厚、硬度都先增大后减小,而薄膜的磨损率却先减小后增大,其中-500 V脉冲偏压下沉积的MoN薄膜具有最高硬度为7731 N/mm~2,以及最低的磨损率为5.8×10~(-7)mm~3/(N·m)。此外,MoN薄膜在不同载荷和转速的摩擦条件下表现出不同的摩擦学行为。
（2）本文研究方法
调查法：该方法是有目的、有系统的搜集有关研究对象的具体信息。
观察法：用自己的感官和辅助工具直接观察研究对象从而得到有关信息。
实验法：通过主支变革、控制研究对象来发现与确认事物间的因果关系。
文献研究法：通过调查文献来获得资料，从而全面的、正确的了解掌握研究方法。
实证研究法：依据现有的科学理论和实践的需要提出设计。
定性分析法：对研究对象进行“质”的方面的研究，这个方法需要计算的数据较少。
定量分析法：通过具体的数字，使人们对研究对象的认识进一步精确化。
跨学科研究法：运用多学科的理论、方法和成果从整体上对某一课题进行研究。
功能分析法：这是社会科学用来分析社会现象的一种方法，从某一功能出发研究多个方面的影响。
模拟法：通过创设一个与原型相似的模型来间接研究原型某种特性的一种形容方法。
脉冲直流磁控溅射论文参考文献
[1].李林儒,王振玉,左潇,刘林林,黄美东.直流磁控溅射和高功率脉冲磁控溅射TiSiN涂层的结构与性能比较[J].表面技术.2019
[2].徐星,苏峰华,李助军.脉冲偏压对直流磁控溅射沉积MoN薄膜结构及性能的影响[J].中国表面工程.2019
[3].刘婵,王东伟,李晓敏,武英桐,黄美东.脉冲负偏压对直流磁控溅射碳膜结构和性能的影响[J].真空.2019
[4].高迪,林松盛,许伟,邹俭鹏,杨洪志.高功率脉冲复合直流磁控溅射制备类金刚石薄膜的结构与性能[J].粉末冶金工业.2019
[5].袁建鹏.脉冲偏压对直流磁控溅射制备CuNiIn薄膜过程中钛合金基体的影响[J].热喷涂技术.2016
[6].彭寿,李刚,蒋继文,钟汝梅.氧气流量和溅射功率对脉冲直流磁控溅射制备Nb_2O_5薄膜性能的影响[J].玻璃.2016
[7].吕起鹏,李刚,公发全,王锋,卢俊.低温等离子体辅助脉冲直流磁控溅射制备TiN薄膜[J].真空科学与技术学报.2014
[8].李刚,吕起鹏,公发权,王锋,孙龙.欠氧化气氛下等离子体辅助脉冲直流磁控溅射高纯度Al_2O_3薄膜[J].真空科学与技术学报.2014
[9].李春伟,田修波,刘天伟,秦建伟,巩春志.直流偏压对铝合金表面高功率脉冲磁控溅射沉积钒薄膜耐蚀性的影响[J].稀有金属材料与工程.2013
[10].邵宇川,易葵,方明,张俊超.脉冲直流反应磁控溅射制备氧化铌薄膜的性质[C].长叁角地区科技论坛激光分论坛暨上海市激光学会2011年学术年会论文集.2011