本文主要研究内容
作者张申宇,罗松松,王程（2019）在《基于PLC的Low-E玻璃磁控溅射真空控制系统》一文中研究指出：针对Low-E玻璃在磁控溅射过程中镀膜腔体真空度小于5×10-6mbar的要求,本文提出一种基于PLC控制泵组运行策略的抽真空方法,采用S7-400PLC作为控制系统主体,Wincc平台作为过程监视系统,真空规对腔体内的真空度信号进行采集并反馈到PLC内部,控制泵组按一定顺序启动。实际应用表明该控制系统能够达到生产Low-E玻璃所需真空环境的标准,并且运行稳定,保障了磁控溅射区域真空度的稳定性。
Abstract
zhen dui Low-Ebo li zai ci kong jian she guo cheng zhong du mo qiang ti zhen kong du xiao yu 5×10-6mbarde yao qiu ,ben wen di chu yi chong ji yu PLCkong zhi beng zu yun hang ce lve de chou zhen kong fang fa ,cai yong S7-400PLCzuo wei kong zhi ji tong zhu ti ,Winccping tai zuo wei guo cheng jian shi ji tong ,zhen kong gui dui qiang ti nei de zhen kong du xin hao jin hang cai ji bing fan kui dao PLCnei bu ,kong zhi beng zu an yi ding shun xu qi dong 。shi ji ying yong biao ming gai kong zhi ji tong neng gou da dao sheng chan Low-Ebo li suo xu zhen kong huan jing de biao zhun ,bing ju yun hang wen ding ,bao zhang le ci kong jian she ou yu zhen kong du de wen ding xing 。
论文参考文献
论文详细介绍
论文作者分别是来自内江科技的张申宇,罗松松,王程，发表于刊物内江科技2019年02期论文，是一篇关于,内江科技2019年02期论文的文章。本文可供学术参考使用，各位学者可以免费参考阅读下载，文章观点不代表本站观点，资料来自内江科技2019年02期论文网站，若本站收录的文献无意侵犯了您的著作版权，请联系我们删除。
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