导读:本文包含了光刻建模论文开题报告文献综述及选题提纲参考文献，主要关键词:大规模集成电路,建模,寄生参数提取,光刻工艺
光刻建模论文文献综述
朱恒亮,曾璇,崔涛,严昌浩,张林波[1]（2016）在《纳米集成电路互连线建模和光刻仿真中的大规模并行计算方法》一文中研究指出集成电路规模庞大、结构复杂,随着集成电路制造工艺进入纳米尺度,复杂制造工艺中的工艺波动严重影响电路性能,给集成电路设计带来了巨大的挑战.集成电路互连线建模与光刻仿真涉及大规模Maxwell方程的数值求解,计算复杂度高、规模庞大.本文主要综述了在973项目资助下,基于中国科学院科学与工程计算国家重点实验室陈志明教授提出的并行自适应有限元理论及大规模并行计算平台PHG发展的纳米集成电路互连线建模和光刻仿真的大规模并行计算方法.在集成电路互连线建模方面,一方面,综述了寄生电容参数提取的并行自适应有限元方法 ParAFEMCap,该方法实现了可以在上百乃至上千CPU核上运行的并行寄生电容提取,在1536 CPU核计算平台上达到75.7%左右的并行效率;另一方面,综述了一种结合边界元法和随机法的混合算法BIE-WOS,用于导体或介质面电荷密度计算,该方法具有随机法天然并行性的优势,易于实现大规模并行计算,本文进一步在5120核计算平台上验证了算法近似线性的并行加速比.在光刻仿真方面,基于自适应有限元计算框架(PHG)提出了集成电路光刻的并行自适应仿真方法,采用各项异性的单轴完美匹配层方法处理散射边界条件.(本文来源于《中国科学:信息科学》期刊2016年10期）
张之万,徐加彦,强盛[2]（2015）在《光刻机掩模台微动台建模及控制系统仿真》一文中研究指出光刻机在集成电路的大规模生产中占有重要地位。掩模台的高速度高精度控制直接决定了芯片制造的线宽及生产效率。本文介绍了运动控制中常用的叁环PID控制方法。此方法易于调试,控制精度高。分析了磁悬浮平台结构的摩擦阻力特性。通过实验测试及系统辨识得到控制系统传递函数模型后,进行仿真分析,确定了控制器参数。在控制系统中加入扰动信号进行仿真,证明系统在扰动存在下,控制可以达到预期纳米级精度。(本文来源于《自动化技术与应用》期刊2015年03期）
王一光,陈兴林,李晓杰[3]（2015）在《光刻机工件台宏动叁自由度建模及自适应神经网络控制》一文中研究指出提出了一种工件台宏动叁自由度建模方法以解决光刻机工件台宏动部分在X和Y方向的运动耦合问题并实现它的超精密长行程微米精度的跟踪定位。该建模方法将X方向电机的偏转角度作为被控对象并且在模型中包含了耦合效应对X方向运动的影响。基于此模型提出了一种自适应神经网络控制策略,该策略采用径向基函数(Radial Basis Function,RBF)神经网络对模型参数信息及外界非线性扰动进行实时在线估计,以减小未建模动态、电机齿槽力波动、端部效应、摩擦等扰动对控制系统性能的影响。通过对控制策略的理论推导和稳定性分析,保证了闭环控制系统的收敛性。最后在光刻机工件台上进行了S曲线跟踪定位试验,验证了宏动叁自由度建模方法和控制策略的效果。试验结果显示:X和Y方向的位置跟踪误差均小于3μm,X方向电机偏转角度小于1μrad,满足工件台宏动部分跟踪定位精度的要求。(本文来源于《光学精密工程》期刊2015年01期）
张之万,徐加彦,陈兴林,强盛[4]（2014）在《光刻机掩模台微动台建模及控制系统仿真仪器仪表与检测技术》一文中研究指出光刻机在集成电路的大规模生产中占有重要地位。掩模台的高速度高精度控制直接决定了芯片制造的线宽及生产效率。本文介绍了运动控制中常用的叁环PID控制方法。此方法易于调试,控制精度高。分析了磁悬浮平台结构的摩擦阻力特性。通过实验测试及系统辨识得到控制系统传递函数模型后,进行仿真分析,确定了控制器参数。在控制系统中加入扰动信号进行仿真,证明系统在扰动存在下,控制可以达到预期纳米级精度。(本文来源于《自动化技术与应用》期刊2014年11期）
陈鹏飞,王彦伟[5]（2013）在《基于Modelica的光刻机超精密工件台建模与仿真》一文中研究指出采用Modelica语言,建立光刻机超精密工件台仿真模型库,并在Mworks平台上进行联合仿真.仿真结果验证了模型的正确性,表明工件台的定位精度符合光刻机的设计要求.该仿真模型库包括直线电机模型、工件台动力学模型、PID控制器模型、逆变器模型等子模型,还可进行轨迹规划算法的比较分析,为光刻机超精密工件台的设计和改进提供了重要的分析工具和方法.(本文来源于《湖北工业大学学报》期刊2013年02期）
吴志会[6]（2012）在《光刻机掩模台动力学建模与分析》一文中研究指出掩模台作为光刻机核心单元之一，具有快速步进、超精密定位等功能，这对掩模台的动力学特性提出了非常高的要求。但是掩模台零部件众多，连接关系复杂，因此建立掩模台动力学模型并进行动力学分析是一项具有挑战的工作。本文对掩模台进行结构简化并进行子结构划分，提出了以多刚体离散元法为基础的掩模台整机动力学建模策略。以结构有限元模态分析结果为依据，采用多刚体离散元法描述掩模台子结构的结构柔性，并通过实验验证了所建模型的准确性；分别采用流体有限元分析方法与理论公式辨识了掩模台中气浮轴承和空气弹簧等关键连接件的动力学参数；进一步在ADAMS中建立了掩模台整机的动力学仿真模型。利用所建仿真模型，对掩模台进行模态分析，获取了整机的主要振动特性，并通过参数灵敏度分析对掩模台的模态频率优化提出了结构改进方案。通过掩模台步进运动时的俯仰振动响应分析，提出了直线电机驱动方式以及隔振消振系统设计方案的改进措施。在有限元分析、理论计算以及实验测试的基础上建立的掩模台动力学仿真模型能够较好的反映其实际动力学特性。通过整机的动力学仿真分析，获取了掩模台的振动规律，对掩模台进行优化设计，优化设计方案为下一轮掩模台设计提供了指导。(本文来源于《华中科技大学》期刊2012-01-01）
赵强,阎绍泽[7]（2010）在《光刻机精密运动平台的几何及运动误差建模》一文中研究指出为了提高光刻机硅片台和掩模台的运动精度,建立光刻机精密运动平台的几何及运动误差模型。引入低序体阵列描述光刻机的拓扑结构,采用齐次坐标变换表达多体系统中典型体的几何和运动误差,应用多体系统运动学建立了系统的结构和运动关系以及相应的定位误差方程。进一步分析了光刻机的运动误差链,推导了光刻机运动通用误差模型。以某光刻机精密工作台为例进行误差建模与分析,该方法和结果可为光刻机精度设计提供参考。(本文来源于《清华大学学报(自然科学版)》期刊2010年02期）
沈珊瑚[8]（2009）在《纳米级电路光刻建模及可制造性设计研究》一文中研究指出集成电路制造技术一直沿着摩尔定律向前进步,目前最先进的设计版图的关键尺寸(Critical Dimension,CD)已经达到了32nm。但是伴随着先进制造的系统性偏差也越来越显着,由于系统性偏差的效应可以用模型来模拟的,所以有必要研究一些关键的制造过程,通过模型预测来修正或者补偿由于系统偏差带来的影响。另外对于一些复杂的SoC设计而言,在物理设计签收之后,仅仅依靠制造一方通过修改版图设计(统称为光学邻近校正)而提高成品率的方法,已经是越来越困难。事实上,已经迫切需要在设计的阶段就考虑制造的影响,这就是纳米级电路的可制造性设计概念。可制造性设计技术是连接设计和制造的桥梁,通过这个接口,原本棘手的影响成品率的问题正在被一一解决。本论文就是在这样的背景之下,探索如何获得更为精确的现象经验型模型及解决版图可制造性这两大问题。下面概括本论文的主要研究内容和创新点:基于类贝塞尔采样函数的现象模型校准系统。一个面向超深亚微米光刻的模型必须要能够将次级畸变因素考虑进去,或者提供反映这些因素影响的参数。但是如果研究按照物理第一原理的方法来模拟这些畸变,会导致模拟时间过长,不适用于全芯片版图的仿真要求。所以需要用经验的或者黑盒子模型来表征这些影响。前人的研究发现,这些影响因素依然是可以用一个TCC矩阵来表现的,但是TCC矩阵一般是比较大的,难以直接修改其参数来优化。所以本文提出了一个新的流程。即先用一系列的类贝塞尔函数对TCC矩阵进行采样,重新得到的矩阵,定义为BTCC,在尺寸上已经是比较小。然后选择对角元素通过遗传的进化算法,来寻找全局最优解。实验结果表明,利用这种方法做的模型校准可以比较快速而准确地模拟设定的畸变影响。插入初始SRAF的逆向掩模综合。传统的光学邻近校正技术是基于启发式的迭代算法,将经过切割后的线段在EPE(Edge Placement Error)的目标函数下迭代直到收敛。但是在工艺技术达到32nm及以下时,这种依赖线段进行迭代的方法已经过于复杂,并且在校正精度上达不到预期的要求。因此需要重新回归到基于像素点直接数学求逆的掩模综合技术。本文提出基于二维离散余弦变换的像素映射方式,在计算流程上先在掩模的主图形附近插入初始的次分辨率辅助图形(SRAF),将这样的版图送入逆向综合引擎,从而得出新的版图。在插入SRAF的位置选取上研究了单个kernel的插入方式。实验发现,插入初始SRAF的逆向掩模综合技术可以比较好得优化版图,降低掩模的复杂度。基于自治OPC的可制造性设计。现有的光学邻近校正引擎只能对图形进行一般的校正,不能在必要的地方对图形做修改或者移动。本文创新性地提出了自治OPC(Autonomous OPC)的概念。OPC引擎可以结合新的数据表示方式对一些本来需要在布线阶段或者布线后修补的地方进行自治校正。这即区别于传统的在设计阶段进行早期通过预测的方式避免热点(HotSpots),又有别于现有OPC软件只有一定校正能力的事实。初期的实验证实,这样的全新的自治OPC的范例,可以在精确模型仿真的基础上,通过局部的修改,达到使原本容易出现问题的地方,或者本来工艺窗口不足够的地方,达到制造的要求,提高了工艺窗口,从而使得和版图相关的制造性问题得以解决。(本文来源于《浙江大学》期刊2009-04-21）
孙广毅,赵新,卢桂章[9]（2009）在《面向微加工的虚拟光刻系统建模与实现》一文中研究指出提出了一种面向微加工的虚拟光刻系统Litho3D。该系统采用傅立叶光学成像模型、光刻胶曝光及显影模型,实现了投影式光学光刻的叁维模拟。它拥有标准的GDSII、CIF版图格式接口和支持各种光学参数(包括数值孔径、波长、离焦量,光刻胶厚度、表面折射率等)的模拟设置。模拟结果的显示采用了体绘制与网格相结合的方法,增强了结果的可视性。此外,光刻模拟结果可以直接导入到虚拟工艺系统ZProcess中作为刻蚀工艺的掩膜输入,实现了光刻工艺与其他微机电系统(MEMS)工艺模拟的无缝集成。一系列模拟结果验证了该系统的可行性。(本文来源于《高技术通讯》期刊2009年01期）
聂宏飞,李小平[10]（2008）在《基于灰色辨识的光刻机恒温控制系统建模》一文中研究指出针对光刻机媒质远传温控系统的大惯性、多重时滞和多重扰动特点,采用理论建模与系统辨识相结合的建模方法,运用大系统解耦理论实现高阶模型的降阶分解,设计多态抗失真试验采集输出数据序列,采用系统辨识方法估计数学模型参数,建立分散时滞、扰动的温控系统动态数学模型。此模型已被成功运用于光刻机投影物镜高精度恒温控制系统中,达到了0.006℃的温度稳定度,并表现出较强的鲁棒性和自适应性。(本文来源于《机械工程学报》期刊2008年01期）
光刻建模论文开题报告
（1）论文研究背景及目的
此处内容要求：
首先简单简介论文所研究问题的基本概念和背景，再而简单明了地指出论文所要研究解决的具体问题，并提出你的论文准备的观点或解决方法。
写法范例：
光刻机在集成电路的大规模生产中占有重要地位。掩模台的高速度高精度控制直接决定了芯片制造的线宽及生产效率。本文介绍了运动控制中常用的叁环PID控制方法。此方法易于调试,控制精度高。分析了磁悬浮平台结构的摩擦阻力特性。通过实验测试及系统辨识得到控制系统传递函数模型后,进行仿真分析,确定了控制器参数。在控制系统中加入扰动信号进行仿真,证明系统在扰动存在下,控制可以达到预期纳米级精度。
（2）本文研究方法
调查法：该方法是有目的、有系统的搜集有关研究对象的具体信息。
观察法：用自己的感官和辅助工具直接观察研究对象从而得到有关信息。
实验法：通过主支变革、控制研究对象来发现与确认事物间的因果关系。
文献研究法：通过调查文献来获得资料，从而全面的、正确的了解掌握研究方法。
实证研究法：依据现有的科学理论和实践的需要提出设计。
定性分析法：对研究对象进行“质”的方面的研究，这个方法需要计算的数据较少。
定量分析法：通过具体的数字，使人们对研究对象的认识进一步精确化。
跨学科研究法：运用多学科的理论、方法和成果从整体上对某一课题进行研究。
功能分析法：这是社会科学用来分析社会现象的一种方法，从某一功能出发研究多个方面的影响。
模拟法：通过创设一个与原型相似的模型来间接研究原型某种特性的一种形容方法。
光刻建模论文参考文献
[1].朱恒亮,曾璇,崔涛,严昌浩,张林波.纳米集成电路互连线建模和光刻仿真中的大规模并行计算方法[J].中国科学:信息科学.2016
[2].张之万,徐加彦,强盛.光刻机掩模台微动台建模及控制系统仿真[J].自动化技术与应用.2015
[3].王一光,陈兴林,李晓杰.光刻机工件台宏动叁自由度建模及自适应神经网络控制[J].光学精密工程.2015
[4].张之万,徐加彦,陈兴林,强盛.光刻机掩模台微动台建模及控制系统仿真仪器仪表与检测技术[J].自动化技术与应用.2014
[5].陈鹏飞,王彦伟.基于Modelica的光刻机超精密工件台建模与仿真[J].湖北工业大学学报.2013
[6].吴志会.光刻机掩模台动力学建模与分析[D].华中科技大学.2012
[7].赵强,阎绍泽.光刻机精密运动平台的几何及运动误差建模[J].清华大学学报(自然科学版).2010
[8].沈珊瑚.纳米级电路光刻建模及可制造性设计研究[D].浙江大学.2009
[9].孙广毅,赵新,卢桂章.面向微加工的虚拟光刻系统建模与实现[J].高技术通讯.2009
[10].聂宏飞,李小平.基于灰色辨识的光刻机恒温控制系统建模[J].机械工程学报.2008