导读:本文包含了溅射薄膜式压力传感器论文开题报告文献综述及选题提纲参考文献，主要关键词:压力传感器,溅射薄膜,芯体,半导体生产,绝缘薄膜,蠕变特性,核性,膜片,长长,离子束溅射
溅射薄膜式压力传感器论文文献综述
梅小娟[1]（2019）在《用“芯”迈向高质量发展之路》一文中研究指出陈怀礼从洁净操作间走出来,到风淋口,摘掉帽子,脱下穿了一天的连体服,长长地舒了一口气。外面天色渐暗,楼下的白玉兰散发着阵阵幽香。几个月来,不停地试验、调试、整改、迭代、计算,今天,溅射薄膜压力传感器考核性试车终于满足了要求。攻克难关后的轻松和释(本文来源于《中国航天报》期刊2019-07-12）
蒋传生,章恺[2]（2016）在《溅射薄膜压力传感器敏感元件的制作工艺研究》一文中研究指出磁控溅射技术以其在制备薄膜中的独特优点,成为获得高性能薄膜材料的重要手段。采用掩膜法溅射的方法制作薄膜压力传感器敏感元件的电阻层,发现了掩膜法溅射在制作小间距线宽的弊端,引入了先溅射后光刻的制作工艺,实验结果表明,该方法能成功制作出所需的电阻图形。(本文来源于《机械制造与自动化》期刊2016年04期）
蒋传生[3]（2015）在《磁控溅射薄膜压力传感器的研制》一文中研究指出由于溅射薄膜压力传感器具有精度高、蠕变小、抗干扰能力强等诸多优点,因而在工业生产中得到了广泛应用。论文以磁控溅射薄膜压力传感器为对象,综合考虑现有硬件设备、成本和应用需求,确定了磁控溅射薄膜压力传感器的设计指标。在此基础上,开展了敏感元件的制作、信号调理电路的设计以及机械结构的设计等工作,并完成了相关测试工作。论文的主要工作如下:1、在应变电阻转换原理的基础上,对磁控溅射薄膜压力传感器的工作原理及核心敏感元件的应力分布进行了分析研究,并初步确定了敏感元件上的电阻分布。根据传感器的使用特点及溅射工艺要求,设计了电阻图形以及溅射过程中需要的掩膜板。利用磁控溅射技术进行溅射镀膜,分别采用掩膜法和溅射光刻二步法,探索了敏感元件的制作工艺。根据腐蚀后的电阻阻值,选用微细电解法对传感器电阻膜进行阻值调整。2、在传感器信号调理电路设计时,首先对传感器初始不平衡误差、零点温度误差以及灵敏度误差进行了补偿。然后使用INA125UA芯片,设计信号调理电路,对传感器的输出信号进行放大与调理。3、机械结构根据传感器的特点及测试的方便进行了设计,包括基体、联接件、套筒、端盖的设计。4、在上述研究的基础上,研制成功磁控溅射薄膜压力传感器,通过搭建测试平台,对传感器进行了测试,测试结果表明达到了拟定的设计要求。(本文来源于《南京航空航天大学》期刊2015-01-01）
曾晓斌[4]（2009）在《溅射薄膜式压力传感器可靠性研究》一文中研究指出溅射薄膜式压力传感器具有优越的耐恶劣环境性能,已成为中高压力测量的主力传感器,广泛应用于电力、机械、冶金、能源等领域的压力测量。溅射薄膜式压力传感器设计因素复杂,包含多种新型工艺,影响其可靠性的不确定因素众多。因此,如何通过可靠性设计、分析、试验对其可靠性进行研究,是溅射薄膜式压力传感器研究与应用中的关键问题之一。本文针对溅射薄膜式压力传感器的可靠性开展研究,建立传感器可靠性综合评价方法,分别从弹性膜片结构、敏感芯片绝缘耐压性能、传感器静电敏感性能叁方面研究提高传感器可靠性的技术途径,为优化传感器的设计和工艺提供支持。本文的主要研究内容与成果如下：(1)运用基于层次分析的模糊综合评价方法实现传感器可靠性的综合评价,并通过分析找出影响传感器可靠性的关键因素—弹性膜片结构、敏感芯片绝缘耐压性能、传感器静电敏感性能。(2)对溅射薄膜式压力传感器的敏感弹性膜片进行理论分析和设计,并应用有限元方法对膜片进行应力应变分析,对膜片设计参数进行验证。(3)利用正交试验对敏感芯片绝缘膜的工艺参数进行实验研究,通过方差分析找出影响绝缘性能的显着因子,在此基础上对工艺参数进行优化,改善绝缘膜的镀制工艺过程,提高敏感芯片的绝缘性能。(4)针对溅射薄膜式压力传感器的超差故障实例,利用故障树分析和故障复现试验确定故障原因,分析传感器的静电作用机理,并分别提出设计、制造、使用过程的静电防护措施。综上所述,本文针对溅射薄膜式压力传感器的可靠性问题,系统研究传感器可靠性综合评价及优化方法,对于我国溅射薄膜式压力传感器的研究与应用具有重要的理论与工程意义。(本文来源于《国防科学技术大学》期刊2009-02-01）
常增坡,唐柏森[5]（2001）在《离子束溅射薄膜压力传感器的动态特性》一文中研究指出用数学建模的方法将相同结构参数的离子束溅射薄膜压力传感器和粘贴式应变计压力传感器动态特性做比较 ,二者在瞬态特性上基本相同。但在宽脉冲方波气压激励下 ,所用溅射薄膜压力传感器出现响应失真现象。对问题的产生原因和机理进行分析 ,认为问题的产生原因可能在于方波压力上升沿导致的被测气体温度变化。(本文来源于《传感器技术》期刊2001年06期）
常增坡,唐柏森[6]（2000）在《离子束溅射薄膜压力传感器的动态特性》一文中研究指出用数学建模的方法将相同结构参数的离子束溅射薄膜压力传感器和粘贴式应变压力传感器动态特性做比较,二者在瞬态特性上基本相同。但在宽脉冲方波气压激励下,所用溅射薄膜压力传感器出现响应失真现象。对问题的产生原因和机理进行分析,认为问题的产生原因在于方波压力上升沿导致的被测气体温度变化。(本文来源于《2000全国力学量传感器及测试、计量学术交流会论文集》期刊2000-07-01）
王洪业,安志超[7]（1993）在《离子束溅射薄膜压力传感器》一文中研究指出对比各种成膜技术制作的传感器中,以高频溅射法者为最佳.成品有长期的稳定性能,在零位时达0.1×10~(-2)/10a水平.除满足航天、兵器、原子能等尖端技术要求外,业已广泛用于石油、化工、汽车等领域中.高频溅射制作传感器的不足处是工艺控制参数多(电压、靶距、气压等),调节范围又小,以致难于保证成品质量,因此至今只有少数国家掌握它.现介绍给读者的为离子束溅射成膜技术.它既保持了高频溅射法的优点(高熔点膜、附着力强、组成可控),同时又可克服它的缺点,保证了成膜质量,为制作长期稳定、高可靠传感器提供了一种新的生产技术.(本文来源于《传感技术学报》期刊1993年02期）
史荣祥[8]（1992）在《5CYJ型井下溅射薄膜压力传感器》一文中研究指出本文介绍了一种新型应变式溅射薄膜压力传感器和它的结构原理及其应变栅的设计、制作、老化工艺.该传感器具有体积小、量程大、精度高、长期稳定性好等特点,它主要用于油田井下压力的测量,也可用于其他工业部门.(本文来源于《测控技术》期刊1992年02期）
河井正安,深田治男,赵秀英[9]（1992）在《溅射薄膜应变式压力传感器》一文中研究指出利用溅射使材料薄膜化的技术在电子器件以及其它方面得到了迅速的发展。这是因为薄膜具有和体材料不同的性质,利用这种性质就有可能得到以前技术不能得到的器件。溅射薄膜应变式压力传感器就是正在开发中的这类器件中的一种。这种溅射薄膜应变式传感器是利用通过溅射在产生应变的梁和膜片等上面直接形成薄膜。它的组成材料全部是无机物,厚度非常薄,是原来的箔式应变片的1/10,而且有耐热性好和形状规则等许多优点。(本文来源于《微细加工技术》期刊1992年01期）
杨北南[10]（1988）在《3CYJ型溅射薄膜压力传感器》一文中研究指出该型传感器是继研制出2CYJ型溅射薄膜压力传感器之后的又一种应变式溅射薄膜压力传感器,这种传感器用于大压力测量。它具有精度高,迟滞和蠕变小,长期稳定性好等优点。精度可优于0.15%,重复性、迟滞可优于0.05%,工作温度范围为-55℃～+150℃。(本文来源于《测控技术》期刊1988年02期）
溅射薄膜式压力传感器论文开题报告
（1）论文研究背景及目的
此处内容要求：
首先简单简介论文所研究问题的基本概念和背景，再而简单明了地指出论文所要研究解决的具体问题，并提出你的论文准备的观点或解决方法。
写法范例：
磁控溅射技术以其在制备薄膜中的独特优点,成为获得高性能薄膜材料的重要手段。采用掩膜法溅射的方法制作薄膜压力传感器敏感元件的电阻层,发现了掩膜法溅射在制作小间距线宽的弊端,引入了先溅射后光刻的制作工艺,实验结果表明,该方法能成功制作出所需的电阻图形。
（2）本文研究方法
调查法：该方法是有目的、有系统的搜集有关研究对象的具体信息。
观察法：用自己的感官和辅助工具直接观察研究对象从而得到有关信息。
实验法：通过主支变革、控制研究对象来发现与确认事物间的因果关系。
文献研究法：通过调查文献来获得资料，从而全面的、正确的了解掌握研究方法。
实证研究法：依据现有的科学理论和实践的需要提出设计。
定性分析法：对研究对象进行“质”的方面的研究，这个方法需要计算的数据较少。
定量分析法：通过具体的数字，使人们对研究对象的认识进一步精确化。
跨学科研究法：运用多学科的理论、方法和成果从整体上对某一课题进行研究。
功能分析法：这是社会科学用来分析社会现象的一种方法，从某一功能出发研究多个方面的影响。
模拟法：通过创设一个与原型相似的模型来间接研究原型某种特性的一种形容方法。
溅射薄膜式压力传感器论文参考文献
[1].梅小娟.用“芯”迈向高质量发展之路[N].中国航天报.2019
[2].蒋传生,章恺.溅射薄膜压力传感器敏感元件的制作工艺研究[J].机械制造与自动化.2016
[3].蒋传生.磁控溅射薄膜压力传感器的研制[D].南京航空航天大学.2015
[4].曾晓斌.溅射薄膜式压力传感器可靠性研究[D].国防科学技术大学.2009
[5].常增坡,唐柏森.离子束溅射薄膜压力传感器的动态特性[J].传感器技术.2001
[6].常增坡,唐柏森.离子束溅射薄膜压力传感器的动态特性[C].2000全国力学量传感器及测试、计量学术交流会论文集.2000
[7].王洪业,安志超.离子束溅射薄膜压力传感器[J].传感技术学报.1993
[8].史荣祥.5CYJ型井下溅射薄膜压力传感器[J].测控技术.1992
[9].河井正安,深田治男,赵秀英.溅射薄膜应变式压力传感器[J].微细加工技术.1992
[10].杨北南.3CYJ型溅射薄膜压力传感器[J].测控技术.1988