本文主要研究内容
作者马俊,王冰,范海冬,蒋晗（2019）在《基底纹理对镍/铜纳米双层膜刮擦行为影响的分子动力学模拟》一文中研究指出：采用分子动力学模拟研究纳米尺度下的镍/铜双层膜的表面刮擦响应.考虑基底铜膜材料的不同表面纹理,建立分子动力学模拟模型,分析了纳米双层膜不同基底纹理下的刮擦响应,并且对比了两种典型基底纹理下不同刮头半径、不同刮擦深度对纳米双层膜刮擦响应的影响.研究结果发现:不同的基底纹理下,位错缺陷程度的不同会导致刮头前方的切屑体积不同,存在切屑体积最大的基底纹理;针对两种典型基底纹理,在刮擦深度或刮头半径一定时,刮擦力随刮头半径或刮擦深度的增加而增大;当刮擦深度或刮头半径超过临界值时,表面具有特定齿槽纹理的基底具有一定的减摩作用.
Abstract
cai yong fen zi dong li xue mo ni yan jiu na mi che du xia de nie /tong shuang ceng mo de biao mian gua ca xiang ying .kao lv ji de tong mo cai liao de bu tong biao mian wen li ,jian li fen zi dong li xue mo ni mo xing ,fen xi le na mi shuang ceng mo bu tong ji de wen li xia de gua ca xiang ying ,bing ju dui bi le liang chong dian xing ji de wen li xia bu tong gua tou ban jing 、bu tong gua ca shen du dui na mi shuang ceng mo gua ca xiang ying de ying xiang .yan jiu jie guo fa xian :bu tong de ji de wen li xia ,wei cuo que xian cheng du de bu tong hui dao zhi gua tou qian fang de qie xie ti ji bu tong ,cun zai qie xie ti ji zui da de ji de wen li ;zhen dui liang chong dian xing ji de wen li ,zai gua ca shen du huo gua tou ban jing yi ding shi ,gua ca li sui gua tou ban jing huo gua ca shen du de zeng jia er zeng da ;dang gua ca shen du huo gua tou ban jing chao guo lin jie zhi shi ,biao mian ju you te ding chi cao wen li de ji de ju you yi ding de jian ma zuo yong .
论文参考文献
论文详细介绍
论文作者分别是来自摩擦学学报的马俊,王冰,范海冬,蒋晗，发表于刊物摩擦学学报2019年05期论文，是一篇关于纳米薄膜论文,基底纹理论文,纳米刮擦论文,分子动力学模拟论文,铜双层膜论文,摩擦学学报2019年05期论文的文章。本文可供学术参考使用，各位学者可以免费参考阅读下载，文章观点不代表本站观点，资料来自摩擦学学报2019年05期论文网站，若本站收录的文献无意侵犯了您的著作版权，请联系我们删除。
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