导读:本文包含了深沟槽结构论文开题报告文献综述及选题提纲参考文献，主要关键词:透射电子显微镜,样品制备技术,聚焦离子束,动态随机存储器电容
深沟槽结构论文文献综述
张启华,高强,李明,牛崇实,简维廷[1]（2010）在《适用于深沟槽结构观测的TEM样品制备技术》一文中研究指出对于深沟槽DRAM电容这类纵向深度深(超过5μm)但是平面尺寸又很小(小于0.2μm×0.2μm)的结构来说,传统的TEM制样方法,无法满足其细微结构全面观测的需求,此外传统的方法制样也比较费时,成功率也比较低。介绍了一种"FIB横向切割"技术,适用于对这类结构的观测。它与传统FIB制样方法的主要区别在于,切割方向由纵向切割改为横向切割。用这种方法制备的TEM样品,可以完整地观测同一个深沟槽DRAM电容结构的所有细微结构。制样过程比较简单、速度快、成功率高。以一个实例分析、比较了传统制样方法和新的制样方法,突显了"FIB横向切割"技术的优点。(本文来源于《半导体技术》期刊2010年02期）
张传维[2]（2009）在《基于模型的微纳深沟槽结构红外反射谱测量方法研究》一文中研究指出在微电子和微机电系统设计与制造工艺中,目前普遍采用了高深宽比的深沟槽结构。随着沟槽尺寸不断缩小且沟槽剖面形貌更为复杂,监测沟槽深度相关的几何特征参数对于保证工艺控制已变得越来越迫切。目前普遍采用的终点控制法,假定刻蚀速率等于刻蚀深度除以刻蚀时间。由于刻蚀速率与多种因素有关而在刻蚀过程中很难保持定值,因此误差较大。为了实现有效的工艺控制,在制造过程中对深沟槽结构的尺寸进行在线、非破坏性的精确检测具有非常重要的意义。为此,本学位论文以此为研究背景,系统研究了微纳深沟槽结构基于模型的反射光谱测量理论与方法,并成功研制开发一套基于模型的红外反射谱测量原型系统。建立了高深宽比微纳深沟槽结构的等效光学模型,针对一维周期性结构和二维周期性结构分别提出了一种基于修正等效介质理论的光学反射率计算新方法。通过对各种典型微纳深沟槽结构反射特性进行仿真分析,探讨了沟槽结构反射光谱特性与其对应几何特征参数之间的联系。研究了基于测量光谱反演分析的沟槽结构参数快速提取技术,基于已建立的深沟槽结构光学特性模型,分别提出了基于自适应模拟退火结合LM算法以及人工神经网络结合LM算法的参数提取快速算法,并对以上两种参数提取算法进行仿真分析,验证该方法在沟槽结构参数提取中的快速性以及提取结构参数的准确性。研制了一套基于模型的红外反射谱测量原型系统,研究了高灵敏度红外探测光路设计、硅片样件背部杂散光干扰消除、光谱测量高速数据采集、信号分析及沟槽参数自动提取软件包开发等关键技术。利用该测量原型系统对多层光学薄膜结构、典型深沟槽结构进行了实验研究,验证了所提测量理论与方法的有效性和适用性。本文所研究的基于模型的红外反射谱测量法为深沟槽结构刻蚀在线测量提供了一种非接触、非破坏、快速、低成本和高精度的新途径,在微机电系统及集成电路制造过程中的在线监测与工艺控制方面具有广阔的应用前景。特别是在DRAM深沟槽缺陷原位检测、高深宽比微纳结构刻蚀实时监控、全场硅片CD均匀性快速评估等方面将获得广泛的应用。(本文来源于《华中科技大学》期刊2009-09-01）
刘世元,张传维,沈宏伟,顾华勇[3]（2009）在《基于傅里叶变换红外反射谱的DRAM深沟槽结构测量系统研究》一文中研究指出提出了一种基于傅里叶变换红外(FTIR)反射谱的动态随机存储器(DRAM)深沟槽结构测量方法与系统。给出了测量原理与方法,设计了测量系统光路。通过可变光阑调节探测光斑大小并选择合适的入射角,消除了背面杂散光反射干扰的影响,大大提高了信噪比。对DRAM深沟槽样品进行反射光谱图测试与实验研究,表明所述方法与系统能够提取出纳米级精度的深沟槽参数。该技术提供了一种无接触、非破坏、快速、低成本和高精度的深沟槽结构测量新途径,在集成电路制造过程中的在线监测与工艺控制方面具有广阔的应用前景。(本文来源于《光谱学与光谱分析》期刊2009年04期）
刘世元,顾华勇,张传维,沈宏伟[4]（2008）在《基于修正等效介质理论的微纳深沟槽结构反射率快速算法研究》一文中研究指出利用等效介质理论和严格耦合波理论研究比较微纳米级高深宽比深沟槽结构的红外反射谱,提出一种对等效折射率加入色散修正项的深沟槽结构反射率快速算法.通过超越色散方程分析和大量计算发现,加入的等效折射率色散修正项与波长的平方成反比,并且与深沟槽结构的材料、周期和占空比有关.这种新的计算方法可以非常精确地获得高深宽比深沟槽结构的反射率,而且明显提高了运算速度,在复杂深沟槽结构基于模型的红外反射谱测量中具有重要的应用价值,可以应用于微电子和微机电系统制造过程中高深宽比微纳深沟槽结构刻蚀进度的在线实时监测.(本文来源于《物理学报》期刊2008年09期）
沈宏伟[5]（2008）在《微纳深沟槽结构测量系统研究》一文中研究指出在微电子和微机电系统(MEMS)设计与制造工艺过程中,目前广泛采用了高深宽比的深沟槽结构。传统的测量方式很难甚至无法实现对深沟槽深度的测量,因此需要采用光学的方法对深沟槽结构的尺寸进行精确检测。本学位论文在国家高技术研究发展计划(863计划)的资助下,研制高深宽比微纳深沟槽结构基于模型的红外反射谱测量方法与设备。主要工作如下:提出了一种基于模型的傅立叶变换红外反射谱(FTIR)测量微纳深沟槽结构的方法,设计了整个测量系统的软硬件体系,重点调试并校正光学系统,结合专门的光学设计,提出了消除硅片背面反射光干扰的有效途径。将红外光源、反射探测光路、迈克耳逊干涉仪、控制计算机等硬件集成在一起,在此基础上,完成了红外反射谱测量系统原理样机的研制。在MATLAB开发环境中进行测量系统软件的开发工作。通过编制信号采集软件,使系统能采集到高信噪比的红外光谱图。利用测量系统软件完成理论反射谱与测量反射谱的拟合和参数提取。在分别完成测量系统硬件和软件的基础上,开展软硬件系统的集成调试和性能优化。对常规薄膜堆栈结构样品进行测量实验,分析并验证算法的可行性和有效性。对测量系统的各种误差因素进行理论分析,进一步优化光学设计,最大限度减少硬件系统误差。通过分析标准件测量结果,对测量系统进行精密标定,提高系统的测量精度和稳定性。本论文的内容为DRAM深沟槽结构的基于模型的傅立叶变换红外反射谱测量设备研制与实验方法研究。通过硬件结构设计和测量理论研究,以及与实验测量相结合,完成傅立叶变换红外反射谱测量系统样机的研制与实验调试。(本文来源于《华中科技大学》期刊2008-05-01）
顾华勇[6]（2008）在《微纳深沟槽结构光学反射特性与参数提取算法研究》一文中研究指出在微电子和微机电系统(MEMS)设计与制造工艺过程中,目前广泛采用了高深宽比的深沟槽结构,传统的测量方式无法实现对其深度的测量,因此需要采用光学的方法对深沟槽结构的尺寸进行精确检测。本学位论文在国家高技术研究发展计划(863计划)、国家自然科学基金和新世纪优秀人才支持计划的资助下,研制高深宽比微纳深沟槽结构基于模型的红外反射谱测量方法与设备。针对硅等半导体材料的光学特性,提出基于红外反射模型的微纳深沟槽测量方法。中红外光经过傅立叶变换红外光谱仪后形成干涉光再入射进入样品,利用探测器获取反射后的光信息,然后经过计算机处理提取深沟槽的特征尺寸信息。本文运用等效介质理论将深沟槽转化为具有同样光学特性的层状模型,并采用菲涅耳公式和传输矩阵理论计算深沟槽的反射谱,同时采用严格耦合波理论进行比较,提出一种对等效折射率加入色散修正项的反射率计算方法,这种方法即精确又快速,适用于深沟槽反射模型的建立。研究了基于模拟退火算法和LM算法的深沟槽参数提取方法,采用将两者结合的方式,对深沟槽的测量反射谱进行反演计算从而提取沟槽的特征尺寸参数。利用MATLAB编程模拟仿真了标准的斜壁深沟槽和瓶装深沟槽的反射谱,分析和总结了深沟槽的深度,顶部宽度,底部宽度,占空比等几何特征尺寸对红外光反射谱的影响。并采用自行设计的实验系统完成了对薄膜的测量,并对实验结果进行了分析。(本文来源于《华中科技大学》期刊2008-05-01）
深沟槽结构论文开题报告
（1）论文研究背景及目的
此处内容要求：
首先简单简介论文所研究问题的基本概念和背景，再而简单明了地指出论文所要研究解决的具体问题，并提出你的论文准备的观点或解决方法。
写法范例：
在微电子和微机电系统设计与制造工艺中,目前普遍采用了高深宽比的深沟槽结构。随着沟槽尺寸不断缩小且沟槽剖面形貌更为复杂,监测沟槽深度相关的几何特征参数对于保证工艺控制已变得越来越迫切。目前普遍采用的终点控制法,假定刻蚀速率等于刻蚀深度除以刻蚀时间。由于刻蚀速率与多种因素有关而在刻蚀过程中很难保持定值,因此误差较大。为了实现有效的工艺控制,在制造过程中对深沟槽结构的尺寸进行在线、非破坏性的精确检测具有非常重要的意义。为此,本学位论文以此为研究背景,系统研究了微纳深沟槽结构基于模型的反射光谱测量理论与方法,并成功研制开发一套基于模型的红外反射谱测量原型系统。建立了高深宽比微纳深沟槽结构的等效光学模型,针对一维周期性结构和二维周期性结构分别提出了一种基于修正等效介质理论的光学反射率计算新方法。通过对各种典型微纳深沟槽结构反射特性进行仿真分析,探讨了沟槽结构反射光谱特性与其对应几何特征参数之间的联系。研究了基于测量光谱反演分析的沟槽结构参数快速提取技术,基于已建立的深沟槽结构光学特性模型,分别提出了基于自适应模拟退火结合LM算法以及人工神经网络结合LM算法的参数提取快速算法,并对以上两种参数提取算法进行仿真分析,验证该方法在沟槽结构参数提取中的快速性以及提取结构参数的准确性。研制了一套基于模型的红外反射谱测量原型系统,研究了高灵敏度红外探测光路设计、硅片样件背部杂散光干扰消除、光谱测量高速数据采集、信号分析及沟槽参数自动提取软件包开发等关键技术。利用该测量原型系统对多层光学薄膜结构、典型深沟槽结构进行了实验研究,验证了所提测量理论与方法的有效性和适用性。本文所研究的基于模型的红外反射谱测量法为深沟槽结构刻蚀在线测量提供了一种非接触、非破坏、快速、低成本和高精度的新途径,在微机电系统及集成电路制造过程中的在线监测与工艺控制方面具有广阔的应用前景。特别是在DRAM深沟槽缺陷原位检测、高深宽比微纳结构刻蚀实时监控、全场硅片CD均匀性快速评估等方面将获得广泛的应用。
（2）本文研究方法
调查法：该方法是有目的、有系统的搜集有关研究对象的具体信息。
观察法：用自己的感官和辅助工具直接观察研究对象从而得到有关信息。
实验法：通过主支变革、控制研究对象来发现与确认事物间的因果关系。
文献研究法：通过调查文献来获得资料，从而全面的、正确的了解掌握研究方法。
实证研究法：依据现有的科学理论和实践的需要提出设计。
定性分析法：对研究对象进行“质”的方面的研究，这个方法需要计算的数据较少。
定量分析法：通过具体的数字，使人们对研究对象的认识进一步精确化。
跨学科研究法：运用多学科的理论、方法和成果从整体上对某一课题进行研究。
功能分析法：这是社会科学用来分析社会现象的一种方法，从某一功能出发研究多个方面的影响。
模拟法：通过创设一个与原型相似的模型来间接研究原型某种特性的一种形容方法。
深沟槽结构论文参考文献
[1].张启华,高强,李明,牛崇实,简维廷.适用于深沟槽结构观测的TEM样品制备技术[J].半导体技术.2010
[2].张传维.基于模型的微纳深沟槽结构红外反射谱测量方法研究[D].华中科技大学.2009
[3].刘世元,张传维,沈宏伟,顾华勇.基于傅里叶变换红外反射谱的DRAM深沟槽结构测量系统研究[J].光谱学与光谱分析.2009
[4].刘世元,顾华勇,张传维,沈宏伟.基于修正等效介质理论的微纳深沟槽结构反射率快速算法研究[J].物理学报.2008
[5].沈宏伟.微纳深沟槽结构测量系统研究[D].华中科技大学.2008
[6].顾华勇.微纳深沟槽结构光学反射特性与参数提取算法研究[D].华中科技大学.2008