高陇桥:我国高纯度氧化铝电子陶瓷的技术进步论文

高陇桥:我国高纯度氧化铝电子陶瓷的技术进步论文

本文主要研究内容

作者高陇桥(2019)在《我国高纯度氧化铝电子陶瓷的技术进步》一文中研究指出:本文叙述了我国几十年来高纯度氧化铝电子陶瓷的技术进步,随着电子器件功率的增大和电力电子技术的快速发展,高纯度氧化铝电子陶瓷的各种性能都需要相应的提升。本文也介绍了一些典型的国内外这方面陶瓷的配方,以资比较。通过多方面的应用和比较,确认四元系高纯度氧化铝电子陶瓷是氧化铝陶瓷家族中较为优秀的一员,应该得到进一步的推广和应用。

Abstract

ben wen xu shu le wo guo ji shi nian lai gao chun du yang hua lv dian zi tao ci de ji shu jin bu ,sui zhao dian zi qi jian gong lv de zeng da he dian li dian zi ji shu de kuai su fa zhan ,gao chun du yang hua lv dian zi tao ci de ge chong xing neng dou xu yao xiang ying de di sheng 。ben wen ye jie shao le yi xie dian xing de guo nei wai zhe fang mian tao ci de pei fang ,yi zi bi jiao 。tong guo duo fang mian de ying yong he bi jiao ,que ren si yuan ji gao chun du yang hua lv dian zi tao ci shi yang hua lv tao ci jia zu zhong jiao wei you xiu de yi yuan ,ying gai de dao jin yi bu de tui an he ying yong 。

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  • 论文详细介绍

    论文作者分别是来自真空电子技术的高陇桥,发表于刊物真空电子技术2019年01期论文,是一篇关于高纯度氧化铝电子陶瓷论文,技术进步论文,组分论文,低共熔点论文,四元系统论文,真空电子技术2019年01期论文的文章。本文可供学术参考使用,各位学者可以免费参考阅读下载,文章观点不代表本站观点,资料来自真空电子技术2019年01期论文网站,若本站收录的文献无意侵犯了您的著作版权,请联系我们删除。

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