本文主要研究内容
作者张鹏远,孟国哲(2019)在《硫酸铈对脉冲电沉积Ni-Cu纳米涂层腐蚀行为的影响》一文中研究指出:本工作采用脉冲电沉积技术在含0,110,150,190和230 mg/L硫酸铈镀液中制备Ni-Cu纳米结构镀层。通过扫描电子显微镜(SEM),动电位极化和电化学阻抗谱(EIS)研究了硫酸铈对镀层结构,形貌和耐蚀性的影响。使用X射线光电子能谱(XPS)和Mott-Schottky分析来评估在镀层上形成的钝化膜的性质。结果表明,Ni,Cu和Ce共存于镀层中。Ce可以对氧空位的向外传输和阳离子空位
Abstract
ben gong zuo cai yong mai chong dian chen ji ji shu zai han 0,110,150,190he 230 mg/Lliu suan shi du ye zhong zhi bei Ni-Cuna mi jie gou du ceng 。tong guo sao miao dian zi xian wei jing (SEM),dong dian wei ji hua he dian hua xue zu kang pu (EIS)yan jiu le liu suan shi dui du ceng jie gou ,xing mao he nai shi xing de ying xiang 。shi yong Xshe xian guang dian zi neng pu (XPS)he Mott-Schottkyfen xi lai ping gu zai du ceng shang xing cheng de dun hua mo de xing zhi 。jie guo biao ming ,Ni,Cuhe Cegong cun yu du ceng zhong 。Ceke yi dui yang kong wei de xiang wai chuan shu he yang li zi kong wei
论文参考文献
论文详细介绍
论文作者分别是来自第十届全国腐蚀大会的张鹏远,孟国哲,发表于刊物第十届全国腐蚀大会2019-10-24论文,是一篇关于,第十届全国腐蚀大会2019-10-24论文的文章。本文可供学术参考使用,各位学者可以免费参考阅读下载,文章观点不代表本站观点,资料来自第十届全国腐蚀大会2019-10-24论文网站,若本站收录的文献无意侵犯了您的著作版权,请联系我们删除。