导读:本文包含了反应共溅射法论文开题报告文献综述及选题提纲参考文献，主要关键词:磁控溅射,氮化钇,氮氧化钇,薄膜性能
反应共溅射法论文文献综述
渠溪溪[1]（2019）在《反应溅射法生长YO_xN_y薄膜的性能及红外光学应用研究》一文中研究指出多光谱硫化锌能够实现近红外至长红外的光学透过,是飞行器红外窗口基底的首选材料。但是硫化锌质地较软,脆性大,当飞行器高速飞行时,在使役环境大气中,红外窗口会受到来自砂石、雨滴等的冲击损伤,故必须涂覆增透保护膜。并且,传统薄膜材料的硬度已无法满足要求,故必须研制超硬增透保护薄膜材料。过渡族金属氮化物(T(transition)M(metal)N(nitrides)_x)薄膜由于具有类似的高硬度、良好的热稳定性、良好的扩散阻挡性、抗氧化性、耐磨损和耐腐蚀等优异的光学和力学性质而受到了广泛的关注。但由于金属元素与氮元素较强的结合力,使薄膜在硬度提高的同时损失了红外透过性能。考虑到金属氧化物在红外增透方面良好的性能,故在氮化物薄膜中加入氧元素。本文采用射频反应磁控溅射方法,分别以石英片和硅片为衬底,研究制备参数中温度对氮化钇薄膜性能的影响,氧气流量对氮氧化钇薄膜性能的影响。并采用探针式轮廓仪、原子力显微镜(AFM)、X射线衍射仪(XRD)、X射线光电子能谱(XPS)、椭偏仪(SE)、紫外可见光分光光度计、纳米压痕等测试手段对薄膜的结构、光学特征、力学特征等进行了测试分析。根据测试结果,选择合适的温度和氧气流量分别在ZnS基底上镀制氮化钇和氮氧化钇薄膜,并用傅里叶红外光谱仪(FTIR)测试薄膜在红外范围的透过率。研究结果表明,衬底温度对氮化钇薄膜性能具有较大的影响。衬底温度对于薄膜的沉积速率没有太大影响;温度升高,薄膜的表面粗糙度降低;XRD结果表明,在室温至500℃范围内结晶相为氮化钇,并随温度升高,结晶度先下降后增加,在600℃时,薄膜中的结晶相变为氧化钇;XPS结果显示,衬底温度的升高使薄膜中成键氧含量增加,使得温度较高时薄膜中结晶相变为氧化钇;椭偏结果表明氮化钇为反常色散材料,消光系数一直维持在较小值;温度升高,氮化钇薄膜的光学带隙增加,但变化不明显,光学带隙值均为2.2eV左右;薄膜的硬度发生了较大的改变,衬底温度升高使薄膜硬度值有了显着的增加。氧气流量对于氮氧化钇薄膜的性能影响不大。随着氧气流量的增加,沉积速率逐渐下降;表面粗糙度下降;XRD结果显示,薄膜为立方氧化钇结构,氮元素以间隙原子形式存在,并且随氧气流量增加,结晶度逐渐下降;XPS结果显示,随氧气流量增加,薄膜中O元素的含量显着增加;椭偏结果证明氮氧化钇薄膜为正常色散材料;氧气流量增大时,薄膜光学带隙值增加,并且都大于YN的光学带隙值,小于Y_2O_3的光学带隙值,说明通入氧气后,薄膜的光学性能有所提高;薄膜的硬度变化不明显。在ZnS衬底上分别镀制了氮化钇及氮氧化钇薄膜。氮化钇薄膜透过率最大为75%,在近红外及中红外波段范围内,透过率有所提高;氮氧化钇薄膜透过率最大为88%,在近红外、中红外及远红外波段范围内均有较大的提高。镀制氮化钇及氮氧化钇薄膜后的透过率均大于ZnS衬底70%的数值。并且氮化钇薄膜最大的硬度值为8.5 GPa,可以综合利用氮化钇薄膜的高硬度及氮氧化钇薄膜的高透过率,根据膜系设计理论,制备复合薄膜,达到红外增透保护的效果。(本文来源于《哈尔滨工业大学》期刊2019-06-01）
贺春林,高建君,王苓飞,马国峰,刘岩[2]（2018）在《N_2流量对反应共溅射TiN/Ni纳米复合膜结构和结合强度的影响》一文中研究指出以高纯Ti和Ni为靶材,在不同N_2气流量下反应磁控共溅射了TiN/Ni纳米复合膜,采用原子力显微镜、X射线衍射、X射线光电子能谱、场发射扫描电镜和划痕试验研究了N_2气流量对复合膜微结构、界面结合力和摩擦系数的影响。结果表明,共溅射TiN/Ni纳米复合膜组织细小、表面光滑、致密。TiN为fcc结构,其择优取向为(111)面。随N_2气流量增加,复合膜孔隙率、晶粒尺寸和沉积速率均出现不同程度的下降;而膜表面粗糙度先减小后增大,界面结合力则先提高后下降。本实验条件下,在N_2气流量为16mL/min时所沉积的复合膜表面粗糙度最小、界面结合力最好,分别为2.75nm和44.6N,此时复合膜的摩擦系数最低,为0.14。(本文来源于《材料导报》期刊2018年12期）
杨功胜,郭智文,顾广瑞,吴宝嘉[3]（2018）在《反应磁控共溅射制备Ti掺杂的Cu_3N薄膜的特性研究》一文中研究指出为了研究钛掺杂对Cu_3N薄膜特性的影响,利用射频和直流反应共溅射方法,在硅(100)和ITO玻璃衬底上,成功制备了不同Ti掺杂量的Cu_3N薄膜(Ti-Cu_3N薄膜).通过X射线衍射(XRD)发现,Ti-Cu_3N薄膜的结晶度均低于未掺杂的Cu_3N薄膜,但是随着Ti掺杂量的增加,结晶度增强.Ti-Cu_3N薄膜的晶格常数随着Ti掺杂量的增加先增后减,但均接近于Cu_3N的理论值.扫描电子显微镜(SEM)图片显示,随着Ti掺杂量的增加,薄膜表面变得粗糙,晶粒大小变得均匀.薄膜的微观硬度在Ti掺杂量为1.86at%时达到5.04GPa,而未掺杂的为4.19GPa.随着Ti掺杂量的增加,薄膜电阻率逐渐从未掺杂的5.73kΩ·cm下降到Ti掺杂量为1.86at%时的1.21kΩ·cm.Ti的掺杂使薄膜的平均反射率变大,但过量的Ti会导致透过率下降.随着Ti掺杂量的增加,薄膜的带隙先增大后减小,Ti掺杂量为1.60at%时获得1.39eV的最大带隙值.(本文来源于《延边大学学报(自然科学版)》期刊2018年01期）
贺春林,高建君,王苓飞,陈宏志,付馨莹[4]（2018）在《基体温度对反应共溅射TiN/Ni纳米复合膜结构和耐蚀性的影响》一文中研究指出为研究基体温度对纳米复合膜结构和耐蚀性的影响,以Ti和Ni为靶材,利用反应磁控共溅射技术在100~400℃温度下沉积了Ti N/Ni纳米复合膜,采用XRD、XPS、AFM、FESEM/EDS、电化学技术和划痕试验表征研究复合膜的微结构、耐蚀性和膜基结合力。结果表明:该膜含有面心立方的Ti N和Ni相,其择优取向由低温时的Ti N(111)面转变为高温时的Ti N(200)面。随温度增加,复合膜晶粒尺寸和均方根表面粗糙度先减小后增大,并在温度200℃时达最小。复合膜的界面结合力随温度增加先增大后下降,在300℃时达最大。复合膜具有优异的耐蚀性,其中300℃沉积的膜层腐蚀电流密度最小,较304不锈钢基体约小1个数量级。增加Ni含量有利于提高复合膜的耐蚀性。Ti N/Ni纳米复合膜的腐蚀形式为薄膜的局部脱落,穿膜针孔等结构缺陷是引起Ti N/Ni纳米复合膜腐蚀失效的根本原因。(本文来源于《中国表面工程》期刊2018年02期）
贺春林,陈宏志,高建君,王苓飞,马国峰[5]（2017）在《基体偏压对反应共溅射TiN/Ni纳米复合膜力学性能的影响》一文中研究指出以高纯Ti和Ni为靶材,在不同偏压下利用反应磁控共溅射法制备了TiN/Ni纳米复合膜,采用X射线衍射、纳米压痕和划痕试验研究了偏压对复合膜相结构和力学性能的影响.结果显示,反应共溅射TiN/Ni纳米复合膜由fcc-TiN和Ni组成,其择优取向与偏压有关.随负偏压增加,复合膜晶粒尺寸逐渐减小,硬度、弹性模量、H/E、H~3/E~2和膜基结合力则先增加后下降.在偏压为-80V时所沉积的复合膜具有最好的力学性能,其硬度为(19.2±0.4)GPa、弹性模量为(311.0±5.0)GPa、H/E为0.062、H~3/E~2为0.073GPa,膜基结合力为45N.(本文来源于《沈阳大学学报(自然科学版)》期刊2017年06期）
雷沛[6]（2016）在《氧化钇薄膜反应溅射法生长、性能及红外光学应用研究》一文中研究指出随着航空航天技术跨入超高音速阶段,红外窗口和头罩元件经受着气动热/力等极端使役环境,使得窗口元件的增透保护显得尤为重要,因此研制与红外窗口匹配的红外增透保护材料尤为迫切。稀土氧化物是一类十分重要且复杂的氧化物族系,拥有着丰富的物理和化学性能,因此广泛地活跃于科技和工业界,引起了学者的广泛兴趣,开展了大量的探索性研究工作。稀土氧化物涵盖镧系氧化物,原子序数Z从57到71,以及钪(Z=21)和钇(Z=39)氧化物,这是由于它们具有相似的外层电子结构。稀土氧化物表现出一致的共性以及个体性(来源于内层4f轨道电子的差异)。基于氧化钇优异的高温稳定物性、抗失稳强度以及与红外材料匹配等优点,它已成为红外窗口和整流罩增透保护的优选薄膜材料,唤起了氧化钇薄膜材料的基础研究和红外应用研究的热潮。二维薄膜材料因其在厚度与其他方向存在巨大差异,所以呈现出不同于块体材料的奇异结构与物性。薄膜材料的性能由两种因素决定:一是材料自身属性;二是材料制备方法和工艺条件。反应磁控溅射法因其具有较高的沉积速率、优质的成膜质量、设备简单并易扩展等优点,成为薄膜生长与研究领域不可或缺的技术手段之一。本文选取物理气相沉积技术-反应磁控溅射法为手段,实现氧化钇薄膜的制备、表征及物化性能研究,最后开展了氧化钇红外增透保护薄膜应用研究。本论文可分为以下几个部分:首先,测试并获得金属钇靶显着的反应滞后回线,通过控制不同氩气分压和抽气速率来调控反应滞后回线。较之氩气压强,在500 l/s高抽气速率下消除了反应滞后回线,获得了金属-过渡-中毒叁种稳定溅射模式。理论研究结果表明,高抽气速率可显着减缓靶表面氧化物的生成速率,消除了滞后现象。其次,基于直流磁控溅射法(DCMS),研究了溅射模式以及衬底不同区域对于薄膜生长的影响规律。结果表明,氧化钇薄膜的沉积速率依赖于靶表面不同的溅射模式以及其溅射产额。在金属溅射模式下薄膜的优先生长取向为立方(111)晶面,然而在靶中毒模式下,薄膜以立方(421)为择优晶面。在过渡模式下,出现了立方和单斜两相混合态。局域输氧法使得衬底中心区域为立方(111)优先生长晶面,边缘区域以单斜(40-2)晶面占主导。排除了等离子体不均匀性对薄膜晶相的影响并明确了低氧分压是产生单斜相的原因。利用射频磁控溅射法(RFMS),研究了氧气流量、温度和偏压对于薄膜的协同影响规律。与直流磁控溅射不同,射频磁控溅射的滞后现象并不明显。逐渐增加氧气分压使得薄膜晶体结构由立方(111)择优取向转变为非晶态。无论衬底温度如何,负偏压使得薄膜生长存在正常沉积区和刻蚀区。在氧气分压一定时,高温和低偏压有利于立方相的生长,低温和高偏压有利于单斜相的生长,这两种技术途径调控薄膜的缺陷产生和愈合过程。低氧分压和偏压使得薄膜面外方向O/Y/O周期排列缺失氧原子层而转变为O/Y周期性排列,导致了立方相向单斜相的转变,并伴随着结晶度的劣化。在金属模式下,薄膜为柱状晶,然而在中毒模式下柱状特征消失。柱状晶的生长不依赖于薄膜的晶相而是依赖于薄膜的结晶度。薄膜的表面粗糙度不仅依赖于溅射模式,还由偏压决定。在金属模式下薄膜具有较大粗糙度,然而中毒模式下薄膜表面平滑;在正常薄膜沉积区域,粗糙度具有较大值,然而,刻蚀区薄膜具有较小的粗糙度归因于氩离子的刻蚀作用。而后,研究了薄膜的光、力、电及润湿性能。光学性能与薄膜的结晶度和晶相紧密联系在一起。金属模式下,薄膜具有较高的折射率,中毒模式反之。温度对于折射率的增强作用表现于立方结晶度的提高,而偏压则为结晶度和立方-单斜相转化的双重增强作用。薄膜的致密度与与折射率有着相类似的规律,空隙率反之。金属模式下,薄膜具有较高的硬度、模量和弹塑比,中毒态劣化了力学性能。温度与偏压都可提高薄膜的力学性能。优异的力学性能来源于薄膜面外方向结晶度的提高,较少的缺陷滑移源强化了力学性能。薄膜表面的成分和微观结构是决定薄膜表面润湿性的两种因素。对于物理气相沉积法制备的薄膜而言,蒸馏水和乙二醇的接触角与粗糙度关系不大,而与表面成分相关。缺氧态表面的润湿性较小,这是因为缺氧态的表面更容易与(OH)相连。温度和负偏压的升高对于薄膜介电常数提高具有积极作用,与负偏压相比温度增加的幅度更大,这是由于立方相与单斜相相比具有较小的缺陷。最后,侧重于研究氧化钇薄膜红外窗口的增透/保护性能。理论和实验结果表明硫化锌双面镀氧化钇薄膜的透过率高达93%。XPS剖面结果显示偏压有助于减小界面吸附氧比例从而强化了界面结合。具有低发射率的氧化钇薄膜可有效抑制高温下硫化锌和蓝宝石窗口的发射率。(本文来源于《哈尔滨工业大学》期刊2016-06-01）
刘艳[7]（2016）在《反应磁控共溅射金属掺杂的V_2O_5薄膜的制备及特性研究》一文中研究指出钒氧化物由于具有很多优异的物理和化学特性,作为一种重要的功能材料,引起研究人员的广泛关注。V205在V-O体系中是最稳定的相,具有层状结构。V205作为n型半导体,具有较宽的光学带隙,因此表现出优良的化学稳定性和热稳定性。掺杂金属后的V205薄膜在晶体结构、电学特性和光学特性等方面有显着变化,并得到更广泛的应用。利用直流反应磁控溅射方法,分别在Si(100)和玻璃基底上,通过控制沉积参数制备了层状结构的V205薄膜。X射线衍射(XRD)图谱表明,在不对基底进行加热和基底温度过高时,薄膜呈非晶态；随着工作压强和氧气流量百分比的增加,薄膜的择优取向由(710)转变为(001)晶向。从扫描电子显微镜(SEM)图像中可以看出,晶粒呈棒状生长,平均晶粒长度约为0.5-0.8 μm。通过拉曼光谱进一步测试薄膜的结构,位于145 cm-1处的拉曼特征峰,表明得到了层状结构的V205薄膜。X射线光电子能谱(XPS)表明,薄膜由V205单一晶相组成。通过四探针法测得V20s薄膜的方块电阻大约为13.4-108 KΩ/□,适合应用于非制冷微测辐射热计中。用紫外-可见光-近红外分光光度计测试了薄膜的透射率,在可见光范围内透射率可达50%,光学带隙约为1.7 eV。采用射频、直流反应共溅射方法在不同基底上分别制备了Ti, Zn和Co掺杂的V205薄膜。通过XRD分析可以看出,金属的掺入使薄膜的衍射峰位置向小角度移动,衍射峰强度增加。在硅基底上沉积的薄膜产生新的衍射峰对应于V203的(104)晶面,晶粒尺寸范围为28.6-157.6 nm。在玻璃基底上沉积的薄膜产生新的衍射峰对应于V02(111)晶面,晶粒尺寸范围为15.7-20.5 nm。扫描电子显微镜测试表明,Zn和Ti的掺入使晶粒互相结合,从而形成尺寸较大的团簇。掺杂后薄膜的拉曼峰向低频移动,Zn掺杂V205薄膜的拉曼峰强度高于Ti掺杂V2O5薄膜,表明薄膜的结晶性较好。通过XPS分析金属掺杂后的薄膜,表明金属是以TiO2, ZnO, CO3O4形式存在于薄膜中。金属掺杂后薄膜的方块电阻减小,约为9.8-36.6 KKΩ/□。通过紫外-可见光-近红外分光光度计测得薄膜的透射率,在可见光范围内,Ti掺杂V205薄膜中的透射率最强,最大值为53%,Co掺杂V205薄膜的透射率最低,最小值为40%。振动磁强计测得Co掺杂V205薄膜的室温铁磁性随着溅射功率的升高,铁磁性增强。最后,将硅基底上未掺杂和掺杂的薄膜在800℃下,退火1小时。退火后,未掺杂和掺杂的薄膜的结构、成分、电阻发生变化,V的价态变低,方块电阻变大。(本文来源于《延边大学》期刊2016-05-25）
余正海[8]（2016）在《反应磁控溅射法沉积CrN和TiAIN涂层及摩擦磨损特性研究》一文中研究指出现代生产中,机械零部件常常需在高温、重载荷、无润滑等恶劣条件下工作,它们的失效往往是因为发生表面磨损、腐蚀或高温氧化。表面性能低劣是材料失效的重要原因之一,且由此造成的损失十分惊人。轴承钢通常用做机器轴承、轴承滚珠,轴承套圈等,还可用于各类工具或模具。作为承载部件,它的寿命将决定性地影响着整个系统的正常运行。根据权威部门统计的数据,这类钢件失效形式主要有表面划伤、擦伤、磨损等,尤其是在无润滑条件下工作时,磨损极为严重。提高其硬度、耐磨损、耐腐蚀等性能可延长其使用寿命,为工业生产节约成本,创造出更大的经济价值。本论文利用磁控溅射法在GCr15轴承钢片上沉积CrN和TiAlN保护涂层,并创新性地使用了国产高功率脉冲磁控溅射电源。本论文利用反应磁控溅射法沉积CrN和TiAlN涂层,探索了氮气流量比和基片偏压对CrN涂层的结构和性能的影响,还探索了氮气流量比和工作气压对TiAlN涂层的结构和性能的影响。实验利用XRD、FESEM.EDS、AFM、洛氏硬度计、显微硬度计测试和分析涂层的结构、成分、形貌、膜基结合及显微硬度,以获得优化工艺参数。研究CrN涂层发现：(1)在氮气流量比(20%,30 %,40%,50%)和基片偏压(0,50V,100V,200V)下均制得CrN涂层,且涂层均呈柱状生长,主要含金属Cr、Cr2N和CrN相。(2)随着氮气流量比的增大,沉积速率下降,显微硬度先增大后减小。当氮气流量比增大到40%后,涂层中Cr、N原子比接近1：1,形貌呈叁角锥状。氮气流量比为40%制备的CrN涂层相对最好,具有较高的沉积速率(0.69μm/h),涂层与基体结合较好,硬度HV0.01达1752。(3)随着基片偏压的增大,沉积速率下降,显微硬度增大。涂层中Cr、N原子比几乎维持1：1不变,与基片施加偏压的大小无关。基片偏压为50V制备的CrN涂层相对最好,沉积速率(0.53μm/h)较高,涂层与基体结合很好,硬度HV0.01达2372。研究TiAN涂层发现：(1)在氮气流量比(16%,20%,30%,400%)和工作气压(0.3Pa,0.5Pa,0.7Pa,1.0Pa)下均制得TiAlN涂层,且涂层也均呈柱状生长,主要存在Ti3AlN、AlN和TiN等相。(2)随着氮气流量比的增大,涂层沉积速率下降,硬度先增大后减小,晶粒尺寸增大。氮气流量比为20%制备的TiAlN涂层相对最好,晶粒尺寸小(约100nm)、粗糙度低(1.508 nm)、涂层与基体结合较好、硬度HV0.01达1302；(3)随着工作气压的升高,涂层沉积速率先上升后下降,硬度减小,粗糙度增大。工作气压为0.5Pa下制备的TiAlN涂层相对最好。为进一步研究涂层,在优化工艺参数的基础上,分别利用直流和高功率脉冲磁控溅射电源制备CrN和TiAlN涂层,在载荷1N、线速度0.1 m/s的条件下做干摩擦磨损测试。研究发现：(1)空白对照组未镀膜轴承钢摩擦系数约0.75,摩擦系数较高,摩擦性能较差；(2)直流磁控溅射镀CrN涂层后的轴承钢摩擦系数0.65,高功率脉冲磁控溅射镀CrN涂层后的轴承钢摩擦系数约0.6。(3)直流磁控溅射镀TiAlN涂层后的轴承钢摩擦系数约0.7,高功率脉冲磁控溅射镀TiAN涂层后的轴承钢摩擦系数约0.66。(4)镀膜后的轴承钢摩擦曲线总体较未镀膜的波动小。(本文来源于《山东大学》期刊2016-05-21）
甘贵贤[9]（2016）在《中频反应磁控溅射法沉积柔性ZnO/PET薄膜的光学、电学性质及其激光辐照效应》一文中研究指出本文采用中频反应磁控溅射技术在柔性PET衬底上室温沉积了ZnO薄膜。通过改变溅射功率、氩氧流量比以及溅射时间等工艺参数,制备出具有不同性能的柔性ZnO薄膜。通过霍尔测试仪(Hall)、X射线衍射仪(XRD)、原子力显微镜(AFM)、吸收透射谱以及X射线能量色散仪(EDS)分别研究了柔性ZnO/PET薄膜的电学性质、晶体结构、表面形貌、光学性质以及表面组分。获得溅射功率20w和氩氧流量比1：1为室温下沉积柔性ZnO/PET薄膜的优化工艺条件。由于柔性PET衬底受热易变形,本文提出一种新颖的激光辐照后处理方法,研究了激光辐照能量对薄膜晶体结构、表面形貌以及电学性质的影响。实验结果表明：激光辐照有效改善了柔性ZnO/PET薄膜的晶体结构和电学性能,使薄膜表面ZnO颗粒产生团聚融合,并在(100)和(101)晶面上产生明显的取向生长,薄膜由非晶转为多晶结构；同时有效提高了柔性ZnO/PET薄膜的载流子浓度,降低电阻率,改善室温下沉积柔性ZnO薄膜导电性能。对开发柔性ZnO薄膜的应用具有重要的意义。(本文来源于《华东理工大学》期刊2016-04-20）
李春梅,唐振方[10]（2016）在《双靶反应共溅射制备WC薄膜及其电催化性能》一文中研究指出以金属钨靶和石墨靶反应共溅射的方法,在硅片上制备碳化钨薄膜。实验探究了功率和衬底温度对薄膜成分、质量的影响。研究表明,衬底温度为400℃时,薄膜生长致密、均匀,无裂痕;当钨靶功率为55 W,逐渐增大石墨靶功率时,薄膜成分分别为W、W_2C、WC_(1-x)。经电化学研究发现W_2C、WC_(1-x)两种薄膜均对甲醇有电催化作用,且有很高的比表面积,面积为1 cm~2的W_2C、WC_(1-x)薄膜电极对应的比表面积分别为33.32 cm2和64.68 cm2。(本文来源于《人工晶体学报》期刊2016年04期）
反应共溅射法论文开题报告
（1）论文研究背景及目的
此处内容要求：
首先简单简介论文所研究问题的基本概念和背景，再而简单明了地指出论文所要研究解决的具体问题，并提出你的论文准备的观点或解决方法。
写法范例：
以高纯Ti和Ni为靶材,在不同N_2气流量下反应磁控共溅射了TiN/Ni纳米复合膜,采用原子力显微镜、X射线衍射、X射线光电子能谱、场发射扫描电镜和划痕试验研究了N_2气流量对复合膜微结构、界面结合力和摩擦系数的影响。结果表明,共溅射TiN/Ni纳米复合膜组织细小、表面光滑、致密。TiN为fcc结构,其择优取向为(111)面。随N_2气流量增加,复合膜孔隙率、晶粒尺寸和沉积速率均出现不同程度的下降;而膜表面粗糙度先减小后增大,界面结合力则先提高后下降。本实验条件下,在N_2气流量为16mL/min时所沉积的复合膜表面粗糙度最小、界面结合力最好,分别为2.75nm和44.6N,此时复合膜的摩擦系数最低,为0.14。
（2）本文研究方法
调查法：该方法是有目的、有系统的搜集有关研究对象的具体信息。
观察法：用自己的感官和辅助工具直接观察研究对象从而得到有关信息。
实验法：通过主支变革、控制研究对象来发现与确认事物间的因果关系。
文献研究法：通过调查文献来获得资料，从而全面的、正确的了解掌握研究方法。
实证研究法：依据现有的科学理论和实践的需要提出设计。
定性分析法：对研究对象进行“质”的方面的研究，这个方法需要计算的数据较少。
定量分析法：通过具体的数字，使人们对研究对象的认识进一步精确化。
跨学科研究法：运用多学科的理论、方法和成果从整体上对某一课题进行研究。
功能分析法：这是社会科学用来分析社会现象的一种方法，从某一功能出发研究多个方面的影响。
模拟法：通过创设一个与原型相似的模型来间接研究原型某种特性的一种形容方法。
反应共溅射法论文参考文献
[1].渠溪溪.反应溅射法生长YO_xN_y薄膜的性能及红外光学应用研究[D].哈尔滨工业大学.2019
[2].贺春林,高建君,王苓飞,马国峰,刘岩.N_2流量对反应共溅射TiN/Ni纳米复合膜结构和结合强度的影响[J].材料导报.2018
[3].杨功胜,郭智文,顾广瑞,吴宝嘉.反应磁控共溅射制备Ti掺杂的Cu_3N薄膜的特性研究[J].延边大学学报(自然科学版).2018
[4].贺春林,高建君,王苓飞,陈宏志,付馨莹.基体温度对反应共溅射TiN/Ni纳米复合膜结构和耐蚀性的影响[J].中国表面工程.2018
[5].贺春林,陈宏志,高建君,王苓飞,马国峰.基体偏压对反应共溅射TiN/Ni纳米复合膜力学性能的影响[J].沈阳大学学报(自然科学版).2017
[6].雷沛.氧化钇薄膜反应溅射法生长、性能及红外光学应用研究[D].哈尔滨工业大学.2016
[7].刘艳.反应磁控共溅射金属掺杂的V_2O_5薄膜的制备及特性研究[D].延边大学.2016
[8].余正海.反应磁控溅射法沉积CrN和TiAIN涂层及摩擦磨损特性研究[D].山东大学.2016
[9].甘贵贤.中频反应磁控溅射法沉积柔性ZnO/PET薄膜的光学、电学性质及其激光辐照效应[D].华东理工大学.2016
[10].李春梅,唐振方.双靶反应共溅射制备WC薄膜及其电催化性能[J].人工晶体学报.2016