导读:本文包含了系统像差论文开题报告文献综述及选题提纲参考文献，主要关键词:人工晶状体,倾斜,偏心,成像质量
系统像差论文文献综述
李承霖,崔红,李正日,金花,金海燕[1]（2019）在《波前像差光路系统检测IOL倾斜和偏心对光学成像质量的影响》一文中研究指出目的:通过波前像差光路系统探讨人工晶状体(IOL)偏心和倾斜对光学成像质量的影响。方法:在5.0mm模拟瞳孔直径下,采用实验室搭建的Hartmann-Shack IOL波前像差光路系统检测球面IOL Sensar AR40e、非球面单焦点IOL Tecnis ZA9003、非球面多焦点IOL Tecnis ZM900分别在偏中心0、0.2、0.4、0.6、0.8mm,向鼻侧和颞侧倾斜5°、10°、15°、20°、25°时对光学成像质量的影响,以高阶像差和调制传递函数(MTF)定量成像质量。结果:倾斜5°以内时,Tecnis ZA9003 MTF值高于AR40e和Tecnis ZM900,而倾斜5°、10°、15°、20°时叁种IOL MTF值有显着差异。Tecnis ZA9003 IOL倾斜角度与彗差呈显着正相关(r=0.842,P<0.001),与球面像差无显着相关性(r=0.229,P=0.241)。偏心0.6、0.8mm时叁种IOL MTF值有显着差异(均P<0.001),Tecnis ZM900偏心大于0.4mm时成像质量明显下降。结论:具有-0.27μm球差的非球面IOL倾斜度小于5°,偏心小于0.4mm时可获得比球面IOL更好的光学成像质量。Tecnis ZM900 IOL偏心大于0.4mm时较球面和非球面IOL的光学成像质量降低。(本文来源于《国际眼科杂志》期刊2019年12期）
李杰,林妩媚,廖志杰[2]（2019）在《NA1.35投影光刻光学系统偏振像差的优化》一文中研究指出为了实现NA1.35投影光刻光学系统高质量成像,在设计过程中除了控制波像差,还需进一步优化光学系统的偏振像差。利用Jones光瞳和物理光瞳表达了NA1.35投影光刻光学系统的偏振像差,并用二向衰减量与延迟量分析了光学系统偏振像差的大小;根据光线入射到不同光学面上最大入射角度的不同,为每个光学面设计相应的膜系以优化光学系统的偏振像差。相比于采用常规膜系,膜系优化后NA1.35投影光刻光学系统的二向衰减量和延迟量分别减小到了0.021 8、0.057 2 rad,即减小了光学系统的偏振像差。利用Prolith光刻仿真软件,分别对采用常规膜系和优化膜系的NA1.35投影光刻光学系统进行曝光性能仿真,结果显示:膜系优化后光学系统的成像对比度提高了4.4%,证明了NA1.35投影光刻光学系统偏振像差优化方法的有效性。(本文来源于《应用光学》期刊2019年04期）
操超,廖志远,白瑜,范真节,廖胜[3]（2019）在《基于矢量像差理论的离轴反射光学系统初始结构设计》一文中研究指出传统的离轴反射光学系统初始结构设计方法是先求取轴对称反射光学系统结构,然后通过光瞳离轴、视场离轴或二者结合的方法实现无遮拦设计.由于同轴光学系统像差分布规律不适用于离轴光学系统,因此离轴后的反射光学系统结构像差较大,而且系统无遮拦设计过程复杂.本文提出了一种基于矢量像差理论的离轴反射光学系统初始结构设计方法,可以直接获取光瞳离轴、视场离轴或二者结合的无遮拦离轴反射光学系统初始结构.该方法可以获得较好的离轴反射光学系统初始结构供光学设计软件进一步优化.针对面阵探测器,设计了一个长波红外离轴叁反光学系统,通过光瞳离轴和视场离轴实现无遮拦设计,光学系统成像质量好,反射镜不存在倾斜和偏心,光学系统易于装调.(本文来源于《物理学报》期刊2019年13期）
张璐[4]（2019）在《光刻物镜系统波像差横向剪切干涉绝对检测方法研究》一文中研究指出光刻技术是集成电路制造中的一种精密的微细加工技术,它决定着一个国家半导体产业的发展。而投影光刻物镜是光刻设备中的核心组件,用于完成图形从掩模到硅片上的传递,其成像质量会直接影响光刻机的特征线宽。光学传递函数虽然可以评价镜头的成像质量,但是投影光刻物镜属于极小像差光学系统,只有通过波像差检测的手段才能准确反映出系统的像质。面向高NA高精度投影光刻物镜的研制,超高精度的系统波像差检测设备可以为物镜的装调提供指导意义。国外的叁大光刻物镜制造厂商均有自主研发的光刻物镜系统波像差检测方法,分为以下叁类:哈特曼-夏克(H-S)法、点衍射干涉法和光栅剪切干涉法。这叁类方法是对波前斜率或波前曲率的测量,不需要考虑高精度参考面加工带来的难题。但是对于193nm工作波长的高NA光刻物镜系统波像差检测,H-S法的检测精度受到限制,很难实现亚纳米的检测精度;点衍射法所需的针孔空间滤波器的直径会随着波长减小而减小,很难获取到理想的球面波前;而光栅剪切法原理简单,容易在实验室实现设备搭建。用计算机软件完成复杂的波前重构后,光栅剪切法可以实现亚纳米级检测精度的要求。因此,论文根据国内的迫切需要,开展光刻物镜系统波像差横向剪切干涉绝对检测方法的研究工作,为实现光刻物镜系统波像差超高精度检测提供理论依据和实现方法。具体研究内容如下:(1)研究了适用于横向剪切干涉的旋转绝对检测方法,在传统方法的基础上,根据系统误差变化量和旋转角度的关系,提出了叁步平均算法和加权叁步平均算法;仿真中用恒定系统误差和存在偏心误差这两种情况,验证了算法的精度;实验通过传统的旋转法得到系统波像差RMS的检测精度为0.91nm,而叁步平均算法和加权叁步平均算法的计算结果分别可以达到0.71nm和0.54nm。(2)针对实验设备的偏心问题,提出了一种抑制偏心误差影响的两步算法。该算法先通过旋转平均法确定偏心误差最小的角度位置,再通过最优旋转角度的选择来使偏心误差的影响降到最小;仿真用有无偏心误差影响的两种情况证明了算法的有效性;实验对比表明,误差免疫法采用的角度(90°,135°和180°)位置获得的系统波像差数据与初始位置的残差图RMS分别为2.01nm、4.89nm和7.78nm;而两步算法采用角度(315°和90°)获得的数据与初始位置残差图RMS为1.46nm和4.16nm。对两步算法标定物镜旋转一周在各个角度位置的系统波像差不确定度矩阵进行评估,其标准差为2nm。(3)针对物镜在所有旋转测量角度位置的偏心问题,提出了基于旋转测量偏心量的拟合算法:先利用偏心影响小的角度通过单次旋转法拟定出物镜系统波像差的真实值,再利用最小二乘法补偿出物镜在各个角度位置的系统波像差。通过仿真和实验对算法进行了验证,新算法标定物镜旋转一周在各个角度位置的系统波像差不确定度矩阵的标准差为0.097nm。与两步算法相比,新算法可以有效地抑制偏心影响。(本文来源于《中国科学院大学(中国科学院长春光学精密机械与物理研究所)》期刊2019-06-01）
李杰[5]（2019）在《高NA光学系统偏振像差研究》一文中研究指出高NA光学系统一般指的是高NA投影光刻物镜。高NA投影光刻物镜是光刻机的核心组成部分,其成像质量的好坏决定着最终的光刻性能。偏振像差会对高NA光学投影光刻物镜成像产生影响,比如降低成像对比度。为了提高高NA光学投影光刻物镜的成像质量,除了控制波像差外,还需要优化光学系统的偏振像差。研究高NA光学系统的偏振像差对发展光学投影光刻技术有重要意义。本文以NA1.35投影光刻物镜为例,系统地介绍了光学系统的偏振像差理论,分析并优化了光学系统的偏振像差。第一,介绍了偏振像差理论。高NA光学系统成像采用矢量成像模型描述,利用矢量成像模型引出光学系统偏振像差的概念。叙述了用琼斯光瞳描述偏振像差的方法。利用SVD分解将琼斯光瞳分解为物理光瞳,并将二向衰减和延迟作为偏振像差的评价方法。介绍了光学薄膜特性的计算方法,并给出了光学薄膜的琼斯矩阵,为分析与设计膜系提供理论支持。第二,分析了导致光学系统偏振像差的因素,并推导了相应的理论表达式。第叁,分析了常规膜系NA1.35投影光刻物镜的偏振像差,并提出了根据光线的最大入射角度为光学元件设计多层膜系的方法来优化光学系统的偏振像差。根据膜系优化条件,为每个光学面设计了相应的多层膜系。与常规膜系NA1.35投影光刻物镜相比,膜系优化后NA1.35投影光刻物镜的二向衰减量与延迟量有明显的减小即优化了光学系统的偏振像差。利用Prolith光刻仿真软件,对常规膜系和优化膜系的NA1.35投影光刻物镜进行曝光性能仿真。优化膜系光学系统的成像对比度得到提高,证明了偏振像差优化方法的有效性。(本文来源于《中国科学院大学(中国科学院光电技术研究所)》期刊2019-06-01）
孙永强[6]（2019）在《DMD在编码孔径成像光谱仪光学系统中的像差研究》一文中研究指出编码孔径成像光谱技术因其具有高光通量、高信噪比、编码方式灵活等优点,成为了光谱仪领域的研究热点。近年来随着微机电技术的快速发展,在编码孔径成像光谱系统中,数字微镜器件(digital micromirror device,DMD)已经替代了编码错误率高、光通量低的传统机械模板和液晶空间光调制器等,成为编码器件的主流选择,其更加充分地发挥了编码孔径成像光谱系统高光通量、高信噪比的特点。但是,DMD不同于平面反射镜只存在一个旋转轴,其表面各个微反射镜分别绕自身旋转轴旋转,造成入射到DMD表面不同高度的光线存在光程差,继而引发了一系列的像差。如果这类系统的像差过大且不予以补偿消除的话,将会引起系统的分辨率降低,光谱通道数减少等问题,最终影响整个系统的工作效能。目前对于编码孔径光谱技术主要关注点仍在于算法实现,而对于编码孔径成像光谱仪中的光学系统尚未有深入的研究及探讨。基于编码孔径成像光谱技术广阔的应用前景,以及DMD在该类光学系统中像差研究的空白,本文对DMD在不同工作条件下的像差特性、像质评价和像差补偿方法等进行了分析和研究。主要工作内容包含如下几个方面:首先,对DMD工作原理和光学系统中建模方法进行了深入研究,明确了DMD引入光学系统像差的成因。采用严格的光线追迹、理论推导以及仿真模拟等手段,分析了入射到DMD表面不同高度光线的光程差与光线入射角度、DMD像素大小及偏转角等参数之间的关系。在此基础上,提出以焦深作为判据,评价由DMD引起的光程差对系统最终成像质量的影响,并且对DMD引入光程差的补偿原理进行了分析与验证。其次,考虑到系统装调时,DMD装调倾角误差的影响,分析了入射到DMD表面不同高度光线的光程差与装调倾角误差、光线入射角度、DMD像素大小及偏转角等参数之间的关系,还对光程差引起的轴外边缘光线像差特性进行了深入研究,提出采用慧差和离焦来描述此像差特性,并对像差曲线进行了分析和总结。最后,本文对编码孔径成像光谱仪光学系统中的DMD光学模块进行了设计,通过设计过程及其结果,验证了DMD对该类光学系统成像特性的影响及倾斜像面补偿像差的实际效果,对基于DMD的编码孔径成像光谱系统的设计和装调都具有一定的应用价值。(本文来源于《长春理工大学》期刊2019-05-01）
郭攀,周军,丁晓宇,刘检华,盛忠[7]（2019）在《基于矢量波像差理论的两反系统装配失调解算方法》一文中研究指出以矢量波像差理论中的叁级像差理论为基础,提出了一种两反系统装配失调量解算方法。该方法仅采用轴上视场波前像差系数建立失调量解算模型,然后基于球差系数解算间隔误差,并基于彗差和像散系数解算偏心和倾斜误差,大幅提高了解算精度和效率。以某一两反光学系统为例,利用光学设计软件Zemax进行模拟装调,系统轴上视场失调像差系数均减小到10~(-7)数量级,失调误差均校正到10~(-5)数量级,达到了良好的装调效果。最后,利用该失调量解算模型指导两反光学系统的装调,失调量解算精度及装调精度达到了使用要求。Zemax模拟装调结果和实际装调效果均证明了所提方法的正确性。(本文来源于《光学学报》期刊2019年07期）
张凯迪,李季,雷震[8]（2018）在《同轴收发卡式系统加入平板后的像差校正研究》一文中研究指出在卡式系统的后光路中加入倾斜的平板,实现同轴透射端可见光的接收及反射端红外光的发射。该卡式系统口径为400mm,焦距为4 000mm,视场为±1.5′,加入平板后会给系统造成较大的像差,为了达到系统设计要求:角分辨率小于1″,MTF曲线在35.7lp/mm处高于0.6。分析了倾斜平板产生的像差,对比不同材料和厚度的平板对像差的影响。通过加入偏转的双胶合透镜校正像差,但该方法会使系统的出瞳位置发生变化,从而提出使用偏转叁胶合透镜保证出瞳位置的校正方法,并对加入的透镜进行公差分析,最终达到设计指标。(本文来源于《应用光学》期刊2018年06期）
周立伟[9]（2019）在《复合电磁同心球系统的成像电子光学. B章:近轴像差（英文）》一文中研究指出由复合电磁同心球系统的近轴方程两个特解出发,通过展开理想成像位置处图像转角表达式的途径,探讨了复合电磁同心球系统的近轴纵向像差和近轴横向像差。主要贡献是求得了近轴方程的两个特解在理想像面位置处的解析表达式,由此证明决定极限空间分辨率的二级近轴色球差能以Recknagel-Artimovich公式描述。导出了近轴横向像差的表达式,该像差由近轴色球差、近轴放大率色差和近轴各向异性色差等组成。(本文来源于《光学学报》期刊2019年04期）
张小兰,王顺清,孙成淑,马可[10]（2018）在《两种眼前节分析系统测量屈光手术前后波前像差的一致性》一文中研究指出目的:研究SCHWIND和SIRIUS眼前节分析系统测量屈光手术患者手术前后像差结果的一致性。方法:前瞻性对照研究。选取2017-06/12于四川大学华西医院眼科行飞秒制瓣准分子激光原位角膜磨镶术的屈光不正患者180例360眼,采用SCHWIND和SIRIUS眼前节分析系统测量角膜平轴和陡轴曲率的度数和轴向、Kappa角度数及高阶像差等数据。结果:采用SCHWIND和SIRIUS眼前节分析系统测得的本组患者术前和术后1mo的角膜平轴度数和方向、陡轴度数和方向、术后1mo的Kappa角度数和方向、术前和术后1mo的彗差和叁叶草数据差异均无统计学意义(P>0. 05)。术前,两种检测方法检测的总高阶像差和球差数据差异均有统计学意义(P<0. 01),SCHWIND测量值高于SIRIUS测量值;术后1mo,两种检测方法检测的总高阶像差和球差数据差异均无统计学意义(P>0. 05)。结论:SCHWIND和SIRIUS眼前节分析系统测量屈光手术患者手术前后影响成像质量的相关数据具有较好的一致性。(本文来源于《国际眼科杂志》期刊2018年11期）
系统像差论文开题报告
（1）论文研究背景及目的
此处内容要求：
首先简单简介论文所研究问题的基本概念和背景，再而简单明了地指出论文所要研究解决的具体问题，并提出你的论文准备的观点或解决方法。
写法范例：
为了实现NA1.35投影光刻光学系统高质量成像,在设计过程中除了控制波像差,还需进一步优化光学系统的偏振像差。利用Jones光瞳和物理光瞳表达了NA1.35投影光刻光学系统的偏振像差,并用二向衰减量与延迟量分析了光学系统偏振像差的大小;根据光线入射到不同光学面上最大入射角度的不同,为每个光学面设计相应的膜系以优化光学系统的偏振像差。相比于采用常规膜系,膜系优化后NA1.35投影光刻光学系统的二向衰减量和延迟量分别减小到了0.021 8、0.057 2 rad,即减小了光学系统的偏振像差。利用Prolith光刻仿真软件,分别对采用常规膜系和优化膜系的NA1.35投影光刻光学系统进行曝光性能仿真,结果显示:膜系优化后光学系统的成像对比度提高了4.4%,证明了NA1.35投影光刻光学系统偏振像差优化方法的有效性。
（2）本文研究方法
调查法：该方法是有目的、有系统的搜集有关研究对象的具体信息。
观察法：用自己的感官和辅助工具直接观察研究对象从而得到有关信息。
实验法：通过主支变革、控制研究对象来发现与确认事物间的因果关系。
文献研究法：通过调查文献来获得资料，从而全面的、正确的了解掌握研究方法。
实证研究法：依据现有的科学理论和实践的需要提出设计。
定性分析法：对研究对象进行“质”的方面的研究，这个方法需要计算的数据较少。
定量分析法：通过具体的数字，使人们对研究对象的认识进一步精确化。
跨学科研究法：运用多学科的理论、方法和成果从整体上对某一课题进行研究。
功能分析法：这是社会科学用来分析社会现象的一种方法，从某一功能出发研究多个方面的影响。
模拟法：通过创设一个与原型相似的模型来间接研究原型某种特性的一种形容方法。
系统像差论文参考文献
[1].李承霖,崔红,李正日,金花,金海燕.波前像差光路系统检测IOL倾斜和偏心对光学成像质量的影响[J].国际眼科杂志.2019
[2].李杰,林妩媚,廖志杰.NA1.35投影光刻光学系统偏振像差的优化[J].应用光学.2019
[3].操超,廖志远,白瑜,范真节,廖胜.基于矢量像差理论的离轴反射光学系统初始结构设计[J].物理学报.2019
[4].张璐.光刻物镜系统波像差横向剪切干涉绝对检测方法研究[D].中国科学院大学(中国科学院长春光学精密机械与物理研究所).2019
[5].李杰.高NA光学系统偏振像差研究[D].中国科学院大学(中国科学院光电技术研究所).2019
[6].孙永强.DMD在编码孔径成像光谱仪光学系统中的像差研究[D].长春理工大学.2019
[7].郭攀,周军,丁晓宇,刘检华,盛忠.基于矢量波像差理论的两反系统装配失调解算方法[J].光学学报.2019
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[9].周立伟.复合电磁同心球系统的成像电子光学.B章:近轴像差（英文）[J].光学学报.2019
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