导读:本文包含了离子轰击能量论文开题报告文献综述及选题提纲参考文献，主要关键词:ta-C,N薄膜,氮离子,Raman光谱,X射线光电子能谱
离子轰击能量论文文献综述
韩亮,邵鸿翔,何亮,陈仙,赵玉清[1]（2012）在《氮离子轰击能量对ta-C:N薄膜结构的影响》一文中研究指出利用磁过滤真空阴极电弧技术制备了sp~3键含量不小于80%的四面体非晶碳薄膜(ta-C),然后通过氮离子束改性技术制备了氮掺杂的四面体非晶碳(ta-C:N)薄膜.利用Raman光谱和X射线光电子能谱对薄膜结构的分析,研究了氮离子轰击能量对ta-C:N薄膜结构的影响.氮离子对ta-C薄膜的轰击,形成了氮掺杂的ta-C:N薄膜.氮离子轰击诱导了薄膜中sp~3键向sp~2键转化,以及CN键的形成.在ta-C:N薄膜中,氮掺杂的深度和浓度随着氮离子能量的增大而增大.ta-C:N薄膜中sp~2键的含量和sp~2键团簇的尺寸随着氮离子轰击能量的增大而增加;在ta-C:N薄膜中,CN键主要由C—N键和C=N键构成,C—N键的含量随着氮离子轰击能量的增大而减小,但是C=N键含量随着氮离子轰击能量的增大而增大.在ta-C:N薄膜中不含有C≡N键结构.(本文来源于《物理学报》期刊2012年10期）
王兴[2]（2010）在《能量在1.2到3MeV的Ar~(12+)离子轰击钨靶所产生靶M壳层X射线截面研究(英文)》一文中研究指出M-shell X-ray production cross sections were reported for W induced by Ar12+ in the energy range of 1.2~3 MeV. The experiments were carried out on the 320 kV electron cyclotron resonance(ECR)ion source platform at the Institute of Modern Physics(IMP)in Lanzhou. The measured cross sections are compared with the predictions of the ECPSSR calculations.(本文来源于《IMP & HIRFL Annual Report》期刊2010年00期）
蔡冬清,吴正岩,吴林,吴跃进,朱剑豪[3]（2010）在《低能量离子束轰击对碳纳米管中杂质的去除》一文中研究指出采用低能量离子束对碳纳米管进行轰击。扫描电子显微镜测试表明,离子束轰击可以方便地去除碳纳米管中的杂质,拉曼光谱结果显示离子束轰击没有对碳纳米管造成明显损伤。以尿素作为杂质添加到碳纳米管中,经离子束轰击后发现尿素消失,说明离子束对杂质的去除机制为其溅射效应。(本文来源于《应用化学》期刊2010年08期）
曹猛,李强,邓湘云,李德军[4]（2007）在《离子轰击能量对ZrN/TiAlN纳米多层膜性能的影响》一文中研究指出使用超高真空离子束辅助沉积系统(IBAD)制备一系列具有纳米调制周期的ZrN/TiAlN多层膜,研究了离子辅助轰击对薄膜性能的影响.结果表明:离子辅助轰击使大部分ZrN/TiAlN多层膜的纳米硬度和弹性模量值高于两种个体材料硬度的平均值;离子的轰击和薄膜表面原子与轰击离子之间的动量传输提高了薄膜的致密度;当轰击能量为200 eV时,多层膜的硬度最高(30.6 GPa),弹性模量、表面粗糙度和摩擦系数等也明显改善.(本文来源于《材料研究学报》期刊2007年06期）
田林海,宗瑞磊,朱晓东,唐宾,何家文[5]（2005）在《轰击能量对离子束辅助磁控溅射沉积Cr-N薄膜断裂韧性的影响》一文中研究指出应用低能离子束辅助磁控溅射技术(IBAMS)沉积Cr-N薄膜,用场发射扫描电镜(FESEM)、原子力显微镜(AFM)和X射线衍射表征薄膜的组织结构,讨论了轰击能量对Cr-N薄膜组织、晶粒度以及硬度和断裂韧性的影响。结果表明:随离子束辅助轰击能量的升高,Cr-N薄膜由粗大的柱状晶变为细小的晶粒,当轰击能量达到1 200 V时,薄膜呈现等轴晶结构,薄膜致密度增加。FESEM得到的表面颗粒尺寸和AFM得到的粗糙度随轰击能量升高呈现相同的变化趋势,这些表观大颗粒是由许多小的亚晶块聚集而成。进一步用X射线衍射谱形分析表明:随轰击能量从0 V升高到800 V时,亚晶块的尺寸逐渐减小;到800 V时,晶块尺寸约为9 nm,但当能量升到1 200 V时,晶块尺寸反而增大,这是由离子束辅助轰击导致的两种不同机制而引起的,一种是离子轰击导致的喷丸碎化作用,而另一种为热效应引起的晶粒长大;当轰击能量从0 V增加800 V时,薄膜的硬度和断裂韧性都显着提高,与晶粒度的减小有关;而到1 200 V时,晶粒度较未辅助略大,但却具有很高的硬度以及较高的断裂韧性,说明硬度和断裂韧性的提高还与离子束轰击导致薄膜的致密化增加有关。(本文来源于《中国有色金属学报》期刊2005年10期）
艾永平,周灵平,陈兴科,刘俊伟,李绍禄[6]（2005）在《Ar~+能量及低能轰击对离子溅射铜钨薄膜结构的影响》一文中研究指出研究了双离子束溅射制备铜钨薄膜时Ar+能量及低能辅助轰击对膜结构的影响。实验结果表明,以铜为衬底,铜靶Ar+能量在1～2keV、钨靶Ar+能量在3keV左右时,离子溅射铜钨薄膜是以钨的非晶态为骨架机械夹杂着铜晶粒的方式存在。铜晶粒度随铜靶Ar+能量增加略有增大。当Ar+能量高到临界值(约为1.5keV)时,少量铜转变成单晶态和熔进钨形成固溶体。受晶体缺陷及晶格畸变影响,铜衍射峰会发生微小偏移。(本文来源于《河南科技大学学报(自然科学版)》期刊2005年03期）
赵玉清,林毅[7]（2004）在《离子轰击能量对不同材料沉积ta-c薄膜结合强度的影响研究》一文中研究指出本文对过滤阴极真空电弧(FCVA)沉积ta-c薄膜的前处理工艺中,采用高能量离子轰击基体表面对薄膜结合强度的作用进行了实验研究。本文研制了实验装置,并采用多种测试方法对实验结果进行了对比。对比结果表明,对于不同材料,采用不同轰击能量,对薄膜结合强度的影响有较大差别,对玻璃、高速钢等硬度较高的基材,薄膜结合强度随着离子能量的提高而大幅度提高,但对有机玻璃和聚酯等硬度较软的基材,离子能量有一个最优值,当超过这个值时,结合强度迅速降低,本文对此现象进行了定性分析,并得出了儿点结论。(本文来源于《2004全国荷电粒子源、粒子束学术会议论文集》期刊2004-08-01）
宋忠孝,鞠新华,徐可为,范多旺[8]（2004）在《扩散阻挡层与离子束轰击能量对Cu-Cr合金膜结合强度的影响》一文中研究指出用离子束辅助磁控溅射和离子束溅射共沉积的方法分别在TiN、CrN扩散阻挡层上沉积了Cu-Cr合金膜。用滚动接触疲劳实验评价结合强度,结果发现:扩散阻挡层可明显提高结合强度;CrN上的Cu-Cr膜的结合强度最高;高能离子轰击得到的Cu-Cr合金膜具有更宽的过渡层而具有更高的结合强度。(本文来源于《薄膜技术学术研讨会论文集》期刊2004-06-30）
宋忠孝,鞠新华,徐可为[9]（2003）在《扩散阻挡层与离子束轰击能量对Cu(Cr)合金膜结合强度的影响》一文中研究指出Cu互连结合强度的研究是其力学可靠性的重要部分,因而对Cu膜结合强度的测试显得非常重要,目前测试金属膜与基体结合强度的方法主要有划痕法、压入法、鼓胀法,由于Cu膜容易发生塑性变形,这叁种方法对Cu膜与基体的界面因素反应不很敏感,而滚动接触疲劳法对非界面因素不敏感,只对界面因素敏感。本文尝试用接触疲劳法测试金属膜的结合强度。(本文来源于《TFC’03全国薄膜技术学术研讨会论文摘要集》期刊2003-09-01）
李旭,黄美浅,陈平,李观启[10]（2003）在《低能量氩离子束轰击改善双极型晶体管的噪声特性》一文中研究指出在完成超高频小功率晶体管的芯片和上部铝电极的制备工艺后 ,采用低能量氩离子束轰击芯片背面 ,能有效地降低其高频及低频噪声系数、提高其特征频率和电流放大系数 .实验结果表明 ,晶体管低频噪声系数的下降与硅—二氧化硅界面的界面态密度的减小有关 ,而其高频噪声系数的下降是特征频率和电流放大系数增加的结果(本文来源于《华南理工大学学报(自然科学版)》期刊2003年08期）
离子轰击能量论文开题报告
（1）论文研究背景及目的
此处内容要求：
首先简单简介论文所研究问题的基本概念和背景，再而简单明了地指出论文所要研究解决的具体问题，并提出你的论文准备的观点或解决方法。
写法范例：
M-shell X-ray production cross sections were reported for W induced by Ar12+ in the energy range of 1.2~3 MeV. The experiments were carried out on the 320 kV electron cyclotron resonance(ECR)ion source platform at the Institute of Modern Physics(IMP)in Lanzhou. The measured cross sections are compared with the predictions of the ECPSSR calculations.
（2）本文研究方法
调查法：该方法是有目的、有系统的搜集有关研究对象的具体信息。
观察法：用自己的感官和辅助工具直接观察研究对象从而得到有关信息。
实验法：通过主支变革、控制研究对象来发现与确认事物间的因果关系。
文献研究法：通过调查文献来获得资料，从而全面的、正确的了解掌握研究方法。
实证研究法：依据现有的科学理论和实践的需要提出设计。
定性分析法：对研究对象进行“质”的方面的研究，这个方法需要计算的数据较少。
定量分析法：通过具体的数字，使人们对研究对象的认识进一步精确化。
跨学科研究法：运用多学科的理论、方法和成果从整体上对某一课题进行研究。
功能分析法：这是社会科学用来分析社会现象的一种方法，从某一功能出发研究多个方面的影响。
模拟法：通过创设一个与原型相似的模型来间接研究原型某种特性的一种形容方法。
离子轰击能量论文参考文献
[1].韩亮,邵鸿翔,何亮,陈仙,赵玉清.氮离子轰击能量对ta-C:N薄膜结构的影响[J].物理学报.2012
[2].王兴.能量在1.2到3MeV的Ar~(12+)离子轰击钨靶所产生靶M壳层X射线截面研究(英文)[J].IMP&HIRFLAnnualReport.2010
[3].蔡冬清,吴正岩,吴林,吴跃进,朱剑豪.低能量离子束轰击对碳纳米管中杂质的去除[J].应用化学.2010
[4].曹猛,李强,邓湘云,李德军.离子轰击能量对ZrN/TiAlN纳米多层膜性能的影响[J].材料研究学报.2007
[5].田林海,宗瑞磊,朱晓东,唐宾,何家文.轰击能量对离子束辅助磁控溅射沉积Cr-N薄膜断裂韧性的影响[J].中国有色金属学报.2005
[6].艾永平,周灵平,陈兴科,刘俊伟,李绍禄.Ar~+能量及低能轰击对离子溅射铜钨薄膜结构的影响[J].河南科技大学学报(自然科学版).2005
[7].赵玉清,林毅.离子轰击能量对不同材料沉积ta-c薄膜结合强度的影响研究[C].2004全国荷电粒子源、粒子束学术会议论文集.2004
[8].宋忠孝,鞠新华,徐可为,范多旺.扩散阻挡层与离子束轰击能量对Cu-Cr合金膜结合强度的影响[C].薄膜技术学术研讨会论文集.2004
[9].宋忠孝,鞠新华,徐可为.扩散阻挡层与离子束轰击能量对Cu(Cr)合金膜结合强度的影响[C].TFC’03全国薄膜技术学术研讨会论文摘要集.2003
[10].李旭,黄美浅,陈平,李观启.低能量氩离子束轰击改善双极型晶体管的噪声特性[J].华南理工大学学报(自然科学版).2003