苗苗:响应面分析法优化聚丙烯无纺布抗静电接枝工艺论文

苗苗:响应面分析法优化聚丙烯无纺布抗静电接枝工艺论文

本文主要研究内容

作者苗苗,刘超,王晓旭,王迎,魏春艳(2019)在《响应面分析法优化聚丙烯无纺布抗静电接枝工艺》一文中研究指出:以聚丙烯(PP)无纺布为原料,摩擦电压为测量值,采用响应面分析法(RSM)探究了单体质量分数、光引发剂浓度和紫外光照时间对摩擦电压的影响,确定了抗静电改性的最优工艺:单体质量分数10.48%,光引发剂浓度0.051 mol/L,紫外光照20.69min,摩擦电压最小为2 255.16 V。经最优工艺实验验证,改性后PP无纺布的摩擦电压为2 200~2 475 V,表明响应面模型具有一定的可信度,能够有效预测实验各因素对摩擦电压的影响。

Abstract

yi ju bing xi (PP)mo fang bu wei yuan liao ,ma ca dian ya wei ce liang zhi ,cai yong xiang ying mian fen xi fa (RSM)tan jiu le chan ti zhi liang fen shu 、guang yin fa ji nong du he zi wai guang zhao shi jian dui ma ca dian ya de ying xiang ,que ding le kang jing dian gai xing de zui you gong yi :chan ti zhi liang fen shu 10.48%,guang yin fa ji nong du 0.051 mol/L,zi wai guang zhao 20.69min,ma ca dian ya zui xiao wei 2 255.16 V。jing zui you gong yi shi yan yan zheng ,gai xing hou PPmo fang bu de ma ca dian ya wei 2 200~2 475 V,biao ming xiang ying mian mo xing ju you yi ding de ke xin du ,neng gou you xiao yu ce shi yan ge yin su dui ma ca dian ya de ying xiang 。

论文参考文献

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  • 论文详细介绍

    论文作者分别是来自印染助剂的苗苗,刘超,王晓旭,王迎,魏春艳,发表于刊物印染助剂2019年06期论文,是一篇关于响应面分析法论文,聚丙烯无纺布论文,紫外光接枝论文,抗静电改性论文,印染助剂2019年06期论文的文章。本文可供学术参考使用,各位学者可以免费参考阅读下载,文章观点不代表本站观点,资料来自印染助剂2019年06期论文网站,若本站收录的文献无意侵犯了您的著作版权,请联系我们删除。

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