葛黎黎:光刻机测量支架减振效果研究论文

葛黎黎:光刻机测量支架减振效果研究论文

本文主要研究内容

作者葛黎黎,刘赟,周畅(2019)在《光刻机测量支架减振效果研究》一文中研究指出:本文根据最佳减振效果的理论模型,提出包括被动减振、主动减振等光刻机测量支架减振处理的几种方法,开发了相应实验装置,并通过实物测试评估了实验装置的减振效果。

Abstract

ben wen gen ju zui jia jian zhen xiao guo de li lun mo xing ,di chu bao gua bei dong jian zhen 、zhu dong jian zhen deng guang ke ji ce liang zhi jia jian zhen chu li de ji chong fang fa ,kai fa le xiang ying shi yan zhuang zhi ,bing tong guo shi wu ce shi ping gu le shi yan zhuang zhi de jian zhen xiao guo 。

论文参考文献

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  • 论文详细介绍

    论文作者分别是来自中国集成电路的葛黎黎,刘赟,周畅,发表于刊物中国集成电路2019年07期论文,是一篇关于光刻机论文,被动减振论文,主动减振论文,中国集成电路2019年07期论文的文章。本文可供学术参考使用,各位学者可以免费参考阅读下载,文章观点不代表本站观点,资料来自中国集成电路2019年07期论文网站,若本站收录的文献无意侵犯了您的著作版权,请联系我们删除。

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