本文主要研究内容
作者张炜鑫,巩春志,温家瑞,马玉山,刘海波,何涛,岳玲,田修波（2019）在《倍频微脉冲复合高功率磁控溅射TiCN薄膜结构及性能研究》一文中研究指出：如何提高高功率磁控溅射技术(HIPIMS)的沉积速率一直是PVD领域的研究热点,微脉冲复合高功率磁控溅射技术由于其在常规HIPIMS的单脉冲内耦合多个微脉冲,不仅进一步激励等离子体放电,更有效降低了磁控靶回吸现象,有利于提高HIPIMS的沉积速率。利用微脉冲复合高功率磁控溅射技术制备TiCN薄膜,系统研究了乙炔(C2H2)流量对TiCN薄膜结构性能的影响。采用扫描电子显微镜、Raman光谱、球-盘式摩擦磨损试验机、电化学分析仪分别表征薄膜截面形貌、结构、摩擦磨损性能、电化学腐蚀性能,结果表明:随着乙炔气体流量升高,TiCN薄膜沉积速率增加,摩擦系数先变小后不变,磨痕宽度先减小后增大,乙炔流量为1.4 mL/min时磨痕宽度最小为80.4μm,TiCN薄膜耐蚀性减弱,在乙炔流量0.8 mL/min时耐蚀性最好。
Abstract
ru he di gao gao gong lv ci kong jian she ji shu (HIPIMS)de chen ji su lv yi zhi shi PVDling yu de yan jiu re dian ,wei mai chong fu ge gao gong lv ci kong jian she ji shu you yu ji zai chang gui HIPIMSde chan mai chong nei ou ge duo ge wei mai chong ,bu jin jin yi bu ji li deng li zi ti fang dian ,geng you xiao jiang di le ci kong ba hui xi xian xiang ,you li yu di gao HIPIMSde chen ji su lv 。li yong wei mai chong fu ge gao gong lv ci kong jian she ji shu zhi bei TiCNbao mo ,ji tong yan jiu le yi gui (C2H2)liu liang dui TiCNbao mo jie gou xing neng de ying xiang 。cai yong sao miao dian zi xian wei jing 、Ramanguang pu 、qiu -pan shi ma ca mo sun shi yan ji 、dian hua xue fen xi yi fen bie biao zheng bao mo jie mian xing mao 、jie gou 、ma ca mo sun xing neng 、dian hua xue fu shi xing neng ,jie guo biao ming :sui zhao yi gui qi ti liu liang sheng gao ,TiCNbao mo chen ji su lv zeng jia ,ma ca ji shu xian bian xiao hou bu bian ,mo hen kuan du xian jian xiao hou zeng da ,yi gui liu liang wei 1.4 mL/minshi mo hen kuan du zui xiao wei 80.4μm,TiCNbao mo nai shi xing jian ruo ,zai yi gui liu liang 0.8 mL/minshi nai shi xing zui hao 。
论文参考文献
论文详细介绍
论文作者分别是来自真空与低温的张炜鑫,巩春志,温家瑞,马玉山,刘海波,何涛,岳玲,田修波，发表于刊物真空与低温2019年02期论文，是一篇关于微脉冲论文,高功率磁控溅射论文,沉积速率论文,乙炔流量论文,真空与低温2019年02期论文的文章。本文可供学术参考使用，各位学者可以免费参考阅读下载，文章观点不代表本站观点，资料来自真空与低温2019年02期论文网站，若本站收录的文献无意侵犯了您的著作版权，请联系我们删除。
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