导读:本文包含了多弧和磁控复合离子镀论文开题报告文献综述及选题提纲参考文献，主要关键词:TiCN薄膜,多弧离子镀和磁控溅射技术,占空比,耐蚀性
多弧和磁控复合离子镀论文文献综述
任鑫,赵瑞山,王玮,宋晓龙,张洋[1]（2018）在《多弧离子镀-磁控溅射复合技术制备TiCN薄膜的耐蚀性研究（英文）》一文中研究指出采用多弧离子镀-磁控溅射复合技术在AISI304不锈钢基体表面于Ar和N_2混合气氛下共溅射钛靶和石墨靶制备了TiCN薄膜,研究了占空比对TiCN薄膜结构和在3.5%NaCl(质量分数)中耐蚀性的影响规律。结果表明:所沉积的TiCN薄膜表面光滑、均匀致密,主要形成具有Ti-(C,N)键的fcc-TiN型结构和少量的α-CN_x化合物,并随着占空比的增加表现出(111)晶面择优取向。TiCN薄膜相比于基体表现出更好的耐蚀性能,且随着占空比的增大,薄膜的耐蚀性逐渐提高。当占空比为40%时,TiCN薄膜表现出最为优异的抗腐蚀性能,其自腐蚀电流密度(i_(corr))和极化电阻(R_p)分别为3.262×10~(-7)A·cm~(-2)和238.4kΩ·cm~2。薄膜的阻抗谱显示腐蚀离子的渗透行为和局部腐蚀过程是影响电极体系腐蚀反应过程中的主要动力学因素,这与极化曲线的分析结果相一致。(本文来源于《稀有金属材料与工程》期刊2018年07期）
朱元义,邓佩珊,朱常锋,朱文,史继富[2]（2015）在《多弧离子镀与磁控溅射联用镀制TiN/SiO_2复合装饰薄膜的研究》一文中研究指出本文结合多弧离子镀和磁控溅射两种镀膜方法的优点,制备了Ti N/Si O2复合薄膜。通过扫描电镜可以观察到,制备的复合膜比单纯的氮化钛薄膜更加致密和光滑,基本消除了大颗粒的影响。另外,可以通过控制溅射Si O2的时间实现对膜层色度的控制。在本文的试验条件下,当氧化硅溅射时间为30 min时,得到的膜层为咖啡色,当氧化硅溅射时间为1 h,膜层为玫瑰红色。采用两种镀膜手段联用的方法,可以得到高品质,颜色丰富的膜系。(本文来源于《真空》期刊2015年01期）
张桂如[3]（2014）在《多弧离子镀和磁控溅射复合制备（Ti,Al）N薄膜研究》一文中研究指出TiAlN作为一种新型的薄膜，因为其本身具有抗氧化温度高，导热效率低，高硬度，膜基结合力好，摩擦系数小等突出的优点，在高速切削钢，钛、铝合金等材料领域应用广泛。目前制备TiAlN薄膜的主流方法是多弧离子镀技术和磁控溅射技术。然而正确的控制TiAlN薄膜中Al和Ti的比例比较困难，采用合金靶或镶嵌靶等方法都面临着制备一系列靶材的问题。本论文采用多弧离子镀和磁控溅射相结合的方法在高速钢（W18Cr4V）基体上制备了(Ti,Al)N薄膜，实现了控制TiAlN薄膜中Al与Ti的比例目的，进而可望获得不同Al/Ti比例的(Ti,Al)N薄膜。探讨了不同工艺参数对TiAlN薄膜的表面形貌与成分，膜基结合力的影响规律。结果表明：1.N原子百分比为0，Fe原子百分比为50.65时，基体表面没有成膜。2.当Al+Ti/N>2.69时，基体表面没有形成TiAlN薄膜，在其表面形成的是金属或金属化合物。3.当0<Al+Ti/N<2.69时，可以形成TiAlN薄膜，并且当Fe含量小于等于10.69时膜层晶粒粗大，当Fe含量大于等于25.23时，膜层表面晶粒细小。4.当Al+Ti/N=0.69，Fe=21.75，Al/Ti=0.35时，可以形成TiAlN薄膜且晶粒粗大。5.当Al+Ti/N=1.10时，膜基结合力达到最大值为47.7N.(本文来源于《沈阳大学》期刊2014-12-23）
朱元义,邓佩珊,朱常锋,朱文[4]（2012）在《多弧离子镀与磁控溅射联用镀制TiN/SiO_2复合装饰薄膜的研究》一文中研究指出采用多弧离子镀法在金属表面制备氮化钛装饰层具有成膜速度快,膜层和基底结合力好的优点,因此被国内许多装饰镀膜相关的厂家所采用。但是这种镀膜方式也存在着(1)色度难控制和(2)"大颗粒"污染问题。而磁控溅射镀膜,膜厚容易控制且膜层致密。在本文,我们结合两种镀膜方法的优点,制备了TiN/SiO_2复合薄膜。通过扫描电镜可以观察到,制备的复合膜比单纯的氮化钛薄膜更加致密和光滑,基本消除了大颗粒的影响。另外,可以通过控制溅射SiO_2的时间实现对膜层色度的控制。在本文的试验条件下,当氧化硅溅射时间为30min时,得到的膜层为咖啡色,当氧化硅溅射时间为1h,膜层为玫瑰红色。采用两种镀膜手段联用的方法,可以得到高品质,颜色丰富的膜系。(本文来源于《第九届全国转化膜及表面精饰学术年会论文集》期刊2012-05-27）
多弧和磁控复合离子镀论文开题报告
（1）论文研究背景及目的
此处内容要求：
首先简单简介论文所研究问题的基本概念和背景，再而简单明了地指出论文所要研究解决的具体问题，并提出你的论文准备的观点或解决方法。
写法范例：
本文结合多弧离子镀和磁控溅射两种镀膜方法的优点,制备了Ti N/Si O2复合薄膜。通过扫描电镜可以观察到,制备的复合膜比单纯的氮化钛薄膜更加致密和光滑,基本消除了大颗粒的影响。另外,可以通过控制溅射Si O2的时间实现对膜层色度的控制。在本文的试验条件下,当氧化硅溅射时间为30 min时,得到的膜层为咖啡色,当氧化硅溅射时间为1 h,膜层为玫瑰红色。采用两种镀膜手段联用的方法,可以得到高品质,颜色丰富的膜系。
（2）本文研究方法
调查法：该方法是有目的、有系统的搜集有关研究对象的具体信息。
观察法：用自己的感官和辅助工具直接观察研究对象从而得到有关信息。
实验法：通过主支变革、控制研究对象来发现与确认事物间的因果关系。
文献研究法：通过调查文献来获得资料，从而全面的、正确的了解掌握研究方法。
实证研究法：依据现有的科学理论和实践的需要提出设计。
定性分析法：对研究对象进行“质”的方面的研究，这个方法需要计算的数据较少。
定量分析法：通过具体的数字，使人们对研究对象的认识进一步精确化。
跨学科研究法：运用多学科的理论、方法和成果从整体上对某一课题进行研究。
功能分析法：这是社会科学用来分析社会现象的一种方法，从某一功能出发研究多个方面的影响。
模拟法：通过创设一个与原型相似的模型来间接研究原型某种特性的一种形容方法。
多弧和磁控复合离子镀论文参考文献
[1].任鑫,赵瑞山,王玮,宋晓龙,张洋.多弧离子镀-磁控溅射复合技术制备TiCN薄膜的耐蚀性研究（英文）[J].稀有金属材料与工程.2018
[2].朱元义,邓佩珊,朱常锋,朱文,史继富.多弧离子镀与磁控溅射联用镀制TiN/SiO_2复合装饰薄膜的研究[J].真空.2015
[3].张桂如.多弧离子镀和磁控溅射复合制备（Ti,Al）N薄膜研究[D].沈阳大学.2014
[4].朱元义,邓佩珊,朱常锋,朱文.多弧离子镀与磁控溅射联用镀制TiN/SiO_2复合装饰薄膜的研究[C].第九届全国转化膜及表面精饰学术年会论文集.2012
标签：TiCN薄膜; 多弧离子镀和磁控溅射技术; 占空比; 耐蚀性;