导读:本文包含了磁场闭合状态论文开题报告文献综述及选题提纲参考文献，主要关键词:完全闭合状态,不闭合状态,Langmuir探针,Cr镀层
磁场闭合状态论文文献综述
蒋百灵,曹政,丁小柯,鲁媛媛[1]（2011）在《磁场闭合状态对磁控溅射Cr镀层沉积效果的影响差异分析》一文中研究指出采用磁场完全闭合状态和不闭合状态两种磁场组态分别沉积Cr镀层,并利用Langmuir探针诊断其放电等离子体,测量了离子密度、电子密度和电子温度(EED)在两种磁场组态中的分布规律。结果表明:磁场不闭合状态时的等离子体密度较低,而完全闭合状态显着增加了真空腔中部的带电粒子数目。两种不同磁场组态中Cr镀层的沉积速率在靶电流相同的情况下相近。其中不闭合状态的Cr镀层截面为粗大而疏松的柱状结构,表面较粗糙;而完全闭合状态的镀层的柱状生长受到阻碍,表面光滑、平整,致密性好。(本文来源于《材料科学与工程学报》期刊2011年01期）
王涛[2]（2009）在《磁场的非平衡度和闭合状态对沉积CrN_x镀层的影响》一文中研究指出本文采用磁控溅射技术,在改变磁场非平衡度和闭合状态的条件下在高速钢和单晶硅基体上制备了CrNx镀层。采用SEM和XRD对镀层的微观结构进行了分析；使用显微硬度计测量了镀层的硬度；通过销-盘式摩擦磨损试验机及光学显微镜研究了镀层的摩擦磨损性能；探讨了磁场非平衡度和闭合状态的变化对镀层结构、性能的影响机理。研究结果表明：随非平衡度的增大,CrNx镀层的相结构发生从Cr+Cr2N→Cr+Cr2N+CrN→Cr2N+CrN的转化；在叁种闭合状态下,制得的CrNx镀层的物相结构相似且类似于组成闭合状态的单靶制得镀层的物相组成。在磁场非平衡度增大及闭合状态由不闭合→半闭合→完全闭合的变化的过程中,CrNx镀层的组织颗粒都变大,颗粒间的孔洞减少,组织致密化。CrNx镀层的厚度和硬度都随非平衡度的增大而增加,摩擦系数随非平衡度的增大而减小。完全闭合状态下CrNx镀层的沉积速率最快,镀层轴向均匀性也最好。在叁种闭合状态下,CrNx镀层的摩擦系数相差不大且都很小。磁场非平衡度和闭合状态的改变对镀层结构和性能的影响,在本质上都是通过改变电子的运动轨迹来实现的。磁场非平衡度增大及闭合状态由不闭合→半闭合→完全闭合的变化都会使磁场对电子的束缚能力增强,增大Ar和N2离化率,扩展等离子体的分布范围。(本文来源于《西安理工大学》期刊2009-03-01）
丁小柯[3]（2009）在《磁场闭合状态对磁控溅射沉积纯Cr镀层生长过程的影响研究》一文中研究指出本论文通过调整置多个磁控管极性于真空腔体周边均布条件下磁控管集合体所体现的磁场闭合状态,在不同沉积阶段于单晶硅基体上制备了纯金属Cr镀层。通过对不同沉积阶段镀层组织结构和性能的检测分析,研究不同磁场闭合状态对纯Cr镀层生长过程(形核、晶粒合并、连续膜生成和厚膜生长)的影响及机理。本次研究为磁场闭合状态对镀层生长和磁控溅射机理影响的深入研究有重要的意义,并且对选择合适的磁场闭合状态优化镀层结构和磁控溅射设备改进起到一定的指导作用。研究结果表明：随着磁场闭合程度的增加,镀层沉积速率减小,基体偏流增大,离子轰击对基体表面及镀层结构的轰击效应和改善作用增强,致使纯Cr镀层形核速率减小,镀层晶粒尺寸增大,镀层组织结构和择优生长趋势发生明显变化。在叁种磁场闭合状态下,镀层生长均经历表面粗化和晶粒长大的过程,但随着磁场闭合程度的增加,沉积纯Cr镀层由稀疏粗大的柱状晶组织转变为较致密的柱状晶组织,进而转化为致密的无明显柱状晶体组织,镀层中空隙和缺陷减少,表面粗糙度减小,方块电阻减小,致密度升高。在[100]晶向单晶硅抛光片上,磁场不闭合状态各个沉积阶段,镀层沿Cr(110)面择优生长趋势明显；磁场半闭合状态各个沉积阶段,镀层沿Cr(110)面或Cr(200)面择优生长趋势明显；磁场完全闭合状态各个沉积阶段,镀层沿Cr(200)面择优生长趋势明显,即随着磁场闭合程度的增加,镀层择优生长趋势由低晶面能(110)晶面生长向高晶面能(200)晶面生长转化。(本文来源于《西安理工大学》期刊2009-03-01）
王伟[4]（2008）在《磁场的闭合状态对磁控溅射Cr镀层沉积过程影响的研究》一文中研究指出课题通过调整磁控溅射设备中磁控管磁铁的极性和磁感应强度,形成不同的磁场组合状态,沉积了纯金属Cr镀层。通过对镀层的性能和组织结构的检测分析,研究了磁场的不同的闭合状态和磁感应强度对镀层沉积过程的影响。研究对采用合适的磁场的闭合状态制备性能优异的镀层有重要的应用意义,并且对磁控溅射设备的改进起到一定的指导作用。研究结果表明:随靶基距离增大,镀层厚度减小,而轴向上镀层厚度均匀性越好。完全闭合和半闭合状态下沉积镀层厚度轴向上均匀性较好,在轴向距离—50mm～50mm之间,镀层厚度比较均匀,适合工业生产应用。在相同磁感应强度下,随着磁场闭合程度的增加,沉积镀层由粗大柱状组织变为等轴晶组织,镀层中空隙和缺陷减少,结晶度变好,粗糙度变小,薄膜方块电阻减小。在[111]晶向单晶硅抛光片上,不闭合状态下,Cr镀层以(211)晶面择优生长,半闭合和完全闭合状态,Cr镀层以(110)晶面择优生长。在同一闭合状态下,随着磁感应强度的增加,沉积镀层由柱状组织变为等轴晶组织,镀层中空隙和缺陷减少,结晶度变好,粗糙度变小,薄膜方块电阻减小。叁种磁感应强度下,在[111]晶向单晶硅抛光片上,Cr镀层都以(110)晶面择优生长。(本文来源于《西安理工大学》期刊2008-03-01）
磁场闭合状态论文开题报告
（1）论文研究背景及目的
此处内容要求：
首先简单简介论文所研究问题的基本概念和背景，再而简单明了地指出论文所要研究解决的具体问题，并提出你的论文准备的观点或解决方法。
写法范例：
本文采用磁控溅射技术,在改变磁场非平衡度和闭合状态的条件下在高速钢和单晶硅基体上制备了CrNx镀层。采用SEM和XRD对镀层的微观结构进行了分析；使用显微硬度计测量了镀层的硬度；通过销-盘式摩擦磨损试验机及光学显微镜研究了镀层的摩擦磨损性能；探讨了磁场非平衡度和闭合状态的变化对镀层结构、性能的影响机理。研究结果表明：随非平衡度的增大,CrNx镀层的相结构发生从Cr+Cr2N→Cr+Cr2N+CrN→Cr2N+CrN的转化；在叁种闭合状态下,制得的CrNx镀层的物相结构相似且类似于组成闭合状态的单靶制得镀层的物相组成。在磁场非平衡度增大及闭合状态由不闭合→半闭合→完全闭合的变化的过程中,CrNx镀层的组织颗粒都变大,颗粒间的孔洞减少,组织致密化。CrNx镀层的厚度和硬度都随非平衡度的增大而增加,摩擦系数随非平衡度的增大而减小。完全闭合状态下CrNx镀层的沉积速率最快,镀层轴向均匀性也最好。在叁种闭合状态下,CrNx镀层的摩擦系数相差不大且都很小。磁场非平衡度和闭合状态的改变对镀层结构和性能的影响,在本质上都是通过改变电子的运动轨迹来实现的。磁场非平衡度增大及闭合状态由不闭合→半闭合→完全闭合的变化都会使磁场对电子的束缚能力增强,增大Ar和N2离化率,扩展等离子体的分布范围。
（2）本文研究方法
调查法：该方法是有目的、有系统的搜集有关研究对象的具体信息。
观察法：用自己的感官和辅助工具直接观察研究对象从而得到有关信息。
实验法：通过主支变革、控制研究对象来发现与确认事物间的因果关系。
文献研究法：通过调查文献来获得资料，从而全面的、正确的了解掌握研究方法。
实证研究法：依据现有的科学理论和实践的需要提出设计。
定性分析法：对研究对象进行“质”的方面的研究，这个方法需要计算的数据较少。
定量分析法：通过具体的数字，使人们对研究对象的认识进一步精确化。
跨学科研究法：运用多学科的理论、方法和成果从整体上对某一课题进行研究。
功能分析法：这是社会科学用来分析社会现象的一种方法，从某一功能出发研究多个方面的影响。
模拟法：通过创设一个与原型相似的模型来间接研究原型某种特性的一种形容方法。
磁场闭合状态论文参考文献
[1].蒋百灵,曹政,丁小柯,鲁媛媛.磁场闭合状态对磁控溅射Cr镀层沉积效果的影响差异分析[J].材料科学与工程学报.2011
[2].王涛.磁场的非平衡度和闭合状态对沉积CrN_x镀层的影响[D].西安理工大学.2009
[3].丁小柯.磁场闭合状态对磁控溅射沉积纯Cr镀层生长过程的影响研究[D].西安理工大学.2009
[4].王伟.磁场的闭合状态对磁控溅射Cr镀层沉积过程影响的研究[D].西安理工大学.2008
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