导读:本文包含了液相腐蚀论文开题报告文献综述及选题提纲参考文献，主要关键词:光电子学,半导体刻蚀工艺,激光诱导液相腐蚀
液相腐蚀论文文献综述
谢兴盛,陈镇龙,叶玉堂,刘霖,吴云峰[1]（2006）在《半导体激光诱导液相腐蚀精度的提高方法》一文中研究指出从半导体激光诱导液相腐蚀的工艺原理出发,对影响刻蚀精度的主要因素进行了分析研究,从刻蚀图像分辨率、侧壁垂直度及底面平坦度、表面均匀化叁个方面提出了改善刻蚀精度的方法。(本文来源于《激光与光电子学进展》期刊2006年11期）
陈镇龙,叶玉堂,刘霖,田骁,吴云峰[2]（2006）在《一种新的激光诱导液相腐蚀法制作GaAs腐蚀孔》一文中研究指出提出了一种掩膜投影的激光诱导液相腐蚀方法,采用波长0.53μm的倍频Nd:YAG连续激光器、镀Cr掩膜板、H2SO4和H2O2混合溶液,在GaAs基片上制作腐蚀孔。通过对腐蚀原理的分析,对影响加工精度的溶液配比和激光功率密度进行了实验研究,得出了H2SO4∶H2O2∶H2O=4∶1∶20、激光功率密度11.7 W/cm2的最佳实验组合,并在此条件下得到了直径为30μm的高质量腐蚀孔。通过对腐蚀孔的横向与底面形状的分析,从改进实验装置和进行激光束空间整形2方面提出了改进的方法,对提高掩膜投影法的加工精度具有重要意义。(本文来源于《光电子·激光》期刊2006年09期）
刘霖[3]（2006）在《激光诱导液相腐蚀关键技术研究》一文中研究指出半导体的激光诱导液相腐蚀与普通化学腐蚀相比,可以有效地消除晶体取向影响,制作出更加多样化的腐蚀图形;与激光诱导气相腐蚀相比,其工艺条件更加容易实现,操作更加简单;与干法离子刻蚀相比,对基片无离子损伤,过度腐蚀容易控制,成本低。正因如此,激光腐蚀技术逐渐成为国内外学者研究的热点之一。因影响半导体激光诱导液相腐蚀效果的因素很多,要得到理想的腐蚀图样以及监控腐蚀进程有着很大的技术难度,至今没有得到有效解决。本文的工作就是围绕半导体GaAs基片的激光化学诱导液相腐蚀技术开展的,主要的研究结果和创新之处如下:1)提出了激光诱导液相抗蚀膜掩蔽法和电极腐蚀法抗蚀膜掩蔽法是指在基片表面不需要腐蚀的区域用抗蚀膜覆盖,激光照射在无抗蚀膜区域,对基片进行腐蚀。电极腐蚀法是指在激光腐蚀的过程中,通过外加电压在溶液中形成腐蚀电流,促使中间离子产物脱离基片表面,使腐蚀持续稳定进行。理论分析和实验结果都表明,以上两种方法均可以在简化工艺条件的基础上得到更好的腐蚀效果,有效地缩短激光腐蚀时间,得到更加均匀的腐蚀表面。2)提出了激光化学诱导液相次序选择腐蚀法该方法适用于腐蚀液为混合溶剂的情况,例如,H2SO4-H2O2对GaAs基片进行腐蚀时,先采用H2O2对基片进行氧化腐蚀处理,再利用H2SO4进行激光化学腐蚀。理论分析和实验结果都表明,次序选择腐蚀法可以有效地提高腐蚀表面的均匀性;因先对基片进行化学腐蚀处理,大大缩短了激光化学腐蚀的时间;使溶剂先后分别作用于基片,可以提高激光化学腐蚀溶剂配比的精度容差,使激光化学腐蚀控制和分析更加简单。3)提出了利用溶液腐蚀电流对激光化学腐蚀进程进行监测研究了试剂本身及其对半导体材料的腐蚀在激光环境中的回路电流变化,腐蚀表面均匀性和腐蚀电流变化速率的内在关系,腐蚀液浓度改变引起的腐蚀电流变化规律,以及电极距离改变时腐蚀电流变化的特点。4)提出了利用红外热图像实现对半导体激光化学腐蚀进程的实时监控利用红外热像仪对腐蚀进程进行图像采集,提取温度灰度值作为表征参数,有效地描述了溶剂自身温度分布的变化、基片表面的温度分布、表面腐蚀的不均(本文来源于《电子科技大学》期刊2006-01-01）
刘霖,叶玉堂,赵素英,刘娟秀,范超[4]（2005）在《激光化学诱导液相腐蚀新方法》一文中研究指出提出了一种激光诱导液相腐蚀新方法——抗蚀膜掩蔽法。抗蚀膜掩蔽法是指在激光腐蚀中,用抗蚀膜来实现对激光腐蚀区域的控制。理论分析和实验结果都表明,抗蚀膜掩蔽法可以有效地控制激光化学腐蚀的图像形状;因不需要对激光光束进行聚焦,光传播垂直于基片表面,制作出的腐蚀孔侧壁可以具有很高的垂直度;利用激光光束中心区域能量分布近似均匀的特点,使小面积腐蚀区域的腐蚀速率近似相等,腐蚀面内各点没有明显的高度差。因为以上优点,抗蚀膜掩蔽法能克服现有激光腐蚀方法的诸多弊端,简化激光腐蚀工艺,在特殊结构光电器件和光电集成中具有广泛的应用前景。(本文来源于《光电工程》期刊2005年10期）
杨勇新,胡润亭,李平先[5]（1994）在《混凝土液相腐蚀的评价计算》一文中研究指出通过对混凝土液相腐蚀过程的定性描述,提出混凝土液相腐蚀耐久性评价中腐蚀度的概念,并建立了相应的模糊计算结构模型。通过算例表明定量计算、定性评价混凝土在液相腐蚀下的耐久性是可能的。(本文来源于《港工技术》期刊1994年02期）
宋登元,王英民,李宝通,郝晓丽,穆新华[6]（1993）在《激光诱导单晶硅的液相腐蚀》一文中研究指出本文研究了利用聚焦的Ar~+激光束对单晶硅液相腐蚀的原理与特性。考察了腐蚀速率随激光功率密度的变化,讨论了腐蚀坑的形状与腐蚀条件关系(功率、时间),最后给出几点结论。(本文来源于《河北大学学报(自然科学版)》期刊1993年03期）
宋登元[7]（1991）在《激光诱导液相腐蚀及其应用》一文中研究指出激光诱导半导体的液相腐蚀具有常规半导体腐蚀工艺所无法比拟的某些优点。本文介绍了这种新腐蚀技术的基本原理,主要特点,并举例说明了它的应用。(本文来源于《激光与红外》期刊1991年05期）
液相腐蚀论文开题报告
（1）论文研究背景及目的
此处内容要求：
首先简单简介论文所研究问题的基本概念和背景，再而简单明了地指出论文所要研究解决的具体问题，并提出你的论文准备的观点或解决方法。
写法范例：
提出了一种掩膜投影的激光诱导液相腐蚀方法,采用波长0.53μm的倍频Nd:YAG连续激光器、镀Cr掩膜板、H2SO4和H2O2混合溶液,在GaAs基片上制作腐蚀孔。通过对腐蚀原理的分析,对影响加工精度的溶液配比和激光功率密度进行了实验研究,得出了H2SO4∶H2O2∶H2O=4∶1∶20、激光功率密度11.7 W/cm2的最佳实验组合,并在此条件下得到了直径为30μm的高质量腐蚀孔。通过对腐蚀孔的横向与底面形状的分析,从改进实验装置和进行激光束空间整形2方面提出了改进的方法,对提高掩膜投影法的加工精度具有重要意义。
（2）本文研究方法
调查法：该方法是有目的、有系统的搜集有关研究对象的具体信息。
观察法：用自己的感官和辅助工具直接观察研究对象从而得到有关信息。
实验法：通过主支变革、控制研究对象来发现与确认事物间的因果关系。
文献研究法：通过调查文献来获得资料，从而全面的、正确的了解掌握研究方法。
实证研究法：依据现有的科学理论和实践的需要提出设计。
定性分析法：对研究对象进行“质”的方面的研究，这个方法需要计算的数据较少。
定量分析法：通过具体的数字，使人们对研究对象的认识进一步精确化。
跨学科研究法：运用多学科的理论、方法和成果从整体上对某一课题进行研究。
功能分析法：这是社会科学用来分析社会现象的一种方法，从某一功能出发研究多个方面的影响。
模拟法：通过创设一个与原型相似的模型来间接研究原型某种特性的一种形容方法。
液相腐蚀论文参考文献
[1].谢兴盛,陈镇龙,叶玉堂,刘霖,吴云峰.半导体激光诱导液相腐蚀精度的提高方法[J].激光与光电子学进展.2006
[2].陈镇龙,叶玉堂,刘霖,田骁,吴云峰.一种新的激光诱导液相腐蚀法制作GaAs腐蚀孔[J].光电子·激光.2006
[3].刘霖.激光诱导液相腐蚀关键技术研究[D].电子科技大学.2006
[4].刘霖,叶玉堂,赵素英,刘娟秀,范超.激光化学诱导液相腐蚀新方法[J].光电工程.2005
[5].杨勇新,胡润亭,李平先.混凝土液相腐蚀的评价计算[J].港工技术.1994
[6].宋登元,王英民,李宝通,郝晓丽,穆新华.激光诱导单晶硅的液相腐蚀[J].河北大学学报(自然科学版).1993
[7].宋登元.激光诱导液相腐蚀及其应用[J].激光与红外.1991