本文主要研究内容
作者郑利珊,袁心强,雷婷（2019）在《脉冲周期对黄金电沉积层的影响（英文）》一文中研究指出：在无氰黄金电沉积工艺的基础上,利用双向脉冲电源,经过20 h的电沉积可以得到质量较好的厚度达150μm的黄金样品。通过以脉冲周期为单一变量实验,研究了脉冲周期对黄金电沉积层的影响,利用扫描电镜、X射线衍射仪以及维氏硬度计探讨了黄金电沉积层的微观形貌、平均晶粒尺寸以及维氏硬度。结果显示,当脉冲周期为45～75 ms时,电沉积层的维氏硬度HV0.1较高,最高可以达到1170 MPa,且电沉积层具有较强的(111)晶面的择优取向。较强的(111)晶面择优取向伴随着电沉积层更加平整的微观形貌以及更高的维氏硬度。
Abstract
zai mo qing huang jin dian chen ji gong yi de ji chu shang ,li yong shuang xiang mai chong dian yuan ,jing guo 20 hde dian chen ji ke yi de dao zhi liang jiao hao de hou du da 150μmde huang jin yang pin 。tong guo yi mai chong zhou ji wei chan yi bian liang shi yan ,yan jiu le mai chong zhou ji dui huang jin dian chen ji ceng de ying xiang ,li yong sao miao dian jing 、Xshe xian yan she yi yi ji wei shi ying du ji tan tao le huang jin dian chen ji ceng de wei guan xing mao 、ping jun jing li che cun yi ji wei shi ying du 。jie guo xian shi ,dang mai chong zhou ji wei 45～75 msshi ,dian chen ji ceng de wei shi ying du HV0.1jiao gao ,zui gao ke yi da dao 1170 MPa,ju dian chen ji ceng ju you jiao jiang de (111)jing mian de ze you qu xiang 。jiao jiang de (111)jing mian ze you qu xiang ban sui zhao dian chen ji ceng geng jia ping zheng de wei guan xing mao yi ji geng gao de wei shi ying du 。
论文参考文献
论文详细介绍
论文作者分别是来自稀有金属材料与工程的郑利珊,袁心强,雷婷，发表于刊物稀有金属材料与工程2019年06期论文，是一篇关于双向脉冲论文,脉冲周期论文,黄金论文,维氏硬度论文,无氰电沉积论文,稀有金属材料与工程2019年06期论文的文章。本文可供学术参考使用，各位学者可以免费参考阅读下载，文章观点不代表本站观点，资料来自稀有金属材料与工程2019年06期论文网站，若本站收录的文献无意侵犯了您的著作版权，请联系我们删除。
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