本文主要研究内容
作者李洪路,刘红婕,蒋晓东,黄进,曹林洪（2019）在《荧光成像技术探测熔石英元件亚表面缺陷》一文中研究指出：提出荧光成像技术用于无损探测熔石英光学元件亚表面缺陷,利用该方法获得不同加工工艺下熔石英光学元件的亚表面缺陷。结合熔石英光学元件损伤性能研究,分析了熔石英光学元件亚表面缺陷与其损伤性能的关联关系。结果表明,熔石英光学元件损伤阈值与荧光缺陷密度呈反比关系,即亚表面荧光缺陷较少的样品损伤性能较好。这说明利用该技术方法可以有效评价熔石英光学元件的损伤性能。该研究结果对光学元件加工技术具有指导意义。
Abstract
di chu ying guang cheng xiang ji shu yong yu mo sun tan ce rong dan ying guang xue yuan jian ya biao mian que xian ,li yong gai fang fa huo de bu tong jia gong gong yi xia rong dan ying guang xue yuan jian de ya biao mian que xian 。jie ge rong dan ying guang xue yuan jian sun shang xing neng yan jiu ,fen xi le rong dan ying guang xue yuan jian ya biao mian que xian yu ji sun shang xing neng de guan lian guan ji 。jie guo biao ming ,rong dan ying guang xue yuan jian sun shang yu zhi yu ying guang que xian mi du cheng fan bi guan ji ,ji ya biao mian ying guang que xian jiao shao de yang pin sun shang xing neng jiao hao 。zhe shui ming li yong gai ji shu fang fa ke yi you xiao ping jia rong dan ying guang xue yuan jian de sun shang xing neng 。gai yan jiu jie guo dui guang xue yuan jian jia gong ji shu ju you zhi dao yi yi 。
论文参考文献
论文详细介绍
论文作者分别是来自激光与光电子学进展的李洪路,刘红婕,蒋晓东,黄进,曹林洪，发表于刊物激光与光电子学进展2019年01期论文，是一篇关于图像处理论文,荧光成像论文,亚表面缺陷论文,激光损伤性能论文,熔石英论文,激光与光电子学进展2019年01期论文的文章。本文可供学术参考使用，各位学者可以免费参考阅读下载，文章观点不代表本站观点，资料来自激光与光电子学进展2019年01期论文网站，若本站收录的文献无意侵犯了您的著作版权，请联系我们删除。
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