本文主要研究内容
作者王林青,周永涛,王军军,刘雪芹（2019）在《氢稀释比对磁控溅射低温(100℃)沉积氢化微晶硅薄膜微结构特性的影响（英文）》一文中研究指出：在低温(100℃)条件下采用磁控溅射在玻璃和硅(100)衬底上沉积氢化微晶硅(μc-Si:H)薄膜,研究不同氢稀释比对微晶硅薄膜微结构特性的影响。结果表明:薄膜从非晶相过渡到了微晶相当氢稀释比增加到约50%,氢化微晶硅薄膜的结晶率随氢稀释比从40%增加到70%先增加后趋于稳定;薄膜的表面粗糙度随着氢稀释比的增加而增加,氢含量的变化趋势与之相反;所制备的氢化微晶硅薄膜都具有(111)择优取向,与氢稀释比无关,且薄膜结构致密。
Abstract
zai di wen (100℃)tiao jian xia cai yong ci kong jian she zai bo li he gui (100)chen de shang chen ji qing hua wei jing gui (μc-Si:H)bao mo ,yan jiu bu tong qing xi shi bi dui wei jing gui bao mo wei jie gou te xing de ying xiang 。jie guo biao ming :bao mo cong fei jing xiang guo du dao le wei jing xiang dang qing xi shi bi zeng jia dao yao 50%,qing hua wei jing gui bao mo de jie jing lv sui qing xi shi bi cong 40%zeng jia dao 70%xian zeng jia hou qu yu wen ding ;bao mo de biao mian cu cao du sui zhao qing xi shi bi de zeng jia er zeng jia ,qing han liang de bian hua qu shi yu zhi xiang fan ;suo zhi bei de qing hua wei jing gui bao mo dou ju you (111)ze you qu xiang ,yu qing xi shi bi mo guan ,ju bao mo jie gou zhi mi 。
论文参考文献
论文详细介绍
论文作者分别是来自Journal of Central South University的王林青,周永涛,王军军,刘雪芹，发表于刊物Journal of Central South University2019年10期论文，是一篇关于微晶硅薄膜论文,射频磁控溅射论文,氢稀释比例论文,低温论文,微结构论文,Journal of Central South University2019年10期论文的文章。本文可供学术参考使用，各位学者可以免费参考阅读下载，文章观点不代表本站观点，资料来自Journal of Central South University2019年10期论文网站，若本站收录的文献无意侵犯了您的著作版权，请联系我们删除。
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