导读:本文包含了对准标记论文开题报告文献综述及选题提纲参考文献，主要关键词:测量,光刻,套刻,对准
对准标记论文文献综述
杜聚有,戴凤钊,王向朝[1]（2019）在《标记非对称变形导致的对准误差修正方法及其在套刻测量中的应用》一文中研究指出硅片对准标记经过光刻工艺后产生的非对称变形会导致对准测量误差,目前普遍采用工艺验证的方法修正此对准测量误差,但该方法存在一定的工艺适应性问题。针对该对准测量误差,提出了一种新的修正方法,即利用非对称变形对准标记在不同照明波长和偏振态情况下的对准位置差异,修正对准标记非对称变形导致的对准误差,提高了对准的工艺适应性。并将该方法拓展应用于套刻测量误差修正,提高了套刻测量的工艺适应性。(本文来源于《中国激光》期刊2019年07期）
张韬[2]（2017）在《基于多级次同步混迭干涉的光栅标记对准测量方法》一文中研究指出光刻对准技术作为光刻机系统中的关键技术之一,其性能指标直接影响光刻系统的套刻精度。随着对光刻机套刻精度要求的不断提高,现有传统光学对准技术在测量范围、测量精度、测量效率等重要参数指标上已经无法满足现代光刻领域提出的需求。近十几年来,使用光栅标记多个衍射级次形成不同周期的对准测量信号的技术手段为同时满足上述需求提供了潜在可能。然而,现有光栅标记多级次对准测量方法仍然存在难以实现多级次对准测量信号同步生成和测量、不同级次测量结果一致性和稳定性不足的问题,致使不同级次测量结果融合过程存在原理性误差,这一核心问题已经成为制约光刻对准测量技术进一步发展的关键瓶颈。本文旨在寻求可兼顾测量范围、测量精度和测量效率潜力的对准测量技术手段。为解决不能同步生成和测量多级次对准测量信号造成的原理性问题,提出一种基于多级次同步混迭干涉的光栅标记对准测量方法,并在此基础上完成多级次混迭干涉信号高精度分离和提取,同时集合模板匹配原理实现了光栅标记的大范围捕获。本文的主要研究内容如下:针对现有基于光栅对准标记的多级次干涉对准测量方法中难以同步生成多个不同尺度周期的测量信号,导致测量范围、速度与精度难以兼顾的问题,提出了一种基于多衍射级次同步混迭干涉的光栅标记对准测量方法。该方法使用光栅不同衍射级次携带相位信息来表征对准位置的偏差值,利用光学4f系统结合反转剪切干涉原理使得各个衍射级次干涉信号有机结合,并利用单一探测器进行测量。通过傅立叶光学原理建立了该对准测量方法的完整理论模型,推导出以各级次干涉相位为变量的对准偏差函数表达式,从而实现光栅标记多衍射级次同步生成与测量。分析及实验结果表明,该方法可实现大范围、快速、高精度对准测量,对光栅标记13个级次对准测量信号进行同步探测并对其中第1和第9级测量信号进行融合,在±4μm测量范围内对于光栅标记单一位置重复测量的标准差达到2.53nm。针对现有信号测量方法仅能提取特定级次干涉对准测量信息,以及相位信息易受噪声频谱干扰导致难以高精度、快速提取多级次混迭干涉信号中各级次相位信息的问题,提出了一种基于相位解耦扫描参数优化和数字锁相放大的多级次对准相位信息分离与提取方法。该方法利用相关混频运算限定了各级次测量信号的敏感频带,通过优化控制光栅标记扫描参数实现混迭测量信号中各级次信息解耦,解除了传统锁相放大探测方法中滤波器本身非理想特性对信号相位检测精度的限制,提高了相位提取精度,简化了相位信息提取与信号处理模块的设计难度,从而实现对特定衍射级次的相位信息进行针对性分离和提取。在此基础上,利用傅里叶分析原理对该方法中误差信号的生成机理进行了讨论和分析,为提高对准测量性能提供了理论依据。实验结果表明,利用上述相位分离与提取方法对单个级次测量信号的相位误差小于±0.002°,测量混迭干涉信号中13个级次的相位测量误差小于±0.020°。针对现有光栅标记捕获方法中测量信号的周期性对捕获范围的限制,以及信号包络曲线易受测量条件影响导致难以高精度获取标记捕获位置的问题,提出一种基于信号强度模板多参数匹配的标记捕获方法。该方法通过对光栅标记进行全局扫描测量,获取测量信号包络曲线与干涉信号结合的特征,利用相关匹配算法和多参数拟合原理对测量信号特征进行模板匹配,从而实现标记捕获测量。该方法可以有效抑制噪声对测量信号的影响,提高标记捕获测量结果的可靠性和测量精度。实验结果表明,利用该方法进行标记捕获测量时,其测量范围不受限制,重复测量误差不大于2.02μm。最后,在上述研究基础上,搭建基于多级次同步混迭干涉的光栅标记对准测量方法的实验系统,并对本文提出方法进行实验验证与分析。通过对该测量系统关键特性的实验验证,证明了各单元的可靠性及有效性。对基于光栅标记多衍射级次同步混迭干涉对准测量系统进行了整体实验,结合多级次测量结果在其测量范围内实现了光栅标记的高精度对准测量。采用激光干涉仪与对准测量系统进行同步比对,在10个不同标记位置上重复测量结果与干涉仪的测量结果对比误差不大于11.27nm。(本文来源于《哈尔滨工业大学》期刊2017-04-01）
马冲[3]（2015）在《基于序列图像十字标记对准技术研究》一文中研究指出提出一种基于序列图像十字标记对准方法。通过图像预处理、标记跟踪、标记识别技术有效提取十字标记特征,通过计算十字标记中心点及旋转角度,计算出位置偏差,完成目标精确对准。通过标记跟踪算法,有效缩短算法所需时间。实验结果表明,采用序列图像十字标记对准技术完成目标精确对准,技术上具备可行性。(本文来源于《电脑编程技巧与维护》期刊2015年23期）
肖步文,孙晓儒,甘新慧,周东飞,尹攀[4]（2015）在《基于VLD终端的光刻对准标记工艺设计》一文中研究指出采用VLD终端的半导体器件,在工艺流程上首先需要进行终端制备,然后进行有源区的制备,这就需要在终端制备工艺结束之后,留下后续工艺制造所需要的光刻对版标记,本文设计了一种可以实现套刻的光刻对版标记的工艺,并给出了工艺实现的条件。(本文来源于《山东工业技术》期刊2015年11期）
刘丽丽,王永刚,胡惠娟[5]（2013）在《芯片制作过程中切割道光刻对准标记的优化》一文中研究指出在0.18μm高压产品工艺生产过程中,作者发现晶片在钨化学机械研磨制程后会有很严重的钨剥落缺陷,此种缺陷成行排列,有一定规律,与光罩的曝光间隔距离相匹配,该缺陷会导致产品良率有非常明显的下降。同时在生产过程中也发现在MIM上极板蚀刻后,有些聚合物难以去除,此种残留物也来自曝光的固定位置。因此解决这类与光罩相关的缺陷和残留物显得尤为重要。作者经过深入的研究分析以及实验验证,通过对切割道上的光罩对准标记进行优化,彻底解决了这两种缺陷问题,使得产品的良率得以提升。(本文来源于《电子与封装》期刊2013年06期）
朱江平,胡松,于军胜,唐燕,周绍林[6]（2013）在《光刻对准中掩模光栅标记成像标定方法》一文中研究指出双光栅迭栅条纹对准方法具有精度高、可靠性强等特点,适用于接近接触式光刻。为了实现高精度测量,实际应用中要求掩模光栅标记与硅片光栅标记高度平行。掩模光栅标记在CCD中成像通常存在一定的倾斜角。由此,在已提出的相位斜率倾斜条纹标定方法上,提出了一种改进方法。该方法充分利用掩模光栅45°和135°两个方向的相位信息标定CCD的成像位置,以实现掩模光栅条纹的标定。对比两种方法分析表明,改进后的方法具有倾角测量范围大、抗噪性强、精度高等优点,理论极限精度优于0.001°量级。(本文来源于《中国激光》期刊2013年01期）
殷履文,盖玉喜[7]（2011）在《投影光刻中相位光栅对准标记变形解决方案》一文中研究指出描述了相位光栅对准法在步进重复投影光刻机中的运用,通过比较同轴对准系统和离轴对准系统的原理,工作过程,阐述了当对准标记产生变形时离轴对准系统能更好地修正偏差从而保证光刻工艺中套刻精度的要求。(本文来源于《电子工业专用设备》期刊2011年06期）
李运锋,王海江,韦学志,宋海军[8]（2009）在《用于光刻装置的多光栅标记对准系统》一文中研究指出提出了一种用于光刻装置的Si片-工件台对准系统。该对准系统采用多光栅对准标记,标记的每个方向有序排列着四个子光栅。对准时,单波长对准光束照射在标记上,各级衍射光以不同的衍射角反射出。通过空间滤波器,零级和高级衍射光被滤除,而±1级衍射光被保留并相干涉成像在参考光栅的表面。两个较大周期子光栅的对准信号用于对准标记的捕获和粗对准,两个较小周期子光栅的对准信号用于获得粗对准基础上的精确对准。由于该对准系统无须采用楔板组,与ATHENA对准技术相比,降低了制造成本,提高了工程的可实现性。(本文来源于《微纳电子技术》期刊2009年08期）
施伟杰,王向朝,张冬青,马明英,王帆[9]（2006）在《基于镜像焦面检测对准标记的套刻性能原位测量技术》一文中研究指出套刻性能是现代高精度步进扫描投影光刻机的重要性能指标之一。提出了一种基于镜像焦面检测对准标记(简称“镜像焦面检测对准标记”)的光刻机套刻性能原位测量技术。该技术通过对曝光在硅片上的镜像焦面检测对准标记图形进行光学对准,利用标记图形对准位置与理想位置偏差实现套刻性能的原位检测。实验结果表明该技术在进行套刻误差的精确测量的同时还可以全面、定量地计算影响光刻机单机套刻误差的场内参量及场间参量。与目前套刻性能原位测量技术相比,该技术有效地避免了测量精度对轴向像质限制的依赖,简化了光刻机整机性能检测的过程。(本文来源于《光学学报》期刊2006年03期）
王啸,李峰[10]（2005）在《低温共烧陶瓷(LTCC)的标记、定位、对准系统》一文中研究指出简要介绍低温共烧陶瓷(LTCC)基板生产过程中的标记、定位、对准的方法及要求。(本文来源于《集成电路通讯》期刊2005年04期）
对准标记论文开题报告
（1）论文研究背景及目的
此处内容要求：
首先简单简介论文所研究问题的基本概念和背景，再而简单明了地指出论文所要研究解决的具体问题，并提出你的论文准备的观点或解决方法。
写法范例：
光刻对准技术作为光刻机系统中的关键技术之一,其性能指标直接影响光刻系统的套刻精度。随着对光刻机套刻精度要求的不断提高,现有传统光学对准技术在测量范围、测量精度、测量效率等重要参数指标上已经无法满足现代光刻领域提出的需求。近十几年来,使用光栅标记多个衍射级次形成不同周期的对准测量信号的技术手段为同时满足上述需求提供了潜在可能。然而,现有光栅标记多级次对准测量方法仍然存在难以实现多级次对准测量信号同步生成和测量、不同级次测量结果一致性和稳定性不足的问题,致使不同级次测量结果融合过程存在原理性误差,这一核心问题已经成为制约光刻对准测量技术进一步发展的关键瓶颈。本文旨在寻求可兼顾测量范围、测量精度和测量效率潜力的对准测量技术手段。为解决不能同步生成和测量多级次对准测量信号造成的原理性问题,提出一种基于多级次同步混迭干涉的光栅标记对准测量方法,并在此基础上完成多级次混迭干涉信号高精度分离和提取,同时集合模板匹配原理实现了光栅标记的大范围捕获。本文的主要研究内容如下:针对现有基于光栅对准标记的多级次干涉对准测量方法中难以同步生成多个不同尺度周期的测量信号,导致测量范围、速度与精度难以兼顾的问题,提出了一种基于多衍射级次同步混迭干涉的光栅标记对准测量方法。该方法使用光栅不同衍射级次携带相位信息来表征对准位置的偏差值,利用光学4f系统结合反转剪切干涉原理使得各个衍射级次干涉信号有机结合,并利用单一探测器进行测量。通过傅立叶光学原理建立了该对准测量方法的完整理论模型,推导出以各级次干涉相位为变量的对准偏差函数表达式,从而实现光栅标记多衍射级次同步生成与测量。分析及实验结果表明,该方法可实现大范围、快速、高精度对准测量,对光栅标记13个级次对准测量信号进行同步探测并对其中第1和第9级测量信号进行融合,在±4μm测量范围内对于光栅标记单一位置重复测量的标准差达到2.53nm。针对现有信号测量方法仅能提取特定级次干涉对准测量信息,以及相位信息易受噪声频谱干扰导致难以高精度、快速提取多级次混迭干涉信号中各级次相位信息的问题,提出了一种基于相位解耦扫描参数优化和数字锁相放大的多级次对准相位信息分离与提取方法。该方法利用相关混频运算限定了各级次测量信号的敏感频带,通过优化控制光栅标记扫描参数实现混迭测量信号中各级次信息解耦,解除了传统锁相放大探测方法中滤波器本身非理想特性对信号相位检测精度的限制,提高了相位提取精度,简化了相位信息提取与信号处理模块的设计难度,从而实现对特定衍射级次的相位信息进行针对性分离和提取。在此基础上,利用傅里叶分析原理对该方法中误差信号的生成机理进行了讨论和分析,为提高对准测量性能提供了理论依据。实验结果表明,利用上述相位分离与提取方法对单个级次测量信号的相位误差小于±0.002°,测量混迭干涉信号中13个级次的相位测量误差小于±0.020°。针对现有光栅标记捕获方法中测量信号的周期性对捕获范围的限制,以及信号包络曲线易受测量条件影响导致难以高精度获取标记捕获位置的问题,提出一种基于信号强度模板多参数匹配的标记捕获方法。该方法通过对光栅标记进行全局扫描测量,获取测量信号包络曲线与干涉信号结合的特征,利用相关匹配算法和多参数拟合原理对测量信号特征进行模板匹配,从而实现标记捕获测量。该方法可以有效抑制噪声对测量信号的影响,提高标记捕获测量结果的可靠性和测量精度。实验结果表明,利用该方法进行标记捕获测量时,其测量范围不受限制,重复测量误差不大于2.02μm。最后,在上述研究基础上,搭建基于多级次同步混迭干涉的光栅标记对准测量方法的实验系统,并对本文提出方法进行实验验证与分析。通过对该测量系统关键特性的实验验证,证明了各单元的可靠性及有效性。对基于光栅标记多衍射级次同步混迭干涉对准测量系统进行了整体实验,结合多级次测量结果在其测量范围内实现了光栅标记的高精度对准测量。采用激光干涉仪与对准测量系统进行同步比对,在10个不同标记位置上重复测量结果与干涉仪的测量结果对比误差不大于11.27nm。
（2）本文研究方法
调查法：该方法是有目的、有系统的搜集有关研究对象的具体信息。
观察法：用自己的感官和辅助工具直接观察研究对象从而得到有关信息。
实验法：通过主支变革、控制研究对象来发现与确认事物间的因果关系。
文献研究法：通过调查文献来获得资料，从而全面的、正确的了解掌握研究方法。
实证研究法：依据现有的科学理论和实践的需要提出设计。
定性分析法：对研究对象进行“质”的方面的研究，这个方法需要计算的数据较少。
定量分析法：通过具体的数字，使人们对研究对象的认识进一步精确化。
跨学科研究法：运用多学科的理论、方法和成果从整体上对某一课题进行研究。
功能分析法：这是社会科学用来分析社会现象的一种方法，从某一功能出发研究多个方面的影响。
模拟法：通过创设一个与原型相似的模型来间接研究原型某种特性的一种形容方法。
对准标记论文参考文献
[1].杜聚有,戴凤钊,王向朝.标记非对称变形导致的对准误差修正方法及其在套刻测量中的应用[J].中国激光.2019
[2].张韬.基于多级次同步混迭干涉的光栅标记对准测量方法[D].哈尔滨工业大学.2017
[3].马冲.基于序列图像十字标记对准技术研究[J].电脑编程技巧与维护.2015
[4].肖步文,孙晓儒,甘新慧,周东飞,尹攀.基于VLD终端的光刻对准标记工艺设计[J].山东工业技术.2015
[5].刘丽丽,王永刚,胡惠娟.芯片制作过程中切割道光刻对准标记的优化[J].电子与封装.2013
[6].朱江平,胡松,于军胜,唐燕,周绍林.光刻对准中掩模光栅标记成像标定方法[J].中国激光.2013
[7].殷履文,盖玉喜.投影光刻中相位光栅对准标记变形解决方案[J].电子工业专用设备.2011
[8].李运锋,王海江,韦学志,宋海军.用于光刻装置的多光栅标记对准系统[J].微纳电子技术.2009
[9].施伟杰,王向朝,张冬青,马明英,王帆.基于镜像焦面检测对准标记的套刻性能原位测量技术[J].光学学报.2006
[10].王啸,李峰.低温共烧陶瓷(LTCC)的标记、定位、对准系统[J].集成电路通讯.2005