导读:本文包含了中频误差论文开题报告文献综述及选题提纲参考文献，主要关键词:数控抛光,去除函数,匀滑模型,材料参数
中频误差论文文献综述
雷鹏立,侯晶,王健,邓文辉,钟波[1]（2019）在《小工具数控抛光对元件表面中频误差的匀滑研究》一文中研究指出数控抛光已被广泛应用于光学元器件的加工制造,而抑制元件表面中频误差是加工过程中一项十分重要的内容。基于Presston方程对数控小工具抛光盘去除函数进行了建模,得到了理论化的去除函数表达式。结合去除函数,在参数化匀滑模型基础上通过建立多参数的时变理论模型,表明元件表面中频误差是随抛光过程呈指数型收敛的,其收敛效率取决于材料参数、体积去除率等抛光工艺参数。对理论模型的匀滑曲线进行了模拟分析,实现了不同工艺条件下的匀滑效率的对比。结果表明:在不同抛光盘材料的匀滑过程中,材料系数越大,其整体匀滑效率越高。同样,抛光盘体积去除率越大,对表面误差的匀滑效率也会越高。进行了一组空间周期分别为3,5,7mm的波纹误差的匀滑实验,其结果表明,在相同的抛光参数下,具有较大空间频率的波纹匀滑效率会更高,收敛曲线下降得更快。最后对比了不同材料抛光盘匀滑效率,从实验上证实了沥青盘在波纹匀滑效率上远高于聚氨酯材料的抛光盘。(本文来源于《强激光与粒子束》期刊2019年11期）
乔励城,张静,付秀华,艾博,李鑫[2]（2019）在《基于伪随机罗斯轨迹的光学表面中频误差抑制研究》一文中研究指出光学表面的中频误差的控制长期以来一直是光学加工中的热点、难点问题。对于接触式的计算机控制光学表面成形技术,传统的加工路径如光栅式路径和螺旋线式路径通常会引入固有的中频误差,而新型的伪随机轨迹对机床的动态性能要求过高,使其难以普遍应用。基于对伪随机轨迹的研究,本文提出了利用伪随机罗斯轨迹对光学表面中频误差进行抑制的方法。在保证加工路径不重合和遍历工件表面的基础上,建立了伪随机罗斯轨迹的参数模型。针对传统的加工路径和伪随机罗斯轨迹进行了工艺对比实验,并对干涉结果进行功率谱密度分析。实验结果表明,叁种路径对于低频误差均可以实现有效地抑制,而传统路径对于1/0.07 mm以上的频段误差会则会产生不良的影响,而伪随机罗斯轨迹则对于中频误差可以实现有效地抑制。(本文来源于《激光与红外》期刊2019年11期）
雷鹏立[3]（2019）在《小工具数控抛光对中频误差的匀滑理论及实验研究》一文中研究指出过去的几十年中,计算机控制表面加工成形技术(computer controlled optical surfacing)已被广泛且成功的运用于光学元器件的制造。而在对大口径望远镜系统、纳米尺度光刻系统和高功率激光系统等典型极端光学制造工程中,其元器件的表面误差是影响整个系统成像和运行质量的极为关键的因素。其中,对抑制中频误差(mid-spatial frequency errors)的理论和工艺方法最为困难。本文围绕数控小工具抛光对元件表面中频误差的匀滑理论展开研究工作,根据现有的理论模型进行进一步的引申推导以及修正,建立了一个综合考虑各项工艺参数的匀滑演化模型。并且通过设计和实施具体的实验,验证了理论模型的准确性以及可行性。文章具体的内容包括:(1)基于Presston方程对数控小工具抛光盘去除函数进行了建模,得到了理论化的去除函数表达式。模拟计算了去除函数体积去除率以及其形状与抛光盘公转ω1、自转ω2、偏心距e、抛光盘半径R之间的数值关系。同时,分析了在非均匀压力分布下去除函数的形状变化。(2)在参数化匀滑模型理论上,结合实际的抛光过程中的各项工艺变量,建立了一个指数型收敛的匀滑演化模型。为了数值化表示匀滑效率,该模型中定义了一个波纹收敛因子EDF。以便将元件表面波纹误差的匀滑效率分解为了材料影响因子κtotol以及包括了抛光压力P、抛光盘尺寸R和体积去除率VRR在内的工艺影响因子。(3)对理论模型的匀滑曲线进行了模拟分析。通过改变EDF的部分参数,实现了不同工艺条件下的匀滑效率的对比分析。结果表明:在不同抛光盘材料的匀滑过程中,材料影响因子κtotol越大,其整体匀滑效率越高。同样,工艺影响因子越大,对表面误差的匀滑效率也会越高。(4)进行了一组空间周期分别为3mm,5mm,7mm的波纹误差的匀滑实验,其结果表明在相同的抛光参数下,具有较大空间频率的波纹匀滑效率会更高,收敛曲线下降的更快。实验计算的叁种空间频率下的材料影响因子κtotol分别为108.045 pa nm-1,77.357 panm-1,29.465 panm-1。在直径150mm实验件上对匀滑模型的曲线预测进行了验证,发现理论模型的预测曲线与实际加工的波纹收敛曲线十分接近,收敛因子EDF相对误差小于5%,证明了理论模型的准确性。总体研究工作表明,参数化时域匀滑模型在预测中频误差的匀滑曲线上较为准确,在整个面形的匀滑预测上也与实际测得数据接近,说明该模型在实际工程中已具备初步的指导性作用。(本文来源于《中国工程物理研究院》期刊2019-04-20）
李智钢,鲍振军,朱衡,蔡红梅,周衡[4]（2018）在《多磨头数控抛光对大口径离轴抛物面镜中频误差的抑制》一文中研究指出大口径非球面光学元件的面形中频误差对光路中的光斑扩散函数精度以及高能激光的能量散射有着直接的影响,针对该问题,提出一种计算机控制的多磨头组合抛光技术,用于对非球面元件中频误差的有效控制。对半刚性抛光盘抛光过程进行了力学有限元分析,并基于Bridging模型对半刚性抛光盘抛光过程进行了理论模拟,对其贴合特性进行了研究分析。实验结果表明:采用多磨头组合抛光的技术能够有效改善大尺寸非球面元件的面形中频误差,加工的两件φ460 mm离轴抛物面元件面形PSD1值相对于之前降低了近70%,达到2.835nm,并且PV小于0.16λ(632.8nm),RMS小于0.02λ。(本文来源于《强激光与粒子束》期刊2018年06期）
徐鹏来[5]（2018）在《中频相参数字接收机的相位补偿误差分析》一文中研究指出中频相参雷达是一种通过在中频上的频率跟踪和相位补偿使不相参的回波具备相参性的雷达系统,这种雷达成本低、功率大,但是测速偏差和地物抑制能力相较全相参系统偏低,在实际使用中难以满足用户的需求。鉴于此,通过对中频相参数字接收机的频率跟踪和相位补偿功能的原理分析,推导出中频相参数字接收机经过相位补偿后,得到的回波的发射初始相位并不能修正到零,实际上存在两部分误差:第一部分与中频相参数字接收机内部数字控制振荡器(NCO)的频率、回波与样本脉冲之间的延时关系成正比,只要对NCO频率进行调整,此误差在脉间和距离上就是变化的;而第二部分是测频处理算法带来的误差。在发射样本信号频率变化不大的情况下,第一部分相位补偿误差在脉间的变化对多普勒速度处理的偏差、信号功率谱的展宽以及信噪比的下降起主导作用。在以上推论的基础上,改进了中频相参数字接收机的频率跟踪策略,有效改善了测速精度和地物抑制能力。(本文来源于《雷达科学与技术》期刊2018年02期）
颜浩,唐才学,罗子健,温圣林[6]（2016）在《平面光学元件中频误差的磁流变加工控制》一文中研究指出为了实现对大口径平面光学元件波前中频误差的磁流变加工控制,对磁流变去除函数的频谱误差校正能力、磁流变加工残余误差抑制方法等进行研究。首先,通过比较模拟加工前后元件中频PSD1误差的变化和元件功率谱密度曲线的变化分析了磁流变去除函数的可修正频谱误差范围。接着,通过均匀去除方法分析加工深度、加工轨迹间距和去除函数尺寸等磁流变加工参数对中频PSD2误差影响的基础上,提出了抑制中频PSD2误差的方法。最后,对一块400 mm×400 mm口径平面元件的频谱误差进行了磁流变加工控制实验。实验结果表明:经过3次迭代加工,元件波前PV由加工前的0.6λ收敛至0.1λ,中频PSD1误差由5.57 nm收敛至1.36 nm,PSD2由0.95 nm变化至0.88 nm。因此,通过优化磁流变加工参数并合理选择加工策略,可实现磁流变加工对大口径平面光学元件中频误差的收敛控制。(本文来源于《强激光材料与元器件学术研讨会暨激光破坏学术研讨会论文集》期刊2016-11-13）
黄金勇,胡庆,马平[7]（2016）在《大口径平面光学元件波前中频误差数控抛光技术研究》一文中研究指出针对光学元件表面中频误差修正问题,通过建立小工具数控抛光的去除模型,从理论上分析了不同去除函数形状、加工路径在抛光过程中引入的固有残余中频误差。模拟结果表明:陡峭的类高斯型去除函数结合规则性加工路径,残余中频误差较大;平缓的类高斯型去除函数结合伪随机一笔划加工路径,残余中频误差较小。最后,分别在430mm×430nm口径熔石英平面窗口、610mm×440mm口径K9平面反射镜样件上进行了加工实验,均获得了PSD1 RMS指标小于1.8nm的实验结果,验证了理论计算模拟的正确性,对大口径平面光学元件中频误差的小工具数控抛光修正具有重要指导意义。(本文来源于《强激光材料与元器件学术研讨会暨激光破坏学术研讨会论文集》期刊2016-11-13）
张雪洁,沈卫星,杨相会,马晓君[8]（2016）在《干涉仪测量中频波面误差的技术问题讨论》一文中研究指出针对高功率激光驱动装置中的大口径光学元件,空间周期位于0.12~33mm的中频波面误差是光束非线性小尺度自聚焦的主要诱因,严重威胁激光系统的安全运行。基于傅里叶分析的功率谱密度(PSD)函数被用于中频波面误差的评估。然而,在利用干涉仪检测光学元件反射/透射波面时,干涉仪固有的低通滤波特性会造成波面中高频信息的丢失。如何有效地提取中频波纹信息,获得光学元件相对真实的波面误差PSD分布,是本报告的主要内容。(本文来源于《第十六届全国光学测试学术交流会摘要集》期刊2016-09-25）
贾阳[9]（2016）在《基于磁流变抛光的中频误差控制工艺算法与策略》一文中研究指出磁流变抛光技术被誉为是光学制造界的革命性技术,能快速实现超高精度面形(数十纳米以下)、超光滑表面质量(1纳米以下)且近无亚表面缺陷,可使光学企业的制造水平与生产效率有突破性的提升。但是磁流变抛光在快速去除光学表面低频误差同时,还会引入较多的中高频误差。其中的中频误差也是一个严重影响光学元件光学性能的因素,必须进行有效控制。国外对磁流变抛光中频误差工艺的研究已经比较成熟,但加工工艺作为技术秘密并未公开,国内在中频误差控制工艺上还存在若干问题,论文通过理论分析、仿真与工艺实验结合,对以下几个部分进行了研究：(1)中频误差评价方法研究。通过调研了国内外常见的光学元件面形误差评价方法,对功率谱密度分析法进行了深入的探讨,为之后的工艺优化过程中光学元件的中频误差分析提供理论基础及理论指导。(2)光学元件的中频误差算法与软件开发。从软件工程角度,设计了面形分析软件的总体架构,完成各模块算法设计与功能开发,为后续的面形分析进行辅助。(3)探索了去除函数形态对加工面形的影响规律。通过仿真,研究了去除函数表面形态对加工面形的影响规律,并初步获得去除函数的选取规律。(4)驻留时间算法进行了优化。提出了通过滤波算法使驻留时间矩阵沿抛光轮进给方向更加平滑,即相邻两点的速度更加接近,从而降低这种速度的波动性对中频误差造成的影响。(5)抛光轨迹进行了优化。首先研究了常规轨迹和伪随机轨迹的优缺点,并在光栅线轨迹的基础上,提出了基于聚类离散思想的自适光栅线轨迹,不仅去除了常规光栅线轨迹的特征误差问题,而且实现了中频误差的高效收敛。本文通过对磁流变抛光过程中中频误差控制技术中若干关键问题的细致研究,确定了一条能够有效控制中频误差的工艺路线,期望能实现全口径抛光的中频误差控制。(本文来源于《中国工程物理研究院》期刊2016-04-01）
许力超[10]（2016）在《基于沥青盘中频误差抑制的研究》一文中研究指出以计算机控制光学表面成型技术(CCOS)为主要代表的现代光学加工制造技术大大提高了光学加工的效率,然而CCOS技术不可避免的会造成“碎带”误差—中频面形误差。光学元件表面的中频面形误差是现代许多极端光学工程进一步发展的阻力,对于高功率激光系统来说,中频面形误差会使中央亮斑展宽,降低亮度,引起非线性自聚焦,所以如何抑制光学元件表面的中频面形误差是一项急需解决的任务。传统光学面形评价指标PV、RMS和微观粗糙度不能再描述中频面形误差,而功率谱密度函数就是一种评价全频段面形误差的评价方法。本文对沥青盘抑制中频面形误差的能力作了研究与分析,具体工作如下:首先,介绍了中频面形误差对光学元件性能的影响,评价中频面形误差的方法和现阶段常用的几种抑制中频误差的方法,在这基础上说明研究沥青盘抑制中频面形误差的意义。其次,对沥青盘平滑的模型和基本理论作了介绍和分析,对于正弦周期的中频面形误差,通过带通滤波后的面形PV和RMS以指数形式收敛。然后,分析沥青盘平滑过程中的运动模型,推导去除函数的数学表达式。进行去除函数实验,比较仿真结果与实验结果,检查沥青盘去除函数的准确性与稳定性。用正交试验方案设计实验,在各组参数组合下对直径为100mm的平面镜进行平滑实验,对检测所得的面形数据作2~10mm的带通滤波,分析滤波后的面形PV和RMS的收敛曲线、功率谱密度曲线,用田口法分析各参数对中频面形误差收敛极限和收敛速率的影响,得到最优的参数组合。最后,将实验得到的最优平滑参数组合分别应用于平面镜和高次非球面镜的平滑加工,分析在所需空间频率上中频面形误差的收敛性,验证实验分析得到的结论。(本文来源于《中国科学院研究生院(光电技术研究所)》期刊2016-04-01）
中频误差论文开题报告
（1）论文研究背景及目的
此处内容要求：
首先简单简介论文所研究问题的基本概念和背景，再而简单明了地指出论文所要研究解决的具体问题，并提出你的论文准备的观点或解决方法。
写法范例：
光学表面的中频误差的控制长期以来一直是光学加工中的热点、难点问题。对于接触式的计算机控制光学表面成形技术,传统的加工路径如光栅式路径和螺旋线式路径通常会引入固有的中频误差,而新型的伪随机轨迹对机床的动态性能要求过高,使其难以普遍应用。基于对伪随机轨迹的研究,本文提出了利用伪随机罗斯轨迹对光学表面中频误差进行抑制的方法。在保证加工路径不重合和遍历工件表面的基础上,建立了伪随机罗斯轨迹的参数模型。针对传统的加工路径和伪随机罗斯轨迹进行了工艺对比实验,并对干涉结果进行功率谱密度分析。实验结果表明,叁种路径对于低频误差均可以实现有效地抑制,而传统路径对于1/0.07 mm以上的频段误差会则会产生不良的影响,而伪随机罗斯轨迹则对于中频误差可以实现有效地抑制。
（2）本文研究方法
调查法：该方法是有目的、有系统的搜集有关研究对象的具体信息。
观察法：用自己的感官和辅助工具直接观察研究对象从而得到有关信息。
实验法：通过主支变革、控制研究对象来发现与确认事物间的因果关系。
文献研究法：通过调查文献来获得资料，从而全面的、正确的了解掌握研究方法。
实证研究法：依据现有的科学理论和实践的需要提出设计。
定性分析法：对研究对象进行“质”的方面的研究，这个方法需要计算的数据较少。
定量分析法：通过具体的数字，使人们对研究对象的认识进一步精确化。
跨学科研究法：运用多学科的理论、方法和成果从整体上对某一课题进行研究。
功能分析法：这是社会科学用来分析社会现象的一种方法，从某一功能出发研究多个方面的影响。
模拟法：通过创设一个与原型相似的模型来间接研究原型某种特性的一种形容方法。
中频误差论文参考文献
[1].雷鹏立,侯晶,王健,邓文辉,钟波.小工具数控抛光对元件表面中频误差的匀滑研究[J].强激光与粒子束.2019
[2].乔励城,张静,付秀华,艾博,李鑫.基于伪随机罗斯轨迹的光学表面中频误差抑制研究[J].激光与红外.2019
[3].雷鹏立.小工具数控抛光对中频误差的匀滑理论及实验研究[D].中国工程物理研究院.2019
[4].李智钢,鲍振军,朱衡,蔡红梅,周衡.多磨头数控抛光对大口径离轴抛物面镜中频误差的抑制[J].强激光与粒子束.2018
[5].徐鹏来.中频相参数字接收机的相位补偿误差分析[J].雷达科学与技术.2018
[6].颜浩,唐才学,罗子健,温圣林.平面光学元件中频误差的磁流变加工控制[C].强激光材料与元器件学术研讨会暨激光破坏学术研讨会论文集.2016
[7].黄金勇,胡庆,马平.大口径平面光学元件波前中频误差数控抛光技术研究[C].强激光材料与元器件学术研讨会暨激光破坏学术研讨会论文集.2016
[8].张雪洁,沈卫星,杨相会,马晓君.干涉仪测量中频波面误差的技术问题讨论[C].第十六届全国光学测试学术交流会摘要集.2016
[9].贾阳.基于磁流变抛光的中频误差控制工艺算法与策略[D].中国工程物理研究院.2016
[10].许力超.基于沥青盘中频误差抑制的研究[D].中国科学院研究生院(光电技术研究所).2016