导读:本文包含了硬盘基板论文开题报告文献综述及选题提纲参考文献，主要关键词:硬盘驱动器,化学洗净剂
硬盘基板论文文献综述
山口俊一郎,岳霄[1]（2014）在《硬盘基板制造工程用洗净剂》一文中研究指出本文介绍的Chemical clean PR是专用于硬盘基板制造工程的工业洗净剂系列产品,它在硬盘驱动器(HDD)制造过程中发挥着重要的作用。(本文来源于《中国洗涤用品工业》期刊2014年09期）
刘利宾,刘玉岭,王胜利,林娜娜,杨立兵[2]（2011）在《硬盘基板化学机械粗抛光的实验研究》一文中研究指出针对硬盘NiP/Al基板粗抛光,采用SiO2作为抛光磨料的碱性抛光液,在不同压力、转速、pH值、磨料浓度和活性剂体积浓度下,对硬盘基板粗抛光的去除速率和表面粗糙度的变化规律进行研究,用原子力显微镜观察抛光表面的微观形貌。最后对5个关键参数进行了优化。结果表明:当压力为0.10 MPa,转速为80 rad/min,pH值为11.2,磨料与去离子水体积比为1∶0.5,表面活性剂体积浓度为9 mL/L时,硬盘基板的去除速率为27 mg/min,粗抛后表面粗糙度为0.281 nm,获得了高的去除速率和较好的表面粗糙度,这样会大大降低精抛的时间,有利于抛光效率的提高。(本文来源于《半导体技术》期刊2011年12期）
孙涛[3]（2011）在《二氧化硅溶胶的制备及其对硬盘基板NiP的抛光速率研究》一文中研究指出离子交换法制备了不同粒径的纳米二氧化硅溶胶,采用TEM、DLS等手段对磨料进行了表征,并以二氧化硅溶胶作为磨料对存储器硬盘基板NiP进行化学机械抛光实验,考察了磨料粒径和数量等因素对存储器硬盘基板NiP的抛光去除速率的影响。(本文来源于《辽宁化工》期刊2011年05期）
孙业林,刘玉岭,刘效岩,魏恒,谢竹石[4]（2010）在《碱性条件下硬盘基板两步抛光法的实验研究》一文中研究指出在对硬盘基板CMP机理进行分析后,采用河北工业大学研制的计算机硬盘抛光专用碱性抛光液,选择氧化剂添加量、抛光压力两个重要参数分别进行实验,讨论它们在两步抛光方法中的重要作用。总结实验结果后,得出了上述两个参数在两步抛光方法中的影响规律,提出粗抛光中,应该采用较高氧化剂添加量和抛光压力以得到较高的去除速率和一定的表面质量;精抛光中,应该采用低氧化剂含量、低抛光压力以得到较完美的表面质量。用此方法抛光,较好地解决了当前硬盘基板加工中抛光速率与表面质量之间的矛盾。(本文来源于《半导体技术》期刊2010年01期）
唐文栋,刘玉岭,宁培桓,田军[5]（2008）在《碱性抛光液对硬盘基板抛光中表面状况的影响》一文中研究指出阐述了化学机械抛光(CMP)技术在硬盘基板加工中发挥的重要作用,介绍了SiO2碱性抛光液的化学机械抛光机理以及抛光液在化学机械抛光中发挥的重要作用。使用河北工业大学研制的SiO2碱性抛光液对硬盘基板表面抛光,分析研究了抛光液中的浓度、表面活性剂以及去除量对抛光后硬盘基板表面状况的影响机理。总结了硬盘基板表面粗糙度随抛光液中的浓度、表面活性剂及去除量的变化规律以及抛光液的这些参数如何影响到硬盘基板的表面状况。在总结和分析这些规律的基础上,对抛光结果进行了检测。经检测得出,改善抛光后的硬盘基板表面质量(Ra=0.3926nm,Rrms=0.4953nm)取得了显着效果。(本文来源于《微纳电子技术》期刊2008年10期）
吕昊,刘爱梅,曹志峰,黄少林,詹祖盛[6]（2007）在《新型硬盘基板微晶玻璃的晶核剂研究》一文中研究指出采用差热分析(DTA)、X-射线衍射分析(XRD)和扫描电镜(SEM)等分析手段研究了P2O5、TiO2、ZnF2作为晶核剂对Li2O-Al2O3-SiO2(LAS)系统微晶玻璃形核和晶化的影响。结果表明:P2O5晶核剂能获得小尺寸的晶粒,晶型为球形或多面体形,析晶的可控制性良好;TiO2晶核剂析晶温度较高,析晶强烈,形成条状细晶;ZnF2晶核剂能获得小尺寸球状晶粒,析晶温度较低,但对温度过于敏感。P2O5作为晶核剂可以获得理想小晶粒的透明微晶玻璃,从而适合于用作新型硬盘基板。(本文来源于《光学技术》期刊2007年05期）
李文东,郑金标,魏智琦[7]（2007）在《MgO-Al_2O_3-SiO_2系硬盘基板用微晶玻璃析晶动力学研究》一文中研究指出MgO-A l2O3-SiO2系微晶玻璃是一种优良的磁盘基板备选材料,该材料具有良好的力学性能,能够满足高性能硬盘基板用材料的要求。采用差热分析方法(DTA),得到了以TiO2作为晶核剂的MgO-A l2O3-SiO2系微晶玻璃的析晶动力学参数,研究了该体系微晶玻璃的析晶动力学;利用X射线衍射技术(XRD)确定了经合适热处理后得到的样品的主晶相。结果表明:引入TiO2降低了该体系玻璃的析晶活化能Ea,当TiO2质量分数达到7%时,Ea达到最小值,玻璃析晶晶化指数n达到最大值,这表明TiO2在一定范围内促进了该系统玻璃的析晶。(本文来源于《玻璃与搪瓷》期刊2007年01期）
苏小萍,黄少林[8]（2006）在《一种硬盘基板用新材料——微晶玻璃》一文中研究指出微晶玻璃是一种在计算机硬盘基板应用方面很有潜力的新型材料,对某厂研制的Li2O·2SiO系硬盘基板用微晶玻璃的力学性能进行了测试,对结果的分布状况进行了统计分析。结果表明:与传统的铝合金材料相比,该材料具有较高的抗弯强度、弯曲弹性模量和维氏硬度;其结果均符合Weibull分布,Weibull模数的最小二乘估计值较高,表明该材料强度分布的离散性小,使用安全可靠性高。(本文来源于《机械工程材料》期刊2006年08期）
刘长宇,刘玉岭,王娟,牛新环[9]（2006）在《计算机硬盘基板及其CMP技术分析研究》一文中研究指出随着计算机硬盘容量的增大、转速的提高、磁头与盘片间距离的降低,对硬盘基板材料选择及改善基板表面平整度提出了更高的要求。综述了硬盘基板材料的发展状况,指出了基板化学机械抛光(CMP)中亟待解决的问题和解决的途径,分析研究了影响硬盘基板CMP技术的因素及如何控制基板抛光后的表面质量。(本文来源于《半导体技术》期刊2006年08期）
郑伟宏[10]（2004）在《微晶玻璃硬盘基板的研究》一文中研究指出随着计算机技术朝小型化、高性能化飞速发展，同时应用软件和数据量的不断增大，必然要求硬盘具有更大的容量和更好的性能。 硬盘主要由盘片和磁头两部分组成。盘片主要包括：基板、磁性层和保护性衬层叁个部分。在硬盘工作时，盘片受到各种作用力，且这些作用力主要由基板来承受。纵观近年来硬盘的发展趋势，硬盘正朝着更高的容量、更快的速度、更小的体积快速发展，要求基板材料具有更好的力学性能和平整的表面，原先的NiP／Al基板已经无法适应这一变化。 在所有的基板材料当中，微晶玻璃是最有希望用作硬盘基板的。其中以MgO-Al_2O_3-SiO_2系微晶玻璃性能最为优越。因此，对MAS系统微晶玻璃进行深入的研究具有重要的意义。 本文以MAS系统微晶玻璃为研究对象，运用XRD、SEM、IR等微观结构测试方法，结合微晶玻璃力学性能、热膨胀系数等，研究其组成、热处理制度、微观结构和性能四者之间的相互联系和影响，通过实验确定合理的组成和热处理制度，制备具有较高力学性能和合理晶相组成的微晶玻璃。 首先，研究微晶玻璃中MgO和Al_2O_3含量的改变对微晶玻璃微观结构和力学性能的影响，结果表明：对于MgO／Al_2O_3＜1的组成来说，微晶玻璃具有较高的力学性能和较合理的微观结构。在MgO／Al_2O_3＜1的组成里，随着Al_2O_3含量的升高，微晶玻璃的力学性能逐渐增强。 接着，对热处理制度进行较深入的研究，分析热处理制度的改交对微晶玻璃的晶相、力学性能、Si和Ti的价态基团、化学稳定性和晶体颗粒度的影响。结果表明：随着晶化温度的升高。[Si-O]键的不饱和程度进一步增加，残余玻璃相中的钛离子逐渐减少，化学稳定性也随着增强。 最后，对TiO_2和TiO_2+ZrO_2进行深入研究，对比TiO_2晶核剂和TiO_2+ZrO_2复合晶核剂对微晶玻璃性能的影响。结果表明：随着复合晶核剂的引入，微晶玻璃的析晶活化能由277.1 KJ／mol降低为207.8KJ／mol，同时降低微晶玻璃的初始析晶温度。(本文来源于《武汉理工大学》期刊2004-05-01）
硬盘基板论文开题报告
（1）论文研究背景及目的
此处内容要求：
首先简单简介论文所研究问题的基本概念和背景，再而简单明了地指出论文所要研究解决的具体问题，并提出你的论文准备的观点或解决方法。
写法范例：
针对硬盘NiP/Al基板粗抛光,采用SiO2作为抛光磨料的碱性抛光液,在不同压力、转速、pH值、磨料浓度和活性剂体积浓度下,对硬盘基板粗抛光的去除速率和表面粗糙度的变化规律进行研究,用原子力显微镜观察抛光表面的微观形貌。最后对5个关键参数进行了优化。结果表明:当压力为0.10 MPa,转速为80 rad/min,pH值为11.2,磨料与去离子水体积比为1∶0.5,表面活性剂体积浓度为9 mL/L时,硬盘基板的去除速率为27 mg/min,粗抛后表面粗糙度为0.281 nm,获得了高的去除速率和较好的表面粗糙度,这样会大大降低精抛的时间,有利于抛光效率的提高。
（2）本文研究方法
调查法：该方法是有目的、有系统的搜集有关研究对象的具体信息。
观察法：用自己的感官和辅助工具直接观察研究对象从而得到有关信息。
实验法：通过主支变革、控制研究对象来发现与确认事物间的因果关系。
文献研究法：通过调查文献来获得资料，从而全面的、正确的了解掌握研究方法。
实证研究法：依据现有的科学理论和实践的需要提出设计。
定性分析法：对研究对象进行“质”的方面的研究，这个方法需要计算的数据较少。
定量分析法：通过具体的数字，使人们对研究对象的认识进一步精确化。
跨学科研究法：运用多学科的理论、方法和成果从整体上对某一课题进行研究。
功能分析法：这是社会科学用来分析社会现象的一种方法，从某一功能出发研究多个方面的影响。
模拟法：通过创设一个与原型相似的模型来间接研究原型某种特性的一种形容方法。
硬盘基板论文参考文献
[1].山口俊一郎,岳霄.硬盘基板制造工程用洗净剂[J].中国洗涤用品工业.2014
[2].刘利宾,刘玉岭,王胜利,林娜娜,杨立兵.硬盘基板化学机械粗抛光的实验研究[J].半导体技术.2011
[3].孙涛.二氧化硅溶胶的制备及其对硬盘基板NiP的抛光速率研究[J].辽宁化工.2011
[4].孙业林,刘玉岭,刘效岩,魏恒,谢竹石.碱性条件下硬盘基板两步抛光法的实验研究[J].半导体技术.2010
[5].唐文栋,刘玉岭,宁培桓,田军.碱性抛光液对硬盘基板抛光中表面状况的影响[J].微纳电子技术.2008
[6].吕昊,刘爱梅,曹志峰,黄少林,詹祖盛.新型硬盘基板微晶玻璃的晶核剂研究[J].光学技术.2007
[7].李文东,郑金标,魏智琦.MgO-Al_2O_3-SiO_2系硬盘基板用微晶玻璃析晶动力学研究[J].玻璃与搪瓷.2007
[8].苏小萍,黄少林.一种硬盘基板用新材料——微晶玻璃[J].机械工程材料.2006
[9].刘长宇,刘玉岭,王娟,牛新环.计算机硬盘基板及其CMP技术分析研究[J].半导体技术.2006
[10].郑伟宏.微晶玻璃硬盘基板的研究[D].武汉理工大学.2004