本文主要研究内容
作者戴恩琦,张帅,吕文辉（2019）在《薄层晶体硅双面陷光结构的制备及其性能研究》一文中研究指出：采用金属辅助硅化学刻蚀法,在薄层晶体硅片前后表面分别制备硅纳米陷光结构,并表征其增强薄层晶体硅对太阳光子吸收的性能.对比研究无表面织构、双面金字塔织构、双面硅纳米织构的薄层晶体硅的漫反射光谱与透射光谱,结果表明,双面硅纳米织构的薄层晶体硅具有卓越的光吸收性能,～70μm厚度的薄层晶体硅片能够吸收93.4%的AM1.5G太阳光子.该研究结果为解决晶硅太阳电池中的光学损失问题提供了一种可供选择的陷光结构.
Abstract
cai yong jin shu fu zhu gui hua xue ke shi fa ,zai bao ceng jing ti gui pian qian hou biao mian fen bie zhi bei gui na mi xian guang jie gou ,bing biao zheng ji zeng jiang bao ceng jing ti gui dui tai yang guang zi xi shou de xing neng .dui bi yan jiu mo biao mian zhi gou 、shuang mian jin zi da zhi gou 、shuang mian gui na mi zhi gou de bao ceng jing ti gui de man fan she guang pu yu tou she guang pu ,jie guo biao ming ,shuang mian gui na mi zhi gou de bao ceng jing ti gui ju you zhuo yue de guang xi shou xing neng ,～70μmhou du de bao ceng jing ti gui pian neng gou xi shou 93.4%de AM1.5Gtai yang guang zi .gai yan jiu jie guo wei jie jue jing gui tai yang dian chi zhong de guang xue sun shi wen ti di gong le yi chong ke gong shua ze de xian guang jie gou .
论文参考文献
论文详细介绍
论文作者分别是来自湖州师范学院学报的戴恩琦,张帅,吕文辉，发表于刊物湖州师范学院学报2019年02期论文，是一篇关于薄层晶体硅论文,表面织构论文,光诱捕性能论文,湖州师范学院学报2019年02期论文的文章。本文可供学术参考使用，各位学者可以免费参考阅读下载，文章观点不代表本站观点，资料来自湖州师范学院学报2019年02期论文网站，若本站收录的文献无意侵犯了您的著作版权，请联系我们删除。
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