导读:本文包含了薄膜平衡论文开题报告文献综述及选题提纲参考文献，主要关键词:聚乙烯吡咯烷酮,纳米薄膜,非平衡态
薄膜平衡论文文献综述
徐姣,樊枭,陈秋慈,洪宁,马禹[1]（2019）在《聚乙烯吡咯烷酮纳米薄膜非平衡行为的研究》一文中研究指出通过旋涂法制备了聚乙烯吡咯烷酮(PVP)纳米薄膜(厚度h<100 nm),利用饱和水气诱导PVP纳米薄膜发生去润湿现象,通过观察薄膜中孔洞生长过程和形态研究薄膜中存在的非平衡态现象。我们发现在室温条件下,薄膜中孔洞的生长速率随退火时间的增加不断减慢,直至不随时间变化。这表明新制的纳米薄膜处于非平衡态,存在着一定的残余应力,室温条件下退火可使薄膜趋于平衡。(本文来源于《当代化工》期刊2019年07期）
白素媛,王斌,贾孟晗,丛士博,吴宝丽[2]（2018）在《基于非平衡分子动力学的氧化锌薄膜热导率的模拟》一文中研究指出氧化锌薄膜是在微电子领域有着广泛应用的半导体材料,其导热特性对微电子器件的性能有重要影响.采用非平衡(NEMD)分子动力学方法和优化的Buckingham势函数对纤锌矿氧化锌纳米薄膜热导率进行数值模拟.模拟结果表明:室温下厚度范围在29.15～45.81 nm之间的氧化锌薄膜热导率数值在0.909 95～1.251 26 W/(m·k)之间,具有明显的尺寸效应;当系统温度从100 k升高到500 k时,薄膜热导率下降趋势明显.该文所研究的内容在氧化锌纳米薄膜热传导领域具有一定的实际应用价值.(本文来源于《鞍山师范学院学报》期刊2018年06期）
石志锋,郑志雯,宁成云,王迎军[3]（2018）在《基体偏压对直流非平衡磁控溅射氮化硅薄膜生长特性的影响》一文中研究指出采用高纯硅靶和氮气,以直流非平衡磁控溅射技术在单晶硅表面制备氮化硅薄膜。借助台阶仪、原子力显微镜、红外光谱和X射线光电子能谱考察了基体偏压(-50~-200 V)对氮化硅薄膜沉积速率、表面形貌及元素化学态的影响。结果表明:所得氮化硅薄膜表面光滑,连续致密,均匀。随着样品负偏压的提高,薄膜的生长速率逐渐降低,但当偏压超过-150 V时,薄膜的沉积速率又升高。当基体偏压从-50 V提高到-200 V时,薄膜中Si 2p的峰位向高能端移动了0.41 eV。基片偏压为-150 V时,薄膜生长较为缓慢,但致密,Si─N键含量高。(本文来源于《电镀与涂饰》期刊2018年13期）
王振刚[4]（2017）在《介电薄膜换能器的非平衡力电行为分析》一文中研究指出介电聚合物属软物质,当上下表面附着有柔顺电极的介电聚合物薄膜受外加电场作用时,该薄膜将减小厚度,同时扩大面积,产生大变形,将电能转化为机械能。加之此类材料具有轻质、高效、低成本、能量密度高、无噪音、易加工等优异的材料和力学性能,近年来,此类材料受到了学术界和工业界的广泛关注,可被设计成致动器、传感器及能量采集器等换能器,并已在或有望在人工肌肉、机器人、光学、生物医学、电子产品、能量采集等领域发挥重要的作用,具有潜在的巨大的市场价值。目前,学者们对介电聚合物薄膜换能器的作动机理、失效模式及其力电弹性行为已做了大量卓有成效的理论及实验研究,而对其粘弹性力电行为的刻画不多,本文则围绕介电聚合物薄膜换能器的粘弹性力电行为展开研究,所开展的创新性的研究工作如下:(1)建立了中心粘接有轻质圆盘的圆形介电薄膜致动器,受内压及电压作用、产生面外大变形的粘弹性力学模型,并对其力电粘弹性行为进行了研究。通过非平衡热力学理论,推导得到了该致动器的状态方程及控制方程;采用弹簧-黏壶流变模型,得到了该致动器的运动学方程。数值得到了所考虑变量和变形薄膜轮廓的演变过程并进行了图示说明。计算中,考虑了内压、电压及设计参数等对介电薄膜粘弹性行为的影响效应,结果表明:内压、电压及设计参数对该致动器的力电粘弹性行为都有着显着影响。(2)建立了上下两端连接有轻质刚性圆盘,受内压和电压作用,产生轴对称大变形的管状介电薄膜致动器的粘弹性力学模型。经推导得到了描述其大变形的控制方程及描述其粘弹性的运动学方程,并联合使用打靶法及改进的欧拉法对方程进行了数值求解,得到了各物理量的变化规律。计算中,重点考虑了内压、电压及管状介电薄膜的纵横比对该致动器力电粘弹性行为的影响效应,结果表明,它们极大地影响着其力电粘弹性行为。(3)建立了受轴向拉力和电压作用,上下两端连接有轻质刚性圆盘的管状介电薄膜致动器的粘弹性力学模型。通过准静态平衡法,推导得到了描述该致动器大变形的控制方程,而运动学方程仍由流变模型所给出。经数值求解,得到了各物理量的分布规律。计算中,重点研究了力电载荷、薄膜的环向预拉伸、薄膜的纵横比对该致动器粘弹性力电行为的影响。结果表明,它们的影响显着。(4)建立了管状薄膜-弹簧致动器的力学模型。通过准静态平衡法,推导出描述该致动器大变形的控制方程,运动学方程仍由流变模型所给出。通过数值计算,分别研究了该模型在恒定力电载荷和周期力电载荷作用下的粘弹性行为。从计算结果得出,弹簧的刚度、加载率对薄膜的时间依赖行为影响显着。本文的研究将有助于更好地掌握此类介电薄膜致动器的粘弹性力电行为,并为这几款类致动器的优化设计提供理论指导,大力推进这几款致动器的工程化应用。(本文来源于《兰州理工大学》期刊2017-05-01）
程玺儒[5]（2017）在《非平衡磁控溅射离子镀制备TiAlN薄膜及其性能研究》一文中研究指出硬质涂层能显着提高刀具、模具的使用寿命和被加工零件的质量。TiAlN涂层因具有硬度高、热硬性好、抗高温氧化能力强、附着力强等优点,作为硬质涂层材料,已广泛应用于切削工具、模具和耐磨损耐腐蚀零件的表面强化。近几年,虽然已经有很多制备方法能获得性能良好的TiAlN硬质涂层,但是还能在影响涂层性能的工艺参数上进一步改善涂层性能,因此为了制备出优异性能的TiAlN涂层,需要对其制备技术和相关的工艺参数进行研究和设计。本文采用中频非平衡磁控溅射技术制备TiAlN薄膜。采用正交试验方法,研究直流偏压、离化功率、溅射功率及时间各试验参数对TiAlN薄膜力学性能的影响。旨在找出能够镀制优良性能镀层的最佳工艺方案。以最佳试验方案下的试样为参照,研究直流偏压、离化功率、溅射功率叁个参数对TiAlN薄膜断口形貌、薄膜成分及物相结构的影响。通过显微硬度仪、划痕仪、金相显微镜、XRD、SEM和EDS等仪器分别对薄膜的硬度、结合力、物相结构、断口形貌的主要性能进行了测试分析。TiAlN薄膜作为一种使加工工具表面强化的硬质涂层,是以其硬度和膜基结合力来判别切削性能优劣的主要标准。本实验的研究结果表明溅射功率对薄膜的硬度起着决定性影响,离化功率对薄膜的膜基结合力有很大影响,采用适当的偏压、离化功率、溅射功率沉积条件以及沉积时间是获得优越性能薄膜的必要条件。通过对薄膜断口形貌和物相结构分析表明:在一定的范围内,随着偏压的升高,薄膜组织结构致密,与基底表面形成互扩散结构而无明显的分界层;溅射功率与离化功率的提高,使得膜层形成细小的晶粒较多,断面更加光滑平整;EDS能谱分析结果发现,溅射功率对Al的含量有较大的影响,随着溅射功率的提高,Al/Ti逐渐增大;XRD分析结果发现在四组样品的薄膜中检测出其AlN相结构均在(111)晶面取向具有明显高的生长优势,I(111)/I(200)越大,TiN衍射峰越向高角度偏移即其晶格常数减小。(本文来源于《西华大学》期刊2017-05-01）
卢保奇,许耀先,申广耀,季江华,王林军[6]（2016）在《非平衡磁控溅射法制备的Cr-DLC薄膜真空退火的Raman光谱研究》一文中研究指出利用非平衡磁控溅射法制得厚度达到2.23μm的掺铬含氢类金刚石(Cr-DLC)碳膜。采用Raman光谱和XPS对制得的薄膜进行了结构和热稳定性等表征。结果表明:室温时,薄膜在1 544cm~(-1)附近的Raman"G"峰归属于石墨结构中C—C键的伸缩振动,即E2g模式;而1 367cm-1附近的"D"峰归属于sp~2碳环的"呼吸"振动模式,即A1g模式;计算得到薄膜sp3键的相对含量约为48at.%。加热至300℃,薄膜的Raman谱图与室温时相似,表明此温度段薄膜的结构稳定,未发生明显改变;至400℃时,ID/IG值迅速增大,sp~2键含量升高,表明此时DLC膜发生了明显的结构变化,开始发生石墨化。继续升温,膜中ID/IG比率增加,"G"峰位向高波数方向位移,表明sp~2/sp~3比率逐渐增大,薄膜石墨化程度加强,sp~2键的无序度逐渐降低,最终导致薄膜的摩擦系数和磨损率等逐渐增大,热稳定性逐渐降低。退火600℃时,ID/IG值以及sp~2键含量达到最大值,DLC薄膜失效。(本文来源于《光谱学与光谱分析》期刊2016年11期）
王俊玲,代海洋[7]（2015）在《电压对中频脉冲非平衡磁控溅射类金刚石薄膜结构与性能的影响》一文中研究指出制备参数对类金刚石(DLC)薄膜的性能和结构有显着影响。利用中频脉冲非平衡磁控溅射新技术制备了DLC薄膜,采用Raman光谱、X射线光电子能谱仪、纳米压痕仪、光谱型椭偏仪研究了溅射电压对DLC薄膜微观结构、力学性能和光学性能的影响。结果表明:当溅射电压由550 V增加到750 V时,DLC薄膜中sp3杂化碳含量随溅射电压的增加而增加,当溅射电压超过750 V时,薄膜中sp3杂化碳含量随溅射电压的增加而减少;DLC薄膜的纳米硬度、折射率均随溅射电压的增加先增加而后减小,溅射电压为750 V时制备薄膜的纳米硬度及折射率最大。(本文来源于《材料保护》期刊2015年12期）
孔良桂,徐书生,郝俊英[8]（2015）在《射频非平衡磁控溅射WS_2薄膜的结构及其摩擦学性能研究》一文中研究指出采用射频非平衡磁控溅射技术制备了具有不同(002)择优取向程度的WS2薄膜,研究了Ar流量对薄膜成分、微观结构、力学性能和摩擦学性能的影响.研究表明:随Ar流量的增大,WS2薄膜的S/W原子比和(002)衍射峰强度均表现出先降低后升高的变化趋势,而硬度和弹性模量表现出先升高后降低的变化趋势.在大气环境下,WS2薄膜的(002)择优取向程度、S/W原子比以及硬度对薄膜的摩擦学性能均具有显着影响,当S/W原子比较低、(002)择优取向度弱、硬度较高时,薄膜脆性较大,易于发生润滑失效;当S/W原子比、(002)择优取向度和硬度均较高时,薄膜结构致密,且摩擦过程中在对偶表面易于形成有效的转移膜,薄膜表现出较好的减摩、抗黏着特性和优异的抗磨性能.(本文来源于《摩擦学学报》期刊2015年04期）
付英英,李红轩,吉利,刘晓红,周慧娣[9]（2014）在《CrAlYN-VAg复合薄膜的非平衡磁控溅射制备及其结构和性能研究》一文中研究指出采用非平衡磁控溅射技术,通过优化工艺,在单晶硅和高温合金钢衬底上成功制备了CrAlYN-VAg纳米复合薄膜。随后对薄膜性能进行了系统的研究分析,重点讨论了薄膜在不同温度下的热稳定性能和高温摩擦学性能。结果表明:与CrAlYN薄膜相比,CrAlYN-VAg纳米复合薄膜的热稳定性能下降,即前者在1100oC时几乎完全被氧化,而后者在700oC已经完全被氧化;这是因为掺杂导致薄膜结构变得疏松,而空气中的氧很容易扩散进入薄膜内部所导致的。另外,在中低温(200和400oC)条件下,由于润滑剂未扩散到薄膜表面,而且吸附水的脱附使摩擦系数和磨损率相对较大,所以薄膜在摩擦过程中磨损严重;而在600oC由于生成了具有润滑作用的Ag颗粒而使薄膜的摩擦系数下降至0.3左右,同时,因为软金属Ag的易磨耗性使磨损率增大;但是,当温度进一步升高时,薄膜因严重氧化导致其很快被磨损失效。(本文来源于《第十届全国表面工程大会暨第六届全国青年表面工程论坛论文摘要集（一）》期刊2014-10-28）
石永敬,潘复生,鲍明东,潘虎成,Muhammad,RASHAD[10]（2014）在《偏压对非平衡磁控溅射ZrNbAlN薄膜的成分、力学性能及腐蚀特性的影响(英文)》一文中研究指出采用反应非平衡磁控溅射技术在青铜及Si(100)衬底上沉积不同负偏压(Vb)的纳米ZrNbAlN薄膜。薄膜结构及成分采用X射线光电子能谱及X射线衍射进行表征。结果表明,Zr和Nb的原子浓度受负偏压影响,Vb导致N 1s谱和Al 2p谱的结合能增加及Zr 3d5/2和Nb 3d5/2谱的结合能降低,薄膜表面形貌的演化受控于Vb。X射线衍射谱显示这些薄膜具有(111)择优取向。此外,薄膜的力学特性及腐蚀行为分别通过纳米压痕测试及腐蚀测试表征。当负偏压为-70 V时,纳米压痕测试显示的最大显微硬度为21.85 GPa,ZrNbAlN膜在青铜衬底上的性能远优于未涂层处理的衬底。在0.5 mol/L NaCl和0.5 mol/L HCl溶液中的腐蚀实验表明,腐蚀势能及腐蚀电流依赖于衬底偏压,在-90 V时能够获得较高的抗腐蚀特性。(本文来源于《Transactions of Nonferrous Metals Society of China》期刊2014年09期）
薄膜平衡论文开题报告
（1）论文研究背景及目的
此处内容要求：
首先简单简介论文所研究问题的基本概念和背景，再而简单明了地指出论文所要研究解决的具体问题，并提出你的论文准备的观点或解决方法。
写法范例：
氧化锌薄膜是在微电子领域有着广泛应用的半导体材料,其导热特性对微电子器件的性能有重要影响.采用非平衡(NEMD)分子动力学方法和优化的Buckingham势函数对纤锌矿氧化锌纳米薄膜热导率进行数值模拟.模拟结果表明:室温下厚度范围在29.15～45.81 nm之间的氧化锌薄膜热导率数值在0.909 95～1.251 26 W/(m·k)之间,具有明显的尺寸效应;当系统温度从100 k升高到500 k时,薄膜热导率下降趋势明显.该文所研究的内容在氧化锌纳米薄膜热传导领域具有一定的实际应用价值.
（2）本文研究方法
调查法：该方法是有目的、有系统的搜集有关研究对象的具体信息。
观察法：用自己的感官和辅助工具直接观察研究对象从而得到有关信息。
实验法：通过主支变革、控制研究对象来发现与确认事物间的因果关系。
文献研究法：通过调查文献来获得资料，从而全面的、正确的了解掌握研究方法。
实证研究法：依据现有的科学理论和实践的需要提出设计。
定性分析法：对研究对象进行“质”的方面的研究，这个方法需要计算的数据较少。
定量分析法：通过具体的数字，使人们对研究对象的认识进一步精确化。
跨学科研究法：运用多学科的理论、方法和成果从整体上对某一课题进行研究。
功能分析法：这是社会科学用来分析社会现象的一种方法，从某一功能出发研究多个方面的影响。
模拟法：通过创设一个与原型相似的模型来间接研究原型某种特性的一种形容方法。
薄膜平衡论文参考文献
[1].徐姣,樊枭,陈秋慈,洪宁,马禹.聚乙烯吡咯烷酮纳米薄膜非平衡行为的研究[J].当代化工.2019
[2].白素媛,王斌,贾孟晗,丛士博,吴宝丽.基于非平衡分子动力学的氧化锌薄膜热导率的模拟[J].鞍山师范学院学报.2018
[3].石志锋,郑志雯,宁成云,王迎军.基体偏压对直流非平衡磁控溅射氮化硅薄膜生长特性的影响[J].电镀与涂饰.2018
[4].王振刚.介电薄膜换能器的非平衡力电行为分析[D].兰州理工大学.2017
[5].程玺儒.非平衡磁控溅射离子镀制备TiAlN薄膜及其性能研究[D].西华大学.2017
[6].卢保奇,许耀先,申广耀,季江华,王林军.非平衡磁控溅射法制备的Cr-DLC薄膜真空退火的Raman光谱研究[J].光谱学与光谱分析.2016
[7].王俊玲,代海洋.电压对中频脉冲非平衡磁控溅射类金刚石薄膜结构与性能的影响[J].材料保护.2015
[8].孔良桂,徐书生,郝俊英.射频非平衡磁控溅射WS_2薄膜的结构及其摩擦学性能研究[J].摩擦学学报.2015
[9].付英英,李红轩,吉利,刘晓红,周慧娣.CrAlYN-VAg复合薄膜的非平衡磁控溅射制备及其结构和性能研究[C].第十届全国表面工程大会暨第六届全国青年表面工程论坛论文摘要集（一）.2014
[10].石永敬,潘复生,鲍明东,潘虎成,Muhammad,RASHAD.偏压对非平衡磁控溅射ZrNbAlN薄膜的成分、力学性能及腐蚀特性的影响(英文)[J].TransactionsofNonferrousMetalsSocietyofChina.2014