本文主要研究内容
作者张欢（2019）在《基于磁流变抛光法的光学元件抛光专利技术综述》一文中研究指出：磁流变抛光法是目前用于抛光光学元件的热点技术。文章从基于磁流变抛光法的光学元件抛光的基本概念出发,统计和归纳了该技术领域的国内外专利文献,梳理了该领域的技术发展脉络,最后结合具体案例阐述了技术综述在审查实践中的应用。
Abstract
ci liu bian pao guang fa shi mu qian yong yu pao guang guang xue yuan jian de re dian ji shu 。wen zhang cong ji yu ci liu bian pao guang fa de guang xue yuan jian pao guang de ji ben gai nian chu fa ,tong ji he gui na le gai ji shu ling yu de guo nei wai zhuan li wen suo ,shu li le gai ling yu de ji shu fa zhan mai lao ,zui hou jie ge ju ti an li chan shu le ji shu zeng shu zai shen cha shi jian zhong de ying yong 。
论文参考文献
论文详细介绍
论文作者分别是来自科技创新与应用的张欢，发表于刊物科技创新与应用2019年20期论文，是一篇关于磁流论文,抛光法论文,专利论文,科技创新与应用2019年20期论文的文章。本文可供学术参考使用，各位学者可以免费参考阅读下载，文章观点不代表本站观点，资料来自科技创新与应用2019年20期论文网站，若本站收录的文献无意侵犯了您的著作版权，请联系我们删除。
标签：磁流论文; 抛光法论文; 专利论文; 科技创新与应用2019年20期论文;