但敏:脉冲磁控溅射MoS2涂层的组织结构及摩擦学性能论文

但敏:脉冲磁控溅射MoS2涂层的组织结构及摩擦学性能论文

本文主要研究内容

作者但敏,罗蓉蓉,周毅,李建,金凡亚(2019)在《脉冲磁控溅射MoS2涂层的组织结构及摩擦学性能》一文中研究指出:采用单极性脉冲磁控溅射技术在A286基体表面制备MoS2低摩擦系数涂层(LFC)。利用XRD、SEM等手段表征涂层的成分与微观组织;采用原位纳米力学测试系统、球-盘式摩擦磨损试验机分析涂层的力学和摩擦学性能,并探讨了脉冲偏压对涂层结构、力学和摩擦学性能的影响。结果表明,脉冲偏压由300V增加到600V,MoS2涂层择优取向发生了(002)向(100)转变,当脉冲偏压增至800 V时又恢复(002)择优取向;随着脉冲偏压的增加,涂层的硬度及弹性模量出现先减小后增大趋势,摩擦系数在0.065~0.076范围内波动,呈现出先增大后减小趋势;偏压为800 V的涂层摩擦学性能最佳,其磨损率仅为基体的13.5%。

Abstract

cai yong chan ji xing mai chong ci kong jian she ji shu zai A286ji ti biao mian zhi bei MoS2di ma ca ji shu tu ceng (LFC)。li yong XRD、SEMdeng shou duan biao zheng tu ceng de cheng fen yu wei guan zu zhi ;cai yong yuan wei na mi li xue ce shi ji tong 、qiu -pan shi ma ca mo sun shi yan ji fen xi tu ceng de li xue he ma ca xue xing neng ,bing tan tao le mai chong pian ya dui tu ceng jie gou 、li xue he ma ca xue xing neng de ying xiang 。jie guo biao ming ,mai chong pian ya you 300Vzeng jia dao 600V,MoS2tu ceng ze you qu xiang fa sheng le (002)xiang (100)zhuai bian ,dang mai chong pian ya zeng zhi 800 Vshi you hui fu (002)ze you qu xiang ;sui zhao mai chong pian ya de zeng jia ,tu ceng de ying du ji dan xing mo liang chu xian xian jian xiao hou zeng da qu shi ,ma ca ji shu zai 0.065~0.076fan wei nei bo dong ,cheng xian chu xian zeng da hou jian xiao qu shi ;pian ya wei 800 Vde tu ceng ma ca xue xing neng zui jia ,ji mo sun lv jin wei ji ti de 13.5%。

论文参考文献

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  • 论文详细介绍

    论文作者分别是来自稀有金属材料与工程的但敏,罗蓉蓉,周毅,李建,金凡亚,发表于刊物稀有金属材料与工程2019年08期论文,是一篇关于单极性脉冲磁控溅射论文,力学性能论文,摩擦学性能论文,稀有金属材料与工程2019年08期论文的文章。本文可供学术参考使用,各位学者可以免费参考阅读下载,文章观点不代表本站观点,资料来自稀有金属材料与工程2019年08期论文网站,若本站收录的文献无意侵犯了您的著作版权,请联系我们删除。

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