导读:本文包含了双层辉光等离子体论文开题报告文献综述及选题提纲参考文献，主要关键词:40Cr,双层辉光等离子表面合金化,显微硬度,腐蚀性能
双层辉光等离子体论文文献综述
蒋杰[1]（2019）在《40Cr表面双层辉光等离子表面合金化制备梯度涂层工艺及组织性能研究》一文中研究指出齿轮材料在多种应力载荷下工作,受力情况比较复杂,要求具有比较全面的性能。齿面疲劳失效是齿轮的主要失效形式,为了解决齿面的疲劳失效,需要齿轮表面具有高硬度。在航空航天、航海和石油化工等复杂环境中,除需要高硬度外,还需要具有良好的耐腐蚀性能。众所周知,Cr和Mo等具有高硬度和优异的耐腐蚀性能,在齿轮表面制备这两种元素的合金涂层可以有效地提高齿轮表面硬度和耐腐蚀性能。双层辉光等离子表面合金化(DGPSA)技术是一门新颖的表面强化技术,不仅可以制备非金属涂层,而且还可以制备各种合金层,从而扩宽了表面强化技术的应用领域。相对于其他表面强化技术,如热喷涂、激光熔覆、化学气相沉积和磁控溅射等,DGPSA可以制备渗层成分分布合理、界面组织稳定、高硬度和耐腐蚀性能良好的梯度渗层。本文以40Cr齿轮钢作为初始材料,采用DGPSA分别在40Cr钢表面制备了梯度Cr层和梯度CrMo层,开展了DGPSA工艺参数对渗层组织的影响;使用背散射电子成像结合能谱仪对渗层和基体的组织进行表征;同时,对渗层的硬度和耐腐蚀性能也进行了研究。论文主要工作如下:(1)分析和对比了DGPSA工艺参数(渗铬工艺时间、源极电压、阴极电压、氮气气压和极间距)对渗Cr层组织的影响。(2)采用DGPSA在930℃下进行3h、6h和10h的渗Cr处理和在920℃下进行6h的渗CrMo处理。采用X射线衍射(XRD)分析渗Cr和渗CrMo的物相组成。另外,研究了渗Cr层和CrMo层的硬度以及在3.5%NaCl溶液中的腐蚀行为。(3)对6小时和10小时的扩渗Cr试样和6小时扩渗CrMo试样进行退火处理以及对10小时扩渗Cr试样和6小时扩渗CrMo试样调质处理,研究退火和调质处理对渗层组织和性能的影响,测量了退火和调质试样的硬度和极化曲线。(4)采用场发射电子显微镜分别对原始态、退火态和调质态试样进行表征,阐述渗层组织热处理前后的组织演变和形成机理。通过对实验结果的进一步分析,得到以下结论:(1)DGPSA工艺参数(渗Cr工艺时间、源极电压、阴极电压、氮气气压和极间距)不仅仅会对渗层的显微组织和物相产生显着影响,而且严重影响渗层厚度和致密程度。(2)渗Cr试样是由沉积层,扩散层,影响层和正常基体等四个部分组成。不同之处在于随着渗铬工艺时间的增加,四个部分的相对厚度完全不同。3小时渗Cr,渗层主要由纯Cr、铬碳化物Cr_(23)C_6和(Cr,Fe)_(23)C_6(Cr_(22.23)Fe_(0.77)C_6 and Cr_(21.34)Fe_(1.66)C_6)铬铁碳化物组成;6小时渗Cr,渗层中形成Cr_2N相;10小时渗Cr,涂层中纯Cr的比例增加而碳化铬的比例减少。Cr-Fe金属间化合物(Cr-Fe IMs)层出现在所有的原始态渗Cr试样中,而Cr-Fe固溶体层(Cr-Fe SS)仅在扩渗6小时和10小时试样中形成。(3)在扩渗6小时退火试样中观察到彼此平行或成69°角的棒状第二相组织,表明它们与纯Cr基体具有特定的取向关系。另外,Cr-Fe IMS消失而在扩散6小时和10小时试样中形成新的Cr-Fe SS层。调质后,10小时渗铬试样的Cr-Fe SS晶粒变小,影响层组织演变成回火索氏体。(4)Cr-Fe SS层的硬度较高,其中调质试样的硬度最高,达到1600 HV_(0.2)左右。与304不锈钢和40Cr钢相比,渗Cr层在3.5%水溶液中具有更好的耐腐蚀性,尤其是10小时渗Cr的调质试样。(5)CrMo试样是由扩散层、影响层和正常基体组成。扩散层分为粗大晶粒组成的柱状晶和Cr、Mo碳化物组成的过渡层。柱状晶粒是由含Cr、Mo的α-Fe固溶体(α-Fe-Cr-Mo SS)组成,组织中有Fe_3Mo_3N相形成。退火处理后,扩散层组织更为致密,碳化物呈颗粒状分布在α-Fe-Cr-Mo SS中,在过渡层中粒状或者短棒状碳化物分布在α-Fe-Cr-Mo SS上,影响层由铁素体组织组成。调质处理后,在α-Fe-Cr-Mo SS上弥散分布着粒状碳化物和氮化物,过渡层由纳米颗粒组成。(6)α-Fe-Cr-Mo SS柱状晶层的显微硬度为350 HV0.2左右,中间层的硬度为525 HV_(0.2)左右。退火处理使试样的硬度在总体上下降。然而,调质处理后,由于纳米颗粒的形成,导致过渡层硬度增加到575 HV_(0.2)左右。相对于40Cr钢和304不锈钢,CrMo试样在3.5%NaCl溶液中具有更好的耐腐蚀性能。相对于扩渗试样,退火态和调质态试样的耐腐蚀性能分别提高了22倍和43倍。(本文来源于《重庆理工大学》期刊2019-03-15）
赵兴明[2]（2018）在《双层辉光等离子沉积ZnO/石墨烯复合薄膜紫外光响应行为的研究》一文中研究指出半导体薄膜可以广泛应用于光电领域,高c轴取向纳米柱状氧化锌(ZnO)可以减少光电子传输路径,降低电子-空穴对复合几率,大大增强ZnO半导体光电响应,是紫外传感、太阳能电池等领域的研究热点。然而,单一 ZnO薄膜由于较大的光生电子-空穴复合几率和低的界面电子转移效率大大的限制了其在光电领域的应用,而石墨烯作为一种零带隙半导体材料可以快速地转移半导体光生电子,避免电子-空穴对的复合,有助于半导体光电性能的提高。因此,石墨烯与半导体薄膜的复合被认为是解决上述问题的有效途径之一。针对目前高质量纳米柱状ZnO薄膜和石墨烯薄膜在制备方面存在的高成本、重复率低及不适合大面积制备等方面的问题,本文首次利用双层辉光等离子沉积技术制备纳米柱状ZnO薄膜、石墨烯薄膜及ZnO/石墨烯复合薄膜,对其制备工艺进行了优化设计,并利用拉曼光谱、X射线光电子能谱(XPS)、X射线衍射谱(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)、透射电子显微镜(TEM)及原子力显微镜(AFM)分析所得薄膜的成分及显微组织结构,利用接触角、UV-Visable光谱及光电化学测试对比分析了不同薄膜的表面性能及紫外光响应行为,主要内容如下:(1)采用双层辉光等离子沉积技术进行纳米柱状ZnO薄膜制备。通过调整气压、氩氧比及时间进行ZnO薄膜的工艺优化。随后对最佳工艺参数的ZnO薄膜进行结构及紫外光响应性能研究。所制得的ZnO薄膜具有均匀的纳米柱状结构,c轴择优取向良好,且该纳米柱状结构ZnO可以快速产生并传输光生电子。(2)以石墨烯纸为靶材,通过双层辉光等离子沉积技术在石英表面进行大面积石墨烯薄膜的制备,对得到的石墨烯薄膜进行结构性能表征,并对薄膜紫外激发下的接触角、表面结构及摩擦性能响应行为予以研究。发现所制得的石墨烯薄膜以纳米片层结构交迭存在于基体表面,紫外激发会导致石墨烯薄膜形貌和结构变化引发薄膜表面疏水性增强,摩擦系数降低。(3)结合优化后的纳米柱状氧化锌薄膜和石墨烯薄膜的制备工艺,在石英表面制备ZnO/石墨烯复合薄膜,对复合薄膜的进行形貌及结构分析,并通过与ZnO薄膜的紫外光响应行为进行对比研究,发现复合薄膜为层状结构且与基体结合良好,薄膜中石墨烯多以褶皱形式存在。石墨烯的引入为复合薄膜提供了一个光生电子快速转移的通道,抑制了光生电子-空穴对的复合,提高了复合薄膜紫外光电响应性能。(4)在常用柔性电极的基材镍(Ni)箔表面制备出石墨烯/ZnO复合薄膜,对其紫外光电流测试进行分析,石墨烯的引入使得复合薄膜电极光电流加强,有望应用于光电探测领域。(本文来源于《南京信息工程大学》期刊2018-06-01）
温科,李风兰[3]（2016）在《近β钛合金TLM表面双层辉光等离子渗氮及其腐蚀性能研究》一文中研究指出为改善生物医用钛合金的表面性能及植入人体后的耐腐蚀性能,利用双层辉光等离子技术在近β钛合金TLM表面进行渗氮处理。通过金相显微镜、X射线衍射仪、显微硬度仪、电子显微镜及电化学工作站研究渗氮后TLM钛合金的截面金相、相结构、显微硬度及表面改性前后TLM钛合金在人工模拟体液(hank's溶液)中的电化学腐蚀性能。结果表明:近β型钛合金TLM表面渗氮处理后,可得到一层致密、均匀的改性层,厚度约4~5μm。其主要成分为Ti_2N和Ti-cubic,显微硬度由(238±10)提升至(874±10)HV;电化学腐蚀实验中渗氮改性层的E_(corr)从-0.5923上升至-0.4904 V,I_(corr)由3.653×10~(-7)降低至8.742×10~(-8)/cm~2,交流阻抗值显着增大,表明TLM钛合金表面渗氮改性处理可以提升其在人工模拟体液中的耐腐蚀性能。(本文来源于《真空科学与技术学报》期刊2016年02期）
魏祥飞,张平则,魏东博,沙李丽,周鹏[4]（2014）在《γ-TiAl合金表面双层辉光等离子铬钨共渗层的高温氧化行为》一文中研究指出采用双层辉光等离子表面技术在γ-TiAl合金表面制备铬钨共渗层,用SEM、EDS和XRD分析等方法结合高温氧化试验,研究了该共渗层在高温下的氧化(共100h)行为。结果表明:γ-TiAl合金经双层辉光等离子铬钨共渗后,共渗层表面形貌完好,组织均匀,与基体连接紧密,结合处无孔洞及裂纹等缺陷存在;铬钨共渗层在高温下可形成保护性氧化膜,有效降低了氧化速率,与γ-TiAl合金基体相比,氧化增重降低,抗氧化能力明显提高;随氧化温度升高,铬钨共渗层的氧化增重明显增大,但氧化机制不变;在氧化过程中,除了铬、钨发生内扩散外,基体中的钛、铝元素均发生了显着的外扩散。(本文来源于《机械工程材料》期刊2014年05期）
宁来元[5]（2014）在《双层辉光等离子渗金属法硬质合金金刚石涂层刀具过渡层制备技术研究》一文中研究指出金刚石涂层硬质合金刀具具有金刚石硬度高、摩擦系数低的特点,因而在国民经济的多个领域中有着广泛的应用前景。但在利用化学气相沉积(CVD)方法在硬质合金刀具表面沉积金刚石涂层时,硬质合金中的粘结相Co会引起碳的溶解、抑制金刚石相的形核、促进石墨相的生成,导致金刚石涂层的结合强度差,影响刀具的使用性能。为提高金刚石涂层与硬质合金基体间的附着力,通常采取酸-碱两步法对表面进行粗化和去Co处理,或采用化学气相沉积及物理气相沉积法在金刚石涂层和硬质合金基体间施加过渡层。然而,由于前者处理温度高会削弱基材机械性能；后者所制备的过渡层与基体仍存在结合强度差的问题。双辉等离子渗金属技术制备的过渡层可以与基体材料形成冶金结合,具有较高的结合强度,从而提高金刚石涂层与基体结合强度。因此,本论文选用双辉等离子渗金属技术在硬质合金表面制备过渡层,并利用微波等离子体化学气相沉积(MPCVD)设备在过渡层上进行了金刚石涂层的沉积。采用SEM、XRD、压入法等检测手段对过渡层及金刚石涂层的显微形貌、相组成等组织和性能进行了分析。论文首先研究了不同的保温温度对Mo、W、Cr叁种金属过渡层性能的影响,结果表明这叁种过渡层材料均能制备出与硬质合金基体呈冶金结合的过渡层,其中Mo过渡层体现出最优的结构和性能,在阻挡Co扩散的同时又具有较高的结合强度,并且在保温温度为800℃-900。C时结合强度达到最佳；通过研究源极电压和阴极电压电位差、保温时间对Mo过渡层的影响,发现随着电位差和保温时间的增加,过渡层的厚度逐渐增加,结合强度呈现出逐渐下降的趋势；在优化的工艺条件下制备的Mo过渡层上进行金刚石涂层的沉积,并研究了沉积时间对金刚石涂层的影响,结果表明沉积时间为4h时,所获得的金刚石涂层具有高的致密度,以及与基体较高的结合强度。本论文采用的双辉等离子体渗金属技术在硬质合金表面制备过渡层的方法为金刚石涂层硬质合金刀具的制造提供了一种新的途径,对于这种新型刀具的发展将有重要的促进作用。(本文来源于《太原理工大学》期刊2014-05-01）
王若男,张平则,毕强,魏东博,陈小虎[6]（2013）在《采用双层辉光等离子表面合金化技术在Q235钢表面制备钽改性层及其耐蚀性》一文中研究指出采用双层辉光等离子表面合金化技术在Q235钢表面制备钽改性层,并对钽改性层的组织、成分及耐蚀性能进行了研究。结果表明:改性层中的钽元素含量呈梯度分布,改性层与基材结合良好;钽改性层的耐蚀性明显优于基材的,其保护效率高达99.88%;钽改性层形成的钝化膜完整,能很好地保护基材。(本文来源于《机械工程材料》期刊2013年09期）
赵远涛[7]（2013）在《双层辉光等离子表面合金化TiNi/金刚石复合材料过渡层制备技术研究》一文中研究指出近等原子比钛镍合金具有高比强度、生物相容性、耐磨耐蚀性、超弹性(SE)及形状记忆效应(SME),已被广泛应用于生物医学、军事、航天以及机械工程等领域。钛镍合金在工程方面的应用主要集中于机械和建筑方面,被广泛制作成连接件、驱动原件以及形状记忆合金减震阻尼器等。但是其硬度较低,摩擦学性能仍有较大提升空间。在生物领域,钛镍合金已经作为生物植入体材料广泛应用,但镍离子的析出会引起细胞和组织的过敏、中毒甚至癌变反应。金刚石薄膜是一种性能优异的结构和功能材料,其物理化学性能稳定,具有极低的摩擦系数、好的耐磨耐蚀性、优异的电学光学性能且比其它任何材料的生物相容性都好。金刚石薄膜已在光学、声学、电子学、机械工程及生物医学领域得到广泛应用。因此本研究欲在钛镍合金表面制备金刚石薄膜,以改善钛镍合金的表面性能。但由于钛镍合金中有大量镍原子的存在,而镍是石墨化元素,会阻止金刚石薄膜的生长,故需对钛镍合金进行前期表面处理。众所周知,钼具有高温强度好、硬度高、密度大、抗腐蚀能力强等特点,且是人体所必需的少量金属元素。此外,钼具有自粘结性能,可以和许多金属良好结合；同时钼也是金刚石薄膜生长有利元素,与金刚石薄膜有良好的结合力。因此,以钼作为钛镍合金的表面改性层材料可以有效解决金刚石薄膜难以生长的问题,同时此改性层的力学性能介于基体与金刚石薄膜之间,并呈梯度分布能够提高膜基结合强度及基体支撑能力。故本实验采用钼作为中间过渡层形成元素。本文采用双辉等离子体表面合金化技术,以纯度为99.9%的钼靶作为源极,Ti-50.8%Ni合金为阴极(工件极),通过钼合金化和钼等离子体沉积在钛镍合金表面制备表面改性层。采用微波等离子体辅助化学气相沉积法(MPCVD)在改性层表面制备金刚石薄膜。本文系统研究了工艺参数对表面改性层形成的影响,对制备工艺进行优化。对表面改性层进行表征,并比较了不同工艺下表面改性层的表面硬度及摩擦学性能,同时对渗钼过程中原子的扩散过程和机理进行计算分析。对在复合层表面成功制备的金刚石薄膜进行了表征分析。主要研究结果如下：1)优化的表面改性工艺参数：保温温度950℃,工作气压35Pa,保温时间2h,源极电压550～800V,工件电压300～500V,源极与阴极压差250V。2)表面改性后,随着距表面距离的增加,钼从最表面沉积层中的原子分数100%逐渐减小至0%,钛的原子分数先增加后减小,镍的原子分数逐渐增在,形成叁层的形貌,从外往内分别为钼的沉积层、钛的富集层、钼含量极少的TiNi层。表面改性层中的相主要为Mo、MoTi、MoNi及Ti2Ni相。3)表面改性后,表面显微硬度得到提高,在优化工艺下,表面显微硬度从原先的241.3HVo.098提高到832HVo.098,提高了2.5倍左右；钼沉积层与TiNi基体之间为冶金结合,结合强度较高。4)表面改性后,合金耐磨性都得到显着提高,在优化工艺下,合金比磨损率比基体合金降低了约2个多数量级,主要原因是表面硬度的提高和基体超弹性的共同作用。5)在改性层表面采用MPCVD法制备的金刚石薄膜,结构致密,晶粒尺寸在1.5μm左右,薄膜生长速度约为1.1μm/h。(本文来源于《太原理工大学》期刊2013-05-01）
张云露,骆心怡,何斐[8]（2013）在《Ti6Al4V钛合金表面双层辉光等离子W-Mo共渗及其腐蚀磨损性能研究》一文中研究指出为了改善TC4的腐蚀磨损性能,采用双层辉光等离子表面冶金技术对Ti6Al4V钛合金进行W-Mo共渗,并对其腐蚀磨损性能进行研究。结果表明:在Ti6Al4V钛合金表面W-Mo共渗可形成均匀的、由沉积层和扩散层构成的W-Mo改性层;该改性层与Ti6Al4V钛合金基体相比,在空气中,5%H2SO4(质量分数)溶液和5%NaCl(质量分数)溶液中的摩擦系数均有所降低,磨损形貌得到改善,在5%H2SO4和5%NaCl溶液中的磨损量更是显着减小。结果表明,在Ti6Al4V钛合金表面W-Mo共渗可显着提高其耐腐蚀磨损性能。(本文来源于《稀有金属材料与工程》期刊2013年01期）
华云峰,李争显,黄春良,杜继红,骆瑞雪[9]（2012）在《C/C复合材料表面双层辉光等离子制备铼涂层研究》一文中研究指出用双层辉光等离子渗金属技术,在C/C复合材料基体表面制备了铼涂层,研究了铼涂层显微结构、相组成、硬度以及结合强度。结果表明,铼涂层致密光滑,由多晶结构的柱状晶粒组成,晶粒尺寸在0.5～1.5μm之间。涂层(110)和(103)晶面发生了择优生长。涂层HV显微硬度为6.66±0.25GPa。制备过程中涂层与基体发生互扩散,界面既有机械结合又有物理结合。划痕试验加载过程中,当C/C复合材料基体由于硬度和韧性低而发生破碎后,铼涂层与基体仍结合良好。(本文来源于《稀有金属材料与工程》期刊2012年11期）
王成磊,高原,刘燕萍,徐晋勇[10]（2012）在《双层辉光等离子制备TiN渗镀层摩擦学性能研究》一文中研究指出采用双层辉光等离子表面合金化技术在钢铁材料表面直接复合形成超硬耐磨的TiN渗镀层.利用WTM-1E可控气氛微型摩擦磨损试验仪和GZTC-1磨粒磨损试验仪,对TiN渗镀层的摩擦磨损性能进行了研究.研究结果表明:在室温干滑动磨损试验条件下,TiN渗镀层磨损表面光滑平整没有出现犁沟变形及黏着磨损痕迹,摩擦系数低,表现出了优异的耐磨性及良好的减摩性能.在相同磨损条件下,TiN渗镀层相对磨损速度最小,耐磨性较未处理的Q235钢试样提高7.81倍,较T10钢淬火+回火试样提高5.625倍,较3Cr13不锈钢渗氮试样提高7倍;在磨粒磨损条件下,渗镀层的磨损失效形式主要是镀层的碎裂与剥落,显微切削是轻微的,基本上没有发生塑性变形.随着砂纸砂粒度的增加,碎裂与剥落的程度逐渐加深.在本文试验条件下,TiN渗镀层的磨损机理主要为应力疲劳,其次为显微切削.(本文来源于《应用基础与工程科学学报》期刊2012年05期）
双层辉光等离子体论文开题报告
（1）论文研究背景及目的
此处内容要求：
首先简单简介论文所研究问题的基本概念和背景，再而简单明了地指出论文所要研究解决的具体问题，并提出你的论文准备的观点或解决方法。
写法范例：
半导体薄膜可以广泛应用于光电领域,高c轴取向纳米柱状氧化锌(ZnO)可以减少光电子传输路径,降低电子-空穴对复合几率,大大增强ZnO半导体光电响应,是紫外传感、太阳能电池等领域的研究热点。然而,单一 ZnO薄膜由于较大的光生电子-空穴复合几率和低的界面电子转移效率大大的限制了其在光电领域的应用,而石墨烯作为一种零带隙半导体材料可以快速地转移半导体光生电子,避免电子-空穴对的复合,有助于半导体光电性能的提高。因此,石墨烯与半导体薄膜的复合被认为是解决上述问题的有效途径之一。针对目前高质量纳米柱状ZnO薄膜和石墨烯薄膜在制备方面存在的高成本、重复率低及不适合大面积制备等方面的问题,本文首次利用双层辉光等离子沉积技术制备纳米柱状ZnO薄膜、石墨烯薄膜及ZnO/石墨烯复合薄膜,对其制备工艺进行了优化设计,并利用拉曼光谱、X射线光电子能谱(XPS)、X射线衍射谱(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)、透射电子显微镜(TEM)及原子力显微镜(AFM)分析所得薄膜的成分及显微组织结构,利用接触角、UV-Visable光谱及光电化学测试对比分析了不同薄膜的表面性能及紫外光响应行为,主要内容如下:(1)采用双层辉光等离子沉积技术进行纳米柱状ZnO薄膜制备。通过调整气压、氩氧比及时间进行ZnO薄膜的工艺优化。随后对最佳工艺参数的ZnO薄膜进行结构及紫外光响应性能研究。所制得的ZnO薄膜具有均匀的纳米柱状结构,c轴择优取向良好,且该纳米柱状结构ZnO可以快速产生并传输光生电子。(2)以石墨烯纸为靶材,通过双层辉光等离子沉积技术在石英表面进行大面积石墨烯薄膜的制备,对得到的石墨烯薄膜进行结构性能表征,并对薄膜紫外激发下的接触角、表面结构及摩擦性能响应行为予以研究。发现所制得的石墨烯薄膜以纳米片层结构交迭存在于基体表面,紫外激发会导致石墨烯薄膜形貌和结构变化引发薄膜表面疏水性增强,摩擦系数降低。(3)结合优化后的纳米柱状氧化锌薄膜和石墨烯薄膜的制备工艺,在石英表面制备ZnO/石墨烯复合薄膜,对复合薄膜的进行形貌及结构分析,并通过与ZnO薄膜的紫外光响应行为进行对比研究,发现复合薄膜为层状结构且与基体结合良好,薄膜中石墨烯多以褶皱形式存在。石墨烯的引入为复合薄膜提供了一个光生电子快速转移的通道,抑制了光生电子-空穴对的复合,提高了复合薄膜紫外光电响应性能。(4)在常用柔性电极的基材镍(Ni)箔表面制备出石墨烯/ZnO复合薄膜,对其紫外光电流测试进行分析,石墨烯的引入使得复合薄膜电极光电流加强,有望应用于光电探测领域。
（2）本文研究方法
调查法：该方法是有目的、有系统的搜集有关研究对象的具体信息。
观察法：用自己的感官和辅助工具直接观察研究对象从而得到有关信息。
实验法：通过主支变革、控制研究对象来发现与确认事物间的因果关系。
文献研究法：通过调查文献来获得资料，从而全面的、正确的了解掌握研究方法。
实证研究法：依据现有的科学理论和实践的需要提出设计。
定性分析法：对研究对象进行“质”的方面的研究，这个方法需要计算的数据较少。
定量分析法：通过具体的数字，使人们对研究对象的认识进一步精确化。
跨学科研究法：运用多学科的理论、方法和成果从整体上对某一课题进行研究。
功能分析法：这是社会科学用来分析社会现象的一种方法，从某一功能出发研究多个方面的影响。
模拟法：通过创设一个与原型相似的模型来间接研究原型某种特性的一种形容方法。
双层辉光等离子体论文参考文献
[1].蒋杰.40Cr表面双层辉光等离子表面合金化制备梯度涂层工艺及组织性能研究[D].重庆理工大学.2019
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[4].魏祥飞,张平则,魏东博,沙李丽,周鹏.γ-TiAl合金表面双层辉光等离子铬钨共渗层的高温氧化行为[J].机械工程材料.2014
[5].宁来元.双层辉光等离子渗金属法硬质合金金刚石涂层刀具过渡层制备技术研究[D].太原理工大学.2014
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[7].赵远涛.双层辉光等离子表面合金化TiNi/金刚石复合材料过渡层制备技术研究[D].太原理工大学.2013
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[9].华云峰,李争显,黄春良,杜继红,骆瑞雪.C/C复合材料表面双层辉光等离子制备铼涂层研究[J].稀有金属材料与工程.2012
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