本文主要研究内容
作者吴振,喻能利,蔡璐,李永武,嵇龙,沈广强（2019）在《火花放电原子发射光谱仪分析高含量硅时校准曲线的扩展与应用》一文中研究指出：火花放电原子发射光谱仪分析高含量Si(w(Si)≥3.0%)时,其元素含量已超出了校准曲线的线性范围,导致分析值偏低。实验通过增加中低合金钢、硅钢标准样品,完善并扩展了Si校准曲线,完成了共存元素的干扰校正,拓宽了Si元素的分析范围,质量分数上限由3.14%扩展至4.16%,线性相关系数达0.99965。校准曲线扩展后重新选择标准化样品进行漂移校正,校准曲线强度比由9.41扩展至11.01。对扩展含量段的两个样品(w(Si)≥3.0%)进行精密度考察,结果的相对标准偏差(RSD,n=10)为0.43%和0.50%;对比了8个不同Si含量的样品,发现完善、扩展后校准曲线的Si测定值与认定值更相符;同时统计过程控制(SPC)控制图处于受控状态。可见校准曲线经完善、扩展后可满足工艺过程控制和成品分析要求。
Abstract
huo hua fang dian yuan zi fa she guang pu yi fen xi gao han liang Si(w(Si)≥3.0%)shi ,ji yuan su han liang yi chao chu le jiao zhun qu xian de xian xing fan wei ,dao zhi fen xi zhi pian di 。shi yan tong guo zeng jia zhong di ge jin gang 、gui gang biao zhun yang pin ,wan shan bing kuo zhan le Sijiao zhun qu xian ,wan cheng le gong cun yuan su de gan rao jiao zheng ,ta kuan le Siyuan su de fen xi fan wei ,zhi liang fen shu shang xian you 3.14%kuo zhan zhi 4.16%,xian xing xiang guan ji shu da 0.99965。jiao zhun qu xian kuo zhan hou chong xin shua ze biao zhun hua yang pin jin hang piao yi jiao zheng ,jiao zhun qu xian jiang du bi you 9.41kuo zhan zhi 11.01。dui kuo zhan han liang duan de liang ge yang pin (w(Si)≥3.0%)jin hang jing mi du kao cha ,jie guo de xiang dui biao zhun pian cha (RSD,n=10)wei 0.43%he 0.50%;dui bi le 8ge bu tong Sihan liang de yang pin ,fa xian wan shan 、kuo zhan hou jiao zhun qu xian de Sice ding zhi yu ren ding zhi geng xiang fu ;tong shi tong ji guo cheng kong zhi (SPC)kong zhi tu chu yu shou kong zhuang tai 。ke jian jiao zhun qu xian jing wan shan 、kuo zhan hou ke man zu gong yi guo cheng kong zhi he cheng pin fen xi yao qiu 。
论文参考文献
论文详细介绍
论文作者分别是来自冶金分析的吴振,喻能利,蔡璐,李永武,嵇龙,沈广强，发表于刊物冶金分析2019年01期论文，是一篇关于火花放电原子发射光谱法论文,高含量硅论文,校准曲线论文,扩展论文,干扰校正论文,冶金分析2019年01期论文的文章。本文可供学术参考使用，各位学者可以免费参考阅读下载，文章观点不代表本站观点，资料来自冶金分析2019年01期论文网站，若本站收录的文献无意侵犯了您的著作版权，请联系我们删除。
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