本文主要研究内容
作者郭朝乾,林松盛,石倩,韦春贝,李洪,汪唯,代明江（2019）在《磁过滤电弧离子镀制备DLC薄膜的表面形貌和成键状态》一文中研究指出：利用磁过滤电弧离子镀技术在单晶Si基体表面沉积了类金刚石薄膜,研究了工作气压和偏压占空比对DLC薄膜表面形貌、沉积速率和成键情况的影响.通过扫描电子显微镜观察薄膜的表面形貌,利用Image pro-plus图像处理软件统计薄膜表面大颗粒的面积和数量,通过拉曼光谱仪测量类金刚石薄膜的成键状态,结果表明,随着工作气压从0.1 Pa升至0.5 Pa,薄膜表面大颗粒的总面积逐渐增加,沉积速率下降,sp~3键含量增加;偏压占空比从15%提高至75%,表面大颗粒的总面积和数量均不断升高,沉积速率下降,薄膜中sp~3键含量先降后升;占空比为30%时,薄膜中sp~3键含量最低.
Abstract
li yong ci guo lv dian hu li zi du ji shu zai chan jing Siji ti biao mian chen ji le lei jin gang dan bao mo ,yan jiu le gong zuo qi ya he pian ya zhan kong bi dui DLCbao mo biao mian xing mao 、chen ji su lv he cheng jian qing kuang de ying xiang .tong guo sao miao dian zi xian wei jing guan cha bao mo de biao mian xing mao ,li yong Image pro-plustu xiang chu li ruan jian tong ji bao mo biao mian da ke li de mian ji he shu liang ,tong guo la man guang pu yi ce liang lei jin gang dan bao mo de cheng jian zhuang tai ,jie guo biao ming ,sui zhao gong zuo qi ya cong 0.1 Pasheng zhi 0.5 Pa,bao mo biao mian da ke li de zong mian ji zhu jian zeng jia ,chen ji su lv xia jiang ,sp~3jian han liang zeng jia ;pian ya zhan kong bi cong 15%di gao zhi 75%,biao mian da ke li de zong mian ji he shu liang jun bu duan sheng gao ,chen ji su lv xia jiang ,bao mo zhong sp~3jian han liang xian jiang hou sheng ;zhan kong bi wei 30%shi ,bao mo zhong sp~3jian han liang zui di .
论文参考文献
论文详细介绍
论文作者分别是来自材料研究与应用的郭朝乾,林松盛,石倩,韦春贝,李洪,汪唯,代明江，发表于刊物材料研究与应用2019年02期论文，是一篇关于类金刚石薄膜论文,磁过滤电弧离子镀论文,大颗粒论文,成键状态论文,材料研究与应用2019年02期论文的文章。本文可供学术参考使用，各位学者可以免费参考阅读下载，文章观点不代表本站观点，资料来自材料研究与应用2019年02期论文网站，若本站收录的文献无意侵犯了您的著作版权，请联系我们删除。
标签：类金刚石薄膜论文; 磁过滤电弧离子镀论文; 大颗粒论文; 成键状态论文; 材料研究与应用2019年02期论文;