本文主要研究内容
作者王瑞雪,张鹏浩,徐晖,章程,李挺,邵涛（2019）在《不同基底对等离子体射流放电及薄膜特性的影响》一文中研究指出：等离子体材料表面处理包括等离子体–基底相互作用过程,绝缘或金属基底的存在会改变等离子体放电和化学气相沉积过程,进而影响沉积薄膜特性。为此重点研究大气压等离子体射流薄膜沉积体系中,等离子体射流激发态粒子和基态OH浓度发展规律,并进一步将等离子体射流放电过程与薄膜特性建立联系。结果表明:薄膜沉积过程中,检测到Ar、N2以及OH相关谱线,有机玻璃(PMMA)基底时谱线强度略高;对于OH自由基的相对密度分布,当基底为PMMA时主要分布在管口附近,而当基底为铜(Cu)时分布在管口与基底间的整个空间区域,并且TEOS的含量增加使得其分解形成的中间产物增加,进而增加薄膜沉积速率。此外,不同的材料会造成靠近基底处的场强有较大差异,如PMMA基底处场强基本维持不变,而Cu基底处场强有所增加。通过对薄膜成分分析和对比,发现PMMA表面沉积的薄膜氧化程度更高且所含的杂质较少。通过对不同基底上沉积薄膜以及沉积过程的对比和诊断,对于理解并解决在应用中的相关问题具有重大意义。
Abstract
deng li zi ti cai liao biao mian chu li bao gua deng li zi ti –ji de xiang hu zuo yong guo cheng ,jue yuan huo jin shu ji de de cun zai hui gai bian deng li zi ti fang dian he hua xue qi xiang chen ji guo cheng ,jin er ying xiang chen ji bao mo te xing 。wei ci chong dian yan jiu da qi ya deng li zi ti she liu bao mo chen ji ti ji zhong ,deng li zi ti she liu ji fa tai li zi he ji tai OHnong du fa zhan gui lv ,bing jin yi bu jiang deng li zi ti she liu fang dian guo cheng yu bao mo te xing jian li lian ji 。jie guo biao ming :bao mo chen ji guo cheng zhong ,jian ce dao Ar、N2yi ji OHxiang guan pu xian ,you ji bo li (PMMA)ji de shi pu xian jiang du lve gao ;dui yu OHzi you ji de xiang dui mi du fen bu ,dang ji de wei PMMAshi zhu yao fen bu zai guan kou fu jin ,er dang ji de wei tong (Cu)shi fen bu zai guan kou yu ji de jian de zheng ge kong jian ou yu ,bing ju TEOSde han liang zeng jia shi de ji fen jie xing cheng de zhong jian chan wu zeng jia ,jin er zeng jia bao mo chen ji su lv 。ci wai ,bu tong de cai liao hui zao cheng kao jin ji de chu de chang jiang you jiao da cha yi ,ru PMMAji de chu chang jiang ji ben wei chi bu bian ,er Cuji de chu chang jiang you suo zeng jia 。tong guo dui bao mo cheng fen fen xi he dui bi ,fa xian PMMAbiao mian chen ji de bao mo yang hua cheng du geng gao ju suo han de za zhi jiao shao 。tong guo dui bu tong ji de shang chen ji bao mo yi ji chen ji guo cheng de dui bi he zhen duan ,dui yu li jie bing jie jue zai ying yong zhong de xiang guan wen ti ju you chong da yi yi 。
论文参考文献
论文详细介绍
论文作者分别是来自高电压技术的王瑞雪,张鹏浩,徐晖,章程,李挺,邵涛，发表于刊物高电压技术2019年05期论文，是一篇关于等离子体射流论文,不同基底论文,射流发展过程论文,分布论文,薄膜特性论文,高电压技术2019年05期论文的文章。本文可供学术参考使用，各位学者可以免费参考阅读下载，文章观点不代表本站观点，资料来自高电压技术2019年05期论文网站，若本站收录的文献无意侵犯了您的著作版权，请联系我们删除。
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