代清平:NiFe2O4/(0.8BaTiO3-0.2Na0.5Bi0.5TiO3)异质结层状复合薄膜的磁电性能论文

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本文主要研究内容

作者代清平,邓朝勇(2019)在《NiFe2O4/(0.8BaTiO3-0.2Na0.5Bi0.5TiO3)异质结层状复合薄膜的磁电性能》一文中研究指出:采用脉冲激光沉积法在(001)-SrRuO3/SrTiO3(SRO/STO)衬底上生长了2-2型NiFe2O4/(0. 8BaTiO3-0. 2Na0.5Bi0.5TiO3)(NFO/BT-NBT)磁电复合薄膜。X射线衍射仪(XRD)结果显示所有薄膜均为(00l)择优取向结构。物理性能测试结果表明:NFO/BT-NBT复合薄膜同时具有良好的铁磁性和铁电性,但不同的沉积顺序对复合薄膜的磁电耦合性能产生重要影响。以铁磁材料NFO为顶层的NFO/BT-NBT/SRO/STO异质结的磁电耦合系数(αE~110m V·cm-1·Oe-1)大于以铁电材料BT-NBT为顶层的BT-NBT/NFO/SRO/STO异质结的磁电耦合系数(αE~80 m V·cm-1·Oe-1),这是NFO层受到衬底束缚作用不同的结果。

Abstract

cai yong mai chong ji guang chen ji fa zai (001)-SrRuO3/SrTiO3(SRO/STO)chen de shang sheng chang le 2-2xing NiFe2O4/(0. 8BaTiO3-0. 2Na0.5Bi0.5TiO3)(NFO/BT-NBT)ci dian fu ge bao mo 。Xshe xian yan she yi (XRD)jie guo xian shi suo you bao mo jun wei (00l)ze you qu xiang jie gou 。wu li xing neng ce shi jie guo biao ming :NFO/BT-NBTfu ge bao mo tong shi ju you liang hao de tie ci xing he tie dian xing ,dan bu tong de chen ji shun xu dui fu ge bao mo de ci dian ou ge xing neng chan sheng chong yao ying xiang 。yi tie ci cai liao NFOwei ding ceng de NFO/BT-NBT/SRO/STOyi zhi jie de ci dian ou ge ji shu (αE~110m V·cm-1·Oe-1)da yu yi tie dian cai liao BT-NBTwei ding ceng de BT-NBT/NFO/SRO/STOyi zhi jie de ci dian ou ge ji shu (αE~80 m V·cm-1·Oe-1),zhe shi NFOceng shou dao chen de shu fu zuo yong bu tong de jie guo 。

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  • 论文详细介绍

    论文作者分别是来自人工晶体学报的代清平,邓朝勇,发表于刊物人工晶体学报2019年04期论文,是一篇关于多铁材料论文,复合薄膜论文,磁电耦合论文,脉冲激光沉积论文,人工晶体学报2019年04期论文的文章。本文可供学术参考使用,各位学者可以免费参考阅读下载,文章观点不代表本站观点,资料来自人工晶体学报2019年04期论文网站,若本站收录的文献无意侵犯了您的著作版权,请联系我们删除。

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