本文主要研究内容
作者孙艳,倪庆宝,张化福,刘云燕,刘汉法（2019）在《靶基距对ZnMgO:Ti透明导电薄膜性能的影响》一文中研究指出：采用直流磁控溅射法在玻璃衬底上制备了ZnMgO∶Ti透明导电薄膜。利用SEM、XRD、双光束紫外可见分光光度计和四探针法系统研究了靶基距对薄膜形貌及光电性能的影响。结果表明,靶基距对Zn MgO∶Ti薄膜光电特性有较大影响。随着靶基距的增加,电阻率先减小后增加,在靶基距为50 mm时薄膜电阻率达到最小值6.44×10-4Ω·cm;靶基距对薄膜的光透过率影响不大,所制备薄膜在400～900 nm范围内的平均透射率均达到92%,但随着靶基距的增加,光学吸收边界向短波方向移动,出现了蓝移现象。不同靶基距下,带隙宽度也发生了变化。
Abstract
cai yong zhi liu ci kong jian she fa zai bo li chen de shang zhi bei le ZnMgO∶Titou ming dao dian bao mo 。li yong SEM、XRD、shuang guang shu zi wai ke jian fen guang guang du ji he si tan zhen fa ji tong yan jiu le ba ji ju dui bao mo xing mao ji guang dian xing neng de ying xiang 。jie guo biao ming ,ba ji ju dui Zn MgO∶Tibao mo guang dian te xing you jiao da ying xiang 。sui zhao ba ji ju de zeng jia ,dian zu lv xian jian xiao hou zeng jia ,zai ba ji ju wei 50 mmshi bao mo dian zu lv da dao zui xiao zhi 6.44×10-4Ω·cm;ba ji ju dui bao mo de guang tou guo lv ying xiang bu da ,suo zhi bei bao mo zai 400～900 nmfan wei nei de ping jun tou she lv jun da dao 92%,dan sui zhao ba ji ju de zeng jia ,guang xue xi shou bian jie xiang duan bo fang xiang yi dong ,chu xian le lan yi xian xiang 。bu tong ba ji ju xia ,dai xi kuan du ye fa sheng le bian hua 。
论文参考文献
论文详细介绍
论文作者分别是来自山东理工大学学报(自然科学版)的孙艳,倪庆宝,张化福,刘云燕,刘汉法，发表于刊物山东理工大学学报(自然科学版)2019年03期论文，是一篇关于透明导电薄膜论文,磁控溅射论文,靶基距论文,光电性能论文,山东理工大学学报(自然科学版)2019年03期论文的文章。本文可供学术参考使用，各位学者可以免费参考阅读下载，文章观点不代表本站观点，资料来自山东理工大学学报(自然科学版)2019年03期论文网站，若本站收录的文献无意侵犯了您的著作版权，请联系我们删除。
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