导读:本文包含了边缘锐度论文开题报告文献综述及选题提纲参考文献，主要关键词:应用光学,灰度掩模,掩模分形,边缘锐度
边缘锐度论文文献综述
谌廷政,吕海宝,高益庆,漆新民,罗宁宁[1]（2005）在《掩模分形提高光刻边缘锐度的研究》一文中研究指出针对电寻址空间光调制器制作灰度掩模过程中,精缩透镜的低通滤波特性导致灰度掩模边缘锐度下降的问题,提出了掩模分形技术。对一幅高频灰阶掩模图形,按固定的或可变的低频采样。低频掩模的每个周期中,只包含原掩模图形多个周期中的一个抽样。通过实时掩模技术,将多个低频掩模按顺序曝光,从而恢复出原高频掩模图形。制作二元光栅时,分形掩模技术可使透镜造成的高频能量相对损失由35.23%降低至6.09%,同时,可将部分低频能量搬迁至中高频,较好地改善了灰阶掩模图形的边缘锐度。分形掩模还可以变多灰阶复杂掩模为简单的二元掩模,简化掩模的设计与实现,同时消除屏幕刷新率对掩模制作的影响。(本文来源于《光学学报》期刊2005年04期）
A.W.McCullough,王超义[2]（1982）在《通过滤光改进远紫外线曝光的边缘锐度》一文中研究指出以前报导过用较短的波长曝光能够增加投影光刻机的调制传递函数,因而能有效地提高光刻机的分辨率。本文在上述前提下就边缘锐度的问题发表一些看法。 F/3型投影光刻机经改进后能在275nm～325nm范围内曝光,而且在标准工艺条件下,用重氮型(Shipley)光致抗蚀剂AZ-2400可曝出1μm的图形。硅衬底上有720nm厚的湿法生长氧化物。(本文来源于《半导体情报》期刊1982年01期）
Phillips,D,Blais,江泽流[3]（1978）在《正性抗蚀剂系统的边缘锐度和分辨率》一文中研究指出本文推导出了抗蚀剂的优值用以估计抗蚀剂组成与工艺条件的各种组合的相应分辨率。抗蚀剂在显影过程中的溶解速率与曝光能量的函数关系的测量。对计算抗蚀剂的优值提供了充足的数据。该方法易于在市售抗蚀剂的组成及其最佳工艺条件之间进行迅速的比较,也运用于电子束和 X—射线复印及负性抗蚀剂,当应用于负性抗蚀剂时,溶解速率的测量方法稍有不同。(本文来源于《微电子学》期刊1978年03期）
边缘锐度论文开题报告
（1）论文研究背景及目的
此处内容要求：
首先简单简介论文所研究问题的基本概念和背景，再而简单明了地指出论文所要研究解决的具体问题，并提出你的论文准备的观点或解决方法。
写法范例：
以前报导过用较短的波长曝光能够增加投影光刻机的调制传递函数,因而能有效地提高光刻机的分辨率。本文在上述前提下就边缘锐度的问题发表一些看法。 F/3型投影光刻机经改进后能在275nm～325nm范围内曝光,而且在标准工艺条件下,用重氮型(Shipley)光致抗蚀剂AZ-2400可曝出1μm的图形。硅衬底上有720nm厚的湿法生长氧化物。
（2）本文研究方法
调查法：该方法是有目的、有系统的搜集有关研究对象的具体信息。
观察法：用自己的感官和辅助工具直接观察研究对象从而得到有关信息。
实验法：通过主支变革、控制研究对象来发现与确认事物间的因果关系。
文献研究法：通过调查文献来获得资料，从而全面的、正确的了解掌握研究方法。
实证研究法：依据现有的科学理论和实践的需要提出设计。
定性分析法：对研究对象进行“质”的方面的研究，这个方法需要计算的数据较少。
定量分析法：通过具体的数字，使人们对研究对象的认识进一步精确化。
跨学科研究法：运用多学科的理论、方法和成果从整体上对某一课题进行研究。
功能分析法：这是社会科学用来分析社会现象的一种方法，从某一功能出发研究多个方面的影响。
模拟法：通过创设一个与原型相似的模型来间接研究原型某种特性的一种形容方法。
边缘锐度论文参考文献
[1].谌廷政,吕海宝,高益庆,漆新民,罗宁宁.掩模分形提高光刻边缘锐度的研究[J].光学学报.2005
[2].A.W.McCullough,王超义.通过滤光改进远紫外线曝光的边缘锐度[J].半导体情报.1982
[3].Phillips,D,Blais,江泽流.正性抗蚀剂系统的边缘锐度和分辨率[J].微电子学.1978