导读:本文包含了等离子体清洗论文开题报告文献综述及选题提纲参考文献，主要关键词:等离子体光谱,碳纤维复合材料,在线检测,激光清洗
等离子体清洗论文文献综述
佟艳群,张昂,符永宏,姚红兵,周建忠[1]（2019）在《碳纤维复合材料的激光清洗等离子体光谱在线检测研究》一文中研究指出近年来碳纤维复合材料(CFRP)由于性能优异,受到工业领域广泛关注。采用激光清洗技术预处理碳纤维复合材料表面的污染物和环氧树脂等杂质,有利于改善碳纤维复合材料表面性能,提高碳纤维复合材料胶接界面的结合强度。在线检测激光清洗过程,实时判断碳纤维复合材料的表面清洗质量,是保证激光清洗效果的关键环节,也是激光清洗装置自动化、集成化的核心技术。激光诱导等离子体光谱技术可以快速分析材料表面元素变化,实现在线检测激光清洗表面状态,在激光清洗领域有很广的应用前景。采用Nd∶YAG高能量脉冲激光器产生的1 064 nm激光在空气环境中诱导产生等离子体,利用改进型光栅光谱仪(ME5000)获取等离子体光谱,在线检测激光清洗碳纤维复合材料。研究外界空气环境对等离子体光谱检测结果的影响,发现350～700 nm波段的元素谱线可用于碳纤维复合材料表面物质成分分析;采用电子扫描显微镜观测的激光清洗表面形貌和X射线电子能谱仪测得的元素变化共同表征等离子体光谱检测的有效性,通过采集不同激光能量以及不同作用次数的等离子体光谱图,获得碳纤维复合材料表层树脂物质通过激光单次清洗干净的阈值,研究激光清洗质量与激光诱导等离子体谱线成分及其强度变化的关系。结果表明:在获取的激光诱导等离子体光谱中,光谱图中谱线波长在393.3 nm的S(Ⅱ)和589.5 nm的S(Ⅱ)谱线可有效在线表征碳纤维复合材料表面清洗质量;激光单次去除干净表面环氧树脂的阈值为10.68 mJ;低激光能量时需要清洗多次可以去除干净表面树脂;高激光能量时清洗单次可使表面树脂去除干净,多次清洗易造成基体损伤。实验结果为激光清洗碳纤维复合材料的智能集成化应用提供工艺依据和技术支持。(本文来源于《光谱学与光谱分析》期刊2019年08期）
吴安东[2]（2018）在《半波长型超导腔的等离子体清洗工艺及机理研究》一文中研究指出经过半个世纪的发展,超导射频(Superconducting radio frequency,SRF)腔体已成为一般现代粒子加速器装置的核心部件。同常温腔体相比,超导腔具有较大束流孔径、更低的功率损耗等特性,使得其在长脉冲(连续)、高流强加速器装置中具有诸多优势。然而,基于目前的技术水平,场致发射效应依然是限制超导腔加速性能的主要因素,并给加速器的实际运行带来诸多不稳定因素。场致发射效应的产生通常与腔体内表面的污染有关。例如,外部金属、灰尘等颗粒物在腔体内表面的附着导致的表面峰值电场的放大,大量的实践表明,此类较大颗粒的污染问题可采用高压水冲洗(High pressure rinsing,HPR)解决。但是,来源于环境周围的化学污染物,诸如碳氢化合物以及各种残余气体在内表面的吸附等问题却难以通过标准的清洗方法得到有效地去除。为了提高超导腔在线运行中的加速性能,SRF科学共同体经过多年的努力和探索,诸多原位在线清洗技术得以发展,主要以射频功率锻炼(连续波以及高功率脉冲锻炼)、低温氦清洗两大技术手段为主。两种在线清洗手段的实现机理均为通过对腔体表面形貌的改善以降低场增强因子,从而达到缓解场致发射效应的目的。然而,这两种技术属于物理手段,对于腔体内表面的碳化物污染以及残余气体的吸附并不能得到完全有效的清除。近年来,基于活性氧等离子体的在线清洗技术得到发展,作用机理为利用具有氧活性的等离子体与腔体表面的碳氢化合物发生氧化反应生成具有挥发性的物质,使碳氢化合物污染较为彻底的从腔体表面清除,以达到缓解或消除场致发射效应的目的,其效果已在多-Cell椭球腔上得到验证。由中国科学院近代物理研究所主导、并同其他合作单位共同研发的我国加速器驱动次临界核嬗变系统(Chinese-Accelerator Driven System,C-ADS)已完成25MeV超导质子直线加速器原型样机的建设和调试,并实现了170μA连续质子束的运行。然而,实验发现加速器的失束和不稳定性主要来源于半波长型(Half wave resonator,HWR)超导腔的场致发射效应而导致的系统故障。因此,为减少场致发射导致的故障问题、提高C-ADS加速器的运行稳定性,基于半波长型超导腔的等离子体在线清洗技术被提出,促使了本论文的形成。首先,为考察在线运行条件下HWR腔体中的等离子体的特性,搭建了基于恒温器工况的放电实验平台。对等离子体的激励过程、实验参数进行了系统的研究,发现了一种基于微波阻抗变化的等离子体控制方法。同时,利用等离子体的特征发射光谱对等离子体的密度、电子的温度、氧分子的解离率进行了诊断,并掌握了适合于HWR腔在线等离子体清洗的最优实验参数。然后,开展了基于小样品的铌腔表面处理工艺研究。利用氩离子溅射实验分析表面成分以及功函数随深度变化,得到了功函数随碳化物减小而增大,随铌的氧化物增加而增大的结论。并且,分析了在以Nb_2O_5为表面的系统上,功函数随碳化物的变化的线性定量关系。另外,在由ICP等离子体源和开尔文探针集成的系统上开展了铌样品的清洗工艺和机理研究。根据功函数随清洗时间演化的指数曲线规律,提出了碳化物的清洗速率模型。利用该模型定量分析了等离子体中的离子通量、氧含量条件对清洗速率参数的贡献,证明了清洗过程中等离子体和表面碳化物之间的相互作用为离子协同的化学溅射机制。对功函数的稳定性以及表面氧化物的生长进行了表征,以此确定了等离子体清洗所需的有效时间和最佳氧含量等工艺参数。此外,直接通过垂测平台研究了碳化物的污染机理以及对腔体性能的影响。根据污染和腔体表面结合能的不同,将其分为低温物理吸附污染以及碳化学沉积两种机制。碳化物的低温物理吸附实验表明,该污染机制可以导致场致发射效应的增强而使腔体性能下降,但是,低温物理吸附可以通过回温解决碳污染导致的性能下降问题。然后,通过Ar/CH_4等离子体增强气相沉积方法在超导腔内表面形成碳沉积污染,测试表明,碳化学沉积导致的腔体性能下降问题不能通过传统的功率锻炼得到解决。最后,利用活性氧等离子体对碳化学沉积所污染的HWR开展了原位清洗实验研究。清洗过程中,对残余气体进行分析证明了超导腔中的碳化物同等离子体发生了化学作用。同时,垂测结果表明场致发射效应被消除,腔体性能不仅得到完全恢复而且同污染前的本底值相比,最大梯度提高约29%。进一步地,为与实际在线污染情况一致,对HWR超导腔进行了直接的暴露空气污染处理,其结果导致了超导腔的性能完全瘫痪,通过功率老练的处理方法亦不能使其性能恢复。因此,再次对HWR开展等离子体清洗,测试发现超导腔性能得以恢复,进一步的分析表明,等离子体清洗的化学作用对HWR超导腔中的碳化物污染具有清除效果。(本文来源于《中国科学院大学(中国科学院近代物理研究所)》期刊2018-12-01）
杨磊,吴安东,卢亮,李永明,徐显波[3]（2018）在《1.3 GHz单cell超导射频腔等离子体清洗放电研究（英文）》一文中研究指出场致发射限制超导射频腔加速梯度增长。为了减少超导射频腔场致发射,在室温条件下,设计搭建了1.3GHz单cell超导射频腔等离子体清洗实验装置,开展等离子体清洗放电研究。使用CST软件模拟腔中的电磁场分布并且优化外部品质因数得到合适的放电条件。随着压强、前向功率和含氧量的变化,实验探讨了Ar/Ar-O_2放电的物理特征和电子激发温度的变化趋势。残余气体分析结果表明,Ar/O_2等离子体清洗能够消除腔体内表面的碳化物。(本文来源于《原子核物理评论》期刊2018年03期）
金英,史冬梅[4]（2018）在《大气压等离子体清洗的反应动力学方程》一文中研究指出近些年,大气压等离子体射流清洗得到广泛的关注,而实现等离子体射流清洗效果的定量控制也是这些年研究的热点之一.文中在反应动力学理论和阿仑尼乌斯定律的基础上建立了大气压等离子体射流清洗的反应动力学方程,并根据所建立的反应动力学方程确定了等离子体射流清洗装置反应动力学方程中的参数:指前因子和活化能,从而建立了该射流清洗装置的反应动力学方程,并将反应动力学方程所得到的清洗效果理论值与相同参数条件下实验所得到的清洗效果进行了对比,结果表明实验值与理论值吻合的很好,验证了所得到的大气压等离子体射流清洗反应动力学方程的可靠性.大气压等离子体射流清洗反应动力学方程的建立为实现现代化工业生产中清洗效果的定量控制提供理论基础和研究方法.(本文来源于《渤海大学学报(自然科学版)》期刊2018年01期）
金英,史冬梅[5]（2017）在《氧氩混合气体等离子体射流在清洗中的应用》一文中研究指出文中以氩气为放电气体,同时通入一定量的氧气,利用双高压放电技术产生氧氩混合等离子体射流,分析氧气混合比对等离子体射流放电特性的影响,从而可以进一步探究氧气混合比对润滑油污清洗效果的影响,探寻最佳清洗效果所对应的氧气混合比,并在此基础上进一步分析影响氧氩等离子体射流清洗效果的主要影响因素,可以为工业生产中的清洗环节提供方便、快捷及高效的清洗方法.(本文来源于《渤海大学学报(自然科学版)》期刊2017年01期）
程丕俊,李辉[6]（2016）在《等离子体清洗工艺在电声器件生产工艺中的应用》一文中研究指出在电声器件生产工艺过程中,胶粘表面亲水性能强弱及锡丝焊接前表面的氧化物及颗粒污染物存在的因素,会降低产品可靠性,影响产品质量。如在生产工艺前进行等离子体清洗,则可有效增强可靠性、提高良品率、稳定高品质。介绍了等离子体的清洗肌理及关联设备,并就引进清洗工艺前后的效果做了数据对比,验证了该工艺的优势。(本文来源于《电子工业专用设备》期刊2016年09期）
贾彩霞,王乾,蒲永伟[7]（2016）在《等离子体清洗技术及其在复合材料领域中的应用》一文中研究指出低温等离子体作为材料表面改性技术的应用已经非常广泛,其中一项重要应用是作为一种干法清洗技术有效清除材料表面的有机污染物及氧化层,同时改善材料表面的物理及化学性能。本文对等离子体清洗技术的机理、类型及效果特点进行了详细分析,介绍了等离子体清洗设备及影响其清洗效率的工艺参数,并着重分析了等离子体清洗技术在复合材料领域的应用现状及应用前景。(本文来源于《航空制造技术》期刊2016年18期）
金英[8]（2016）在《等离子体射流特性及在金属表面清洗中的应用》一文中研究指出作为现代工业生产的重要环节,金属表面清洗是生产各种金属制品的预备过程和前提条件。合适的清洗手段和高质量的清洗工艺可以提高金属制品的质量,改善产品的性能。在各种清洗手段中,大气压等离子体射流清洗是近些年来一种新兴的清洗技术,也是目前国内外大气压等离子体射流应用领域的研究热点之一。与传统清洗技术相比,大气压等离子体射流清洗技术具有高效,环保无污染等优势,而且与其它大气压等离子体清洗技术相比,大气压等离子体射流产生区域和清洗区域空间分离,具有操作快捷简单,成本低廉,可控性强等优势。因此,大气压等离子体射流在清洗中的应用中具有广泛的发展空间和良好的应用前景。通过调整放电参数,优化等离子体射流参量,进而最大程度上改善清洗效果,同时可以实现对清洗效果的定量计算是大气压等离子体射流清洗技术可以大规模应用于现代工业生产的先决条件。基于这点,本文以大气压等离子体射流清洗金属表面油污为中心,开展了如下工作：1.利用单管双高压装置产生的大气压Ar和02／Ar等离子体射流清洗金属表面润滑油污,通过改变电源频率来优化等离子体射流参量,进而改善等离子体射流清洗效果。实验发现,等离子体射流参量受到频率的影响,而且等离子体射流参量随电源频率的变化规律还与放电区长度有关。当电源频率在17-35 kHz范围内变化时,等离子体射流参量均随电源频率的增加而增加,但是放电区长度不同时,等离子体射流参量的增加趋势略有不同。放电区长度为6 cm时,从整体上看,等离子体射流各参量随电源频率的变化规律分为两个区域,存在临界频率,大概在23 kHz左右。然而,放电区长度为10 cm时,电源频率从17 kHz增加到35 kHz,等离子体射流各参量均平稳直线上升,并没有出现临界频率。而且在一定的电源频率下,放电区长度为10 cm时的等离子体射流参量均比放电区长度为6 cm时所对应的等离子体射流参量高。通过水接触角和清洗百分比的测量结果发现,清洗效果同样受到电源频率的影响,同时,清洗效果随电源频率的变化规律也与放电区长度有关。放电区长度为6 cm时,清洗过程中也出现临界频率,大概在23 kHz左右。而放电区长度为10 cm时,电源频率从17 kHz增加到35 kHz,清洗效果逐步改善,没有出现临界频率。进一步分析还会发现,在一定的电源频率下,放电区长度为10 cm时的清洗效果比放电区长度为6 cm时的清洗效果好。这些实验结果说明电源频率与放电区长度之间的匹配对清洗效果的影响很大。此研究可以为进一步设计和优化高效等离子体射流清洗设备研究打下良好基础。2.利用金属板接地电极的双管双高压装置产生的02／Ar等离子体射流清洗金属表面润滑油污,通过改变氧气的混合比来探究清洗效果受到的影响。结果发现,当氧气混合比增加至1.5%时,获得了最佳清洗效果,且电子密度和氧原子浓度均达到最大值；氧气混合比超过1.5%而继续增加时,清洗效果并不能继续得到改善,且电子密度和氧原子浓度不再增加。由此可见,电子密度和氧原子浓度随氧气混合比的变化规律与清洗效果随氧气混合比的变化规律是一致的,因此,电子和氧原子在02／Ar等离子体射流清洗过程中具有重要作用。这一研究还说明,利用02/Ar等离子体射流清洗油污时,存在最佳氧气混合比。因此,在利用氧气来改善清洗效果时,应该首先获取最佳氧气混合比,才能极大程度的提高等离子体射流的清洗能力。3.以双管双高压结构为基础,采用外石英管接地电极的放电装置,使等离子体射流直接喷出石英管口,从而对待清洗金属产品的形状和体积没有过多的限制。在不同的电功率下,以He和Ar为主要工作气体,同时通入不同比例的氧气,产生02/He和02/Ar等离子体射流清洗金属表面润滑油污。实验结果表明：02/He和02/Ar等离子体射流中都存在最佳氧气混合比,同时,在一定电功率和氧气混合比的情况下,相对于02/He等离子体射流,02/Ar等离子体射流中的电子密度和氧原子浓度更高,且02/Ar等离子体射流的清洗效果更好。因此,无论从清洗效果还是清洗成本角度,02／Ar等离子体射流在润滑油污的清洗应用中更具有优势。进一步分析发现,当电功率增加时,除了可以改善02/He和02/Ar等离子体射流的清洗效果外,最佳氧气混合比也随电功率的增加而增加,说明电功率增加允许有更多的氧气参与放电而产生更多的氧原子,能够切实有效的改善清洗效果。随后,通过改变电压和气体流量来优化等离子体参量,进而改善清洗效果。结果表明,电压增加也会使清洗效果得到明显的改善。然而,清洗效果与气体流量成反比,气体流量增加并不能有效改善清洗效果。因此,欲获得最佳的清洗效果,气体流量不能过大。这些实验结果进一步完善了影响等离子体射流清洗效果的放电参数,有望通过简单调节放电参数,实现对等离子体射流清洗的精确控制。4.在反应动力学理论和阿仑尼乌斯定律相结合的基础上,确定了大气压等离子体射流清洗金属表面润滑油污反应动力学方程中的参数：指前因子和活化能,并在此基础上建立了叁种大气压等离子体射流清洗装置的反应动力学方程,可以定量的计算任意清洗时刻的清洗百分比；并且通过实验对所建立的反应动力学方程进行验证,结果表明实验值与理论值基本吻合。通过叁种等离子体射流装置反应动力学方程中的指前因子和活化能的对比分析发现,金属板接地电极的双管双高压等离子体射流清洗速率最快,外石英管接地电极的双管双高压等离子体射流清洗速率次之,单管双高压等离子体射流清洗速率最慢。等离子体射流清洗的反应动力学方程的建立可以为精确定量控制现代工业生产中的清洗过程提供研究方法和理论依据。(本文来源于《大连理工大学》期刊2016-05-16）
田钦文,李慕勤,关秉羽[9]（2015）在《高功率脉冲等离子体清洗对铝合金MAO涂层表面Cr-DLC薄膜摩擦学性能影响》一文中研究指出铝合金已经被广泛应用于纺织机械。为了提高耐磨性,铝合金表面微弧氧化(MAO)是一种非常有效的方法。通过合适的溶液配方和电参数调节,可以在铝合金表面获得一种厚的氧化铝陶瓷膜。与铝合金基体相比,该MAO陶瓷膜具有高的硬度、耐磨性和耐腐蚀性。但是微弧氧化工作原理决定了其具有多孔特征、粗糙度较高,而且材料为氧化铝,使得其表面具有较高的摩擦磨损系数。为此本文提出在铝合金微弧氧化涂层表面中频磁控放电沉积Cr-DLC,以期获得耐磨和较低的摩擦系数。但是在微弧氧化表面直接沉积DLC很难获得较高的膜基结合力,为此提出了高功率脉冲磁控放电清洗技术。利用高功率脉冲放电获得的高密度等离子体(含有大量的金属离子),然后在工件上施加高偏压(500-1000V),来轰击微弧氧化表面。一方面减少表面非致密物,夯实表面;另一方面引入金属离子与氧化铝结合,获得有效的金属过渡。然后利用中频磁控放电在已经轰击之后的MAO表面沉积Cr-DLC。本文将介绍微弧氧化参数、高功率脉冲参数和中频DLC参数对表面摩擦磨损性能的影响。(本文来源于《第十二届国际真空冶金与表面工程学术会议论文（摘要）集》期刊2015-08-23）
袁渭军,张文治,张改,赵菁[10]（2015）在《低温等离子体法处理电厂锅炉EDTA清洗废水实验研究》一文中研究指出使用介质阻挡放电和脉冲电晕放电2种低温等离子体对电厂锅炉乙二胺四乙酸二钠(EDTA)清洗废水进行处理,采用COD降解率、色度去除率为评价指标,探寻放电功率、电介质间距(介质阻挡放电)/电极间距(脉冲电晕放电)、放电时间、处理量等因素对COD降解率及色度去除率性能的影响。结果表明,当放电功率为15 k W,电介质间距/电极间距为5 mm时,2 h可使电厂锅炉EDTA清洗废水COD降解率70%以上、色度去除率90%以上。(本文来源于《水处理技术》期刊2015年06期）
等离子体清洗论文开题报告
（1）论文研究背景及目的
此处内容要求：
首先简单简介论文所研究问题的基本概念和背景，再而简单明了地指出论文所要研究解决的具体问题，并提出你的论文准备的观点或解决方法。
写法范例：
经过半个世纪的发展,超导射频(Superconducting radio frequency,SRF)腔体已成为一般现代粒子加速器装置的核心部件。同常温腔体相比,超导腔具有较大束流孔径、更低的功率损耗等特性,使得其在长脉冲(连续)、高流强加速器装置中具有诸多优势。然而,基于目前的技术水平,场致发射效应依然是限制超导腔加速性能的主要因素,并给加速器的实际运行带来诸多不稳定因素。场致发射效应的产生通常与腔体内表面的污染有关。例如,外部金属、灰尘等颗粒物在腔体内表面的附着导致的表面峰值电场的放大,大量的实践表明,此类较大颗粒的污染问题可采用高压水冲洗(High pressure rinsing,HPR)解决。但是,来源于环境周围的化学污染物,诸如碳氢化合物以及各种残余气体在内表面的吸附等问题却难以通过标准的清洗方法得到有效地去除。为了提高超导腔在线运行中的加速性能,SRF科学共同体经过多年的努力和探索,诸多原位在线清洗技术得以发展,主要以射频功率锻炼(连续波以及高功率脉冲锻炼)、低温氦清洗两大技术手段为主。两种在线清洗手段的实现机理均为通过对腔体表面形貌的改善以降低场增强因子,从而达到缓解场致发射效应的目的。然而,这两种技术属于物理手段,对于腔体内表面的碳化物污染以及残余气体的吸附并不能得到完全有效的清除。近年来,基于活性氧等离子体的在线清洗技术得到发展,作用机理为利用具有氧活性的等离子体与腔体表面的碳氢化合物发生氧化反应生成具有挥发性的物质,使碳氢化合物污染较为彻底的从腔体表面清除,以达到缓解或消除场致发射效应的目的,其效果已在多-Cell椭球腔上得到验证。由中国科学院近代物理研究所主导、并同其他合作单位共同研发的我国加速器驱动次临界核嬗变系统(Chinese-Accelerator Driven System,C-ADS)已完成25MeV超导质子直线加速器原型样机的建设和调试,并实现了170μA连续质子束的运行。然而,实验发现加速器的失束和不稳定性主要来源于半波长型(Half wave resonator,HWR)超导腔的场致发射效应而导致的系统故障。因此,为减少场致发射导致的故障问题、提高C-ADS加速器的运行稳定性,基于半波长型超导腔的等离子体在线清洗技术被提出,促使了本论文的形成。首先,为考察在线运行条件下HWR腔体中的等离子体的特性,搭建了基于恒温器工况的放电实验平台。对等离子体的激励过程、实验参数进行了系统的研究,发现了一种基于微波阻抗变化的等离子体控制方法。同时,利用等离子体的特征发射光谱对等离子体的密度、电子的温度、氧分子的解离率进行了诊断,并掌握了适合于HWR腔在线等离子体清洗的最优实验参数。然后,开展了基于小样品的铌腔表面处理工艺研究。利用氩离子溅射实验分析表面成分以及功函数随深度变化,得到了功函数随碳化物减小而增大,随铌的氧化物增加而增大的结论。并且,分析了在以Nb_2O_5为表面的系统上,功函数随碳化物的变化的线性定量关系。另外,在由ICP等离子体源和开尔文探针集成的系统上开展了铌样品的清洗工艺和机理研究。根据功函数随清洗时间演化的指数曲线规律,提出了碳化物的清洗速率模型。利用该模型定量分析了等离子体中的离子通量、氧含量条件对清洗速率参数的贡献,证明了清洗过程中等离子体和表面碳化物之间的相互作用为离子协同的化学溅射机制。对功函数的稳定性以及表面氧化物的生长进行了表征,以此确定了等离子体清洗所需的有效时间和最佳氧含量等工艺参数。此外,直接通过垂测平台研究了碳化物的污染机理以及对腔体性能的影响。根据污染和腔体表面结合能的不同,将其分为低温物理吸附污染以及碳化学沉积两种机制。碳化物的低温物理吸附实验表明,该污染机制可以导致场致发射效应的增强而使腔体性能下降,但是,低温物理吸附可以通过回温解决碳污染导致的性能下降问题。然后,通过Ar/CH_4等离子体增强气相沉积方法在超导腔内表面形成碳沉积污染,测试表明,碳化学沉积导致的腔体性能下降问题不能通过传统的功率锻炼得到解决。最后,利用活性氧等离子体对碳化学沉积所污染的HWR开展了原位清洗实验研究。清洗过程中,对残余气体进行分析证明了超导腔中的碳化物同等离子体发生了化学作用。同时,垂测结果表明场致发射效应被消除,腔体性能不仅得到完全恢复而且同污染前的本底值相比,最大梯度提高约29%。进一步地,为与实际在线污染情况一致,对HWR超导腔进行了直接的暴露空气污染处理,其结果导致了超导腔的性能完全瘫痪,通过功率老练的处理方法亦不能使其性能恢复。因此,再次对HWR开展等离子体清洗,测试发现超导腔性能得以恢复,进一步的分析表明,等离子体清洗的化学作用对HWR超导腔中的碳化物污染具有清除效果。
（2）本文研究方法
调查法：该方法是有目的、有系统的搜集有关研究对象的具体信息。
观察法：用自己的感官和辅助工具直接观察研究对象从而得到有关信息。
实验法：通过主支变革、控制研究对象来发现与确认事物间的因果关系。
文献研究法：通过调查文献来获得资料，从而全面的、正确的了解掌握研究方法。
实证研究法：依据现有的科学理论和实践的需要提出设计。
定性分析法：对研究对象进行“质”的方面的研究，这个方法需要计算的数据较少。
定量分析法：通过具体的数字，使人们对研究对象的认识进一步精确化。
跨学科研究法：运用多学科的理论、方法和成果从整体上对某一课题进行研究。
功能分析法：这是社会科学用来分析社会现象的一种方法，从某一功能出发研究多个方面的影响。
模拟法：通过创设一个与原型相似的模型来间接研究原型某种特性的一种形容方法。
等离子体清洗论文参考文献
[1].佟艳群,张昂,符永宏,姚红兵,周建忠.碳纤维复合材料的激光清洗等离子体光谱在线检测研究[J].光谱学与光谱分析.2019
[2].吴安东.半波长型超导腔的等离子体清洗工艺及机理研究[D].中国科学院大学(中国科学院近代物理研究所).2018
[3].杨磊,吴安东,卢亮,李永明,徐显波.1.3GHz单cell超导射频腔等离子体清洗放电研究（英文）[J].原子核物理评论.2018
[4].金英,史冬梅.大气压等离子体清洗的反应动力学方程[J].渤海大学学报(自然科学版).2018
[5].金英,史冬梅.氧氩混合气体等离子体射流在清洗中的应用[J].渤海大学学报(自然科学版).2017
[6].程丕俊,李辉.等离子体清洗工艺在电声器件生产工艺中的应用[J].电子工业专用设备.2016
[7].贾彩霞,王乾,蒲永伟.等离子体清洗技术及其在复合材料领域中的应用[J].航空制造技术.2016
[8].金英.等离子体射流特性及在金属表面清洗中的应用[D].大连理工大学.2016
[9].田钦文,李慕勤,关秉羽.高功率脉冲等离子体清洗对铝合金MAO涂层表面Cr-DLC薄膜摩擦学性能影响[C].第十二届国际真空冶金与表面工程学术会议论文（摘要）集.2015
[10].袁渭军,张文治,张改,赵菁.低温等离子体法处理电厂锅炉EDTA清洗废水实验研究[J].水处理技术.2015