导读:本文包含了相位掩模论文开题报告文献综述及选题提纲参考文献，主要关键词:信号处理,光学水印,超混沌,Gyrator变换
相位掩模论文文献综述
刘禹佳,姜肇国,徐熙平,张福琦,徐嘉鸿[1]（2019）在《Gyrator变换域下基于超混沌相位掩模的光学水印方法》一文中研究指出针对光学变换水印算法中光学实现的轴对准问题和光学密码系统的安全性问题,提出一种基于超混沌映射和Gyrator变换的光学水印方法。利用Chen 4D超混沌系统构造超混沌相位掩模,然后通过菲涅耳波带板和径向希尔伯特掩模构造的涡旋光,对超混沌相位板进行照明,最后借助Gyrator变换将加密后的水印图像植入宿主灰度图像,实现Gyrator变换域下的光学信息隐藏。通过Gyrator逆变换提取目标图像中植入的水印信息。实验结果表明,该算法能够从高不可感知性的目标图像中提取高质量的水印信息,加密的目标图像信噪比高,与宿主图像的相关性强,能够有效地抵御强度系数为0.06和0.8的椒盐噪声和高斯噪声的攻击,对低于50%遮挡率和80压缩因子的攻击具有良好的稳健性。加密后的目标图像与原始宿主图像具有相似的统计分布,较好地实现了信息隐藏。(本文来源于《光学学报》期刊2019年09期）
刘禹佳,徐熙平,徐嘉鸿,姜肇国,李艳荻[2]（2019）在《基于矢量运算和副像相位掩模的遥感图像加密技术》一文中研究指出针对遥感图像及彩色图像传输过程中的信息安全问题,提出了一种利用矢量运算和副像相位掩模对彩色遥感图像加密的方法.在加密过程中,利用光学相干迭加原理将原始图像矢量分解,并迭加到R、G、B叁个通道上的两个相位板当中;然后,使用副像相位掩模在菲涅尔域中双随机相位编码对其中一个相位板加密;最后,利用两个随机矩阵的Kronecker积对编码图像进行进一步随机化处理,实现彩色遥感图像的多级加密.实验结果表明:该算法的密钥敏感度高,在强度系数小于0.04的高斯噪声攻击和统计分析攻击下具有良好的稳健性;密文能够抵御选择明文攻击,相比于传统的双随机相位编码算法具有更强的安全性.解密遥感图像的峰值信噪比和相关系数可达31.92dB和0.9888.该加密方法为大量相同尺寸遥感图像的加密提供了新的思路.(本文来源于《光子学报》期刊2019年02期）
成维,李思坤,王向朝,张恒,孟泽江[3]（2018）在《基于空间像的极紫外光刻掩模相位型缺陷形貌检测方法》一文中研究指出光刻是极大规模集成电路制造的核心工艺,光刻分辨率决定了集成电路芯片的特征尺寸。极紫外光刻(Extreme Ultraviolet Lithography,EUVL)通过减小曝光波长提高光刻分辨率,被认为是最有前景的下一代光刻技术。极紫外光刻掩模缺陷严重影响芯片生产的良率,并且目前尚无法实现无缺陷掩模的加工制造,因此对掩模缺陷进行检测并根据检测结果对掩模缺陷进行补偿具有重要意义。掩模相位型缺陷位于多层膜底部,在不破坏多层膜结构的情况下,现有仪器仅能检测其顶部形貌,难以检测其底部形貌特征。(本文来源于《第十七届全国光学测试学术交流会摘要集》期刊2018-08-20）
王斌,马良,杨慧珍,龚成龙[4]（2018）在《成像掩模探测器信号与波前相位平均梯度平方和线性关系验证》一文中研究指出基于模型的无波前探测自适应光学系统具有收敛速度快、校正效果好的优势,在实时波前校正中具有较大的应用潜力。成像掩模探测器信号S_(MD)与波前相位的平均梯度平方和S_(MG)之间的线性关系是系统控制算法设计的基础。为了验证S_(MD)和S_(MG)之间的线性关系,使用37单元压电变形镜、CCD相机和哈特曼传感器等主要元件建立自适应光学系统实验平台,其中利用变形镜产生波前畸变信息,利用CCD探测远场光强分布,利用哈特曼获取波前信息。基于获得的光强信息和波前畸变信息,分别计算S_(MD)值和S_(MG)值。实验结果验证了S_(MD)和S_(MG)之间的线性关系,且线性值为0.018,非常接近理论值1/(4π~2)。(本文来源于《中国激光》期刊2018年06期）
田红苗[5]（2017）在《基于相位掩模法的高阶铌酸锂Bragg波导光栅的研究》一文中研究指出近些年来,LiNbO_3晶体由于其热稳定性好,可见光波段光折变敏感,被广泛用作光集成器件的基底材料。LiNbO_3波导的制备技术已相当成熟,在LiNbO_3波导上制备的Bragg波导光栅也成为最重要的集成器件之一。本文在Ti扩散LiNbO_3波导的基础上,对高阶均匀,p相移及线性啁啾Bragg波导光栅的性能进行了研究,并利用相位掩模技术在Ti扩散铌酸锂波导上进行二阶均匀及线性啁啾Bragg波导光栅写制实验的研究。具体工作内容如下:1、对高阶均匀Bragg波导光栅的性能进行了研究,分析了饱和系数,光栅阶数对高阶均匀Bragg波导光栅反射谱的影响。在最优饱和系数下,不同阶均匀Bragg波导光栅最大反射率及零值带宽均达到最高,并且光栅阶数越大,零值带宽越小,但是最大反射率相等。2、对高阶p相移Bragg波导光栅的性能进行了研究,分析了相移位置,饱和系数和光栅阶数对奇数阶p相移Bragg波导光栅反射谱的影响。其中相移点在光栅中间位置时,各阶p相移Bragg波导光栅性能最好。在最优饱和系数下,不同阶p相移Bragg波导光栅的双通带间隔,谐振峰及分裂点的反射率最大,并且光栅阶数越大,双通带间隔越小,但是谐振峰及分裂点的反射率相等。3、对高阶线性啁啾Bragg波导光栅的性能进行了研究,主要从饱和系数,光栅阶数两方面研究对高阶线性啁啾Bragg波导光栅反射谱的影响。在最优饱和系数下,不同阶最大反射率达到最高,并且光栅阶数越大,啁啾系数,全反射带宽及最大反射率越小。4、对相位掩模法刻写高阶Bragg波导光栅的实验进行了研究。设计了相位掩模法刻写二阶均匀及线性啁啾Bragg波导光栅的实验方案,并分析了不同的实验参量对波导光栅性能的影响,进行了实验刻写,并对造成实验测量结果的可能原因进行了分析。(本文来源于《天津理工大学》期刊2017-02-01）
佟军民,徐锋,胡松[6]（2016）在《接近式光刻中基于条纹相位解析的掩模硅片面内倾斜校正研究》一文中研究指出针对接近式光刻中掩模硅片面内倾斜提出一种条纹相位解析方法。该方法通过2D傅里叶变换结合2D汉宁窗对于掩模硅片在面内发生的倾斜而形成的倾斜条纹进行处理,获得掩模硅片在面内的倾斜角度,进而进行倾斜校正。数值模拟与实验验证了该方法的可行性与有效性。结果表明,该方法能准确获得掩模硅片在面内的倾斜角度并进行校正。(本文来源于《制造技术与机床》期刊2016年09期）
王丽[7]（2015）在《HBES玻璃制作多阶相位结构灰阶掩模》一文中研究指出多阶相位器件是一类具有极高衍射效率的光学元件,主要应用于光互连、光通信、平面光学、折衍混合光学等方面。本文采用电子束直写曝光的方法,利用HEBS玻璃制作变灰阶掩模,实验测得掩模透过率误差不超过0.7%,制得菲涅尔透镜台阶高度误差不超过16%,证实了该方法的实用性和可靠性。(本文来源于《现代交际》期刊2015年12期）
崔晓峰[8]（2015）在《基于数字掩模技术聚合物二元相位光栅的制作》一文中研究指出聚合物材料具有质量轻,化学合成简便且成本低廉的特点,与硅基等无机材料相比,具有较高的电光耦合系数、热光耦合系数以及较低的介电常数,另其制作工艺不仅大规模集成电路的制作工艺兼容,且加工温度更低,因此,关于使用光学聚合物材料设计、制作微光学元件,以及应用聚合物微光学元件等方面研究工作也越来越多。本文首先对聚合物微光学元件的应用发展趋势进行了说明,然后对目前国内外使用光学聚合物材料制作微光学元件的技术进行了综述。针对光敏聚合物其折射率会随着曝光剂量变化的特点,并结合数字掩模光刻技术能对曝光剂量灵活调节,发现数字掩模光刻技术在制作聚合物微光学元件是具有优势的。本文随后对数字掩模光刻系统的结构、工作原理、光路、掩模生成系统等进行了详细介绍。利用光敏聚合物光学材料因与其敏感波长相互作用吸收能量其折射率发生变化这一特点,选用商业光敏聚合物SU-8作为加工材料,通过设计计算机数字掩模来控制曝光剂量,研究了SU-8的临界曝光剂量和曝光深度,以作为制作聚合物微光学元件的依据。然后以聚合物二元相位光栅为例,本文详细给出了基于精缩投影数字掩模光刻系统制作聚合物二元相位光栅的工艺流程并对制作样品进行表征。使用数字掩模对曝光剂量进行调节,在聚合物薄膜中形成期望折射率分布,从而制作出二元相位光栅。应用数字掩模技术制作光敏聚合物相位光栅掩模制作成本低、效率高、操作灵活,且制作工程中无需显影、刻蚀等工艺,避免了物理和化学腐蚀以及高温过程中对器件造成损伤,工艺得到了大大简化。本文也对聚合物二元相位光栅样品的衍射性质进行了实验验证。衍射实验结果表明,通过控制数字掩模的曝光时间,就可以直接改变光敏光学聚合物的折射率和折射率分布。因此,通过调节曝光剂量,数字掩模光刻技术在使用光敏聚合物制作微光学元件是可行的。(本文来源于《南昌航空大学》期刊2015-06-01）
崔晓峰,高益庆,况国文,李凤[9]（2014）在《基于数字掩模光漂白技术聚合物二元相位光栅的制作》一文中研究指出本文提出了一种新的基于精缩投影数字掩模光刻系统的制作微光学元件的技术一数字光漂白技术。利用光敏聚合物光学材料因与其敏感波长相互作用吸收能量其折射率发生变化这一特点,通过设计计算机数字掩模的灰度分布和曝光时间来控制曝光剂量,可以在聚合物薄膜中形成期望的折射率和折射率分布,从而制作出具有相应功能的微光学元件。新技术所需掩模制作成本低、效率高、操作灵活,且制作工程中无需显影、刻蚀等工艺,避免了物理和化学腐蚀以及高温过程等对器件造成损伤,工艺得到了大大简化。本文使用数字光漂白技术制作了聚(本文来源于《第十五届全国光学测试学术交流会论文摘要集》期刊2014-10-26）
李雪岩[10]（2013）在《纯相位光学防伪掩模设计的相位恢复算法研究》一文中研究指出高新技术在促进社会进步、推动经济快速发展的同时,利用高科技伪造各种证件、信用卡、大额票据等进行诈骗的案例也与日俱增,给国家和个人造成极大的经济损失,并带来严重的社会影响。因此增强信用卡等各类重要证件本身的防伪能力,不断寻求新的、安全可靠的防伪技术,一直是信息安全领域中的重要研究课题。在传统防伪技术日益面临挑战的今天,基于随机相位编码技术的光学安全系统以其独特的安全防伪特性和加密手段引起了信息安全工作者的广泛关注,有效推动了光学信息安全技术水平的提高。本论文的主要工作就是围绕随机相位编码技术的编码理论及系统安全性等方面存在的一些问题进行了深入研究,力图在现有光学防伪掩膜制作工艺基础上,在同等相位量化条件下通过改进编码方法尽可能提高解码图像的峰值信噪比；同时在编码过程中引入“一次一密”混沌秘钥,使制作得到的防伪掩膜除具有常规强度探测器难以感知的固有安全特性外,在算法级别上保证了系统的安全性,提高了防伪掩膜抵抗已知明文攻击、抵抗拷贝类攻击的能力。本文主要研究内容包括：(1)简要介绍了纯相位衍射光学元件的制作工艺及编码方法。对包括G-S、POCS等几种经典纯相位光学掩膜的迭代相位恢复算法进行了详细分析与讨论。并尝试基于模拟退火及遗传算法讨论了相位掩膜的制作过程。经计算机仿真验证了各算法在图像质量恢复方面的性能,为进一步算法的改进提供了理论与实验基础。(2)在对传统相位恢复算法进行详细分析的基础上,利用模拟退火算法能进行全局搜索的特点,提出了两种改进的纯相位掩膜制作方法,即SA-GS算法和SA-POCS算法。计算机仿真结果表明,两种算法均能快速地恢复各种输入面光场的相位分布。与单纯的GS算法与POCS算法相比,改进算法的图像恢复质量均得到不同程度的提升,提高了解码图像的峰值信噪比。(3)为进一步提高系统的防伪性能,在改进的SA-GS算法和SA-POCS算法编码过程中引入混沌密钥,利用混沌系统对初值的敏感性,实现了一定意义下的“一次一密”。计算机仿真结果表明,该方法可有效抵抗已知明文攻击,提高了系统的安全性。(本文来源于《大连海事大学》期刊2013-06-01）
相位掩模论文开题报告
（1）论文研究背景及目的
此处内容要求：
首先简单简介论文所研究问题的基本概念和背景，再而简单明了地指出论文所要研究解决的具体问题，并提出你的论文准备的观点或解决方法。
写法范例：
针对遥感图像及彩色图像传输过程中的信息安全问题,提出了一种利用矢量运算和副像相位掩模对彩色遥感图像加密的方法.在加密过程中,利用光学相干迭加原理将原始图像矢量分解,并迭加到R、G、B叁个通道上的两个相位板当中;然后,使用副像相位掩模在菲涅尔域中双随机相位编码对其中一个相位板加密;最后,利用两个随机矩阵的Kronecker积对编码图像进行进一步随机化处理,实现彩色遥感图像的多级加密.实验结果表明:该算法的密钥敏感度高,在强度系数小于0.04的高斯噪声攻击和统计分析攻击下具有良好的稳健性;密文能够抵御选择明文攻击,相比于传统的双随机相位编码算法具有更强的安全性.解密遥感图像的峰值信噪比和相关系数可达31.92dB和0.9888.该加密方法为大量相同尺寸遥感图像的加密提供了新的思路.
（2）本文研究方法
调查法：该方法是有目的、有系统的搜集有关研究对象的具体信息。
观察法：用自己的感官和辅助工具直接观察研究对象从而得到有关信息。
实验法：通过主支变革、控制研究对象来发现与确认事物间的因果关系。
文献研究法：通过调查文献来获得资料，从而全面的、正确的了解掌握研究方法。
实证研究法：依据现有的科学理论和实践的需要提出设计。
定性分析法：对研究对象进行“质”的方面的研究，这个方法需要计算的数据较少。
定量分析法：通过具体的数字，使人们对研究对象的认识进一步精确化。
跨学科研究法：运用多学科的理论、方法和成果从整体上对某一课题进行研究。
功能分析法：这是社会科学用来分析社会现象的一种方法，从某一功能出发研究多个方面的影响。
模拟法：通过创设一个与原型相似的模型来间接研究原型某种特性的一种形容方法。
相位掩模论文参考文献
[1].刘禹佳,姜肇国,徐熙平,张福琦,徐嘉鸿.Gyrator变换域下基于超混沌相位掩模的光学水印方法[J].光学学报.2019
[2].刘禹佳,徐熙平,徐嘉鸿,姜肇国,李艳荻.基于矢量运算和副像相位掩模的遥感图像加密技术[J].光子学报.2019
[3].成维,李思坤,王向朝,张恒,孟泽江.基于空间像的极紫外光刻掩模相位型缺陷形貌检测方法[C].第十七届全国光学测试学术交流会摘要集.2018
[4].王斌,马良,杨慧珍,龚成龙.成像掩模探测器信号与波前相位平均梯度平方和线性关系验证[J].中国激光.2018
[5].田红苗.基于相位掩模法的高阶铌酸锂Bragg波导光栅的研究[D].天津理工大学.2017
[6].佟军民,徐锋,胡松.接近式光刻中基于条纹相位解析的掩模硅片面内倾斜校正研究[J].制造技术与机床.2016
[7].王丽.HBES玻璃制作多阶相位结构灰阶掩模[J].现代交际.2015
[8].崔晓峰.基于数字掩模技术聚合物二元相位光栅的制作[D].南昌航空大学.2015
[9].崔晓峰,高益庆,况国文,李凤.基于数字掩模光漂白技术聚合物二元相位光栅的制作[C].第十五届全国光学测试学术交流会论文摘要集.2014
[10].李雪岩.纯相位光学防伪掩模设计的相位恢复算法研究[D].大连海事大学.2013