本文主要研究内容
作者徐平,黄燕燕,张旭琳,杨伟,彭文达（2019）在《无基膜高深宽比双面集成微结构元件的制作》一文中研究指出：基于双面集成微结构薄片元件在集成光学成像、光束整形等方面的应用日益普及,针对其中一些一体化、高深宽比结构在制作方面的难点问题,本文提出一种无基膜支撑、高深宽比的双面集成微结构元件的制作新方法——紫外压印改进技术。通过该方法,成功地制作了无基膜、高深宽比结构的集成导光板样品;样品上下表面微结构形貌与金属模具在误差范围内保持一致,转印复制过程的物理结构形变小,且样品的厚度整体均匀、平整无翘曲。实验结果表明,本文提出的紫外压印改进技术方法能有效地制作无基膜支撑、双面集成高深宽比的微结构元件,可望在集成光学成像及光束整形、匀光、导光、聚光等光学器件制作领域有良好应用。
Abstract
ji yu shuang mian ji cheng wei jie gou bao pian yuan jian zai ji cheng guang xue cheng xiang 、guang shu zheng xing deng fang mian de ying yong ri yi pu ji ,zhen dui ji zhong yi xie yi ti hua 、gao shen kuan bi jie gou zai zhi zuo fang mian de nan dian wen ti ,ben wen di chu yi chong mo ji mo zhi cheng 、gao shen kuan bi de shuang mian ji cheng wei jie gou yuan jian de zhi zuo xin fang fa ——zi wai ya yin gai jin ji shu 。tong guo gai fang fa ,cheng gong de zhi zuo le mo ji mo 、gao shen kuan bi jie gou de ji cheng dao guang ban yang pin ;yang pin shang xia biao mian wei jie gou xing mao yu jin shu mo ju zai wu cha fan wei nei bao chi yi zhi ,zhuai yin fu zhi guo cheng de wu li jie gou xing bian xiao ,ju yang pin de hou du zheng ti jun yun 、ping zheng mo qiao qu 。shi yan jie guo biao ming ,ben wen di chu de zi wai ya yin gai jin ji shu fang fa neng you xiao de zhi zuo mo ji mo zhi cheng 、shuang mian ji cheng gao shen kuan bi de wei jie gou yuan jian ,ke wang zai ji cheng guang xue cheng xiang ji guang shu zheng xing 、yun guang 、dao guang 、ju guang deng guang xue qi jian zhi zuo ling yu you liang hao ying yong 。
论文参考文献
论文详细介绍
论文作者分别是来自光学精密工程的徐平,黄燕燕,张旭琳,杨伟,彭文达，发表于刊物光学精密工程2019年01期论文，是一篇关于双面集成论文,无基膜论文,高深宽比论文,紫外压印论文,光学精密工程2019年01期论文的文章。本文可供学术参考使用，各位学者可以免费参考阅读下载，文章观点不代表本站观点，资料来自光学精密工程2019年01期论文网站，若本站收录的文献无意侵犯了您的著作版权，请联系我们删除。
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