本文主要研究内容
作者张以忱（2019）在《第二十讲 真空离子镀膜》一文中研究指出：(接2019年第1期第80页)典型的ARE装置见图12。这种装置的蒸发源通常采用e型枪。真空室结构分上下两室,上室为蒸镀室,下室为电子束源的热丝发射室,两室之间设有压差孔,电子枪发射的电子束经压差孔偏转聚焦在坩埚中心使膜材加热蒸发。采用这种枪即可加热蒸发高熔点金属,又为激活金属蒸气粒子提供了电子,为高熔点金属化合物膜的制
Abstract
(jie 2019nian di 1ji di 80xie )dian xing de AREzhuang zhi jian tu 12。zhe chong zhuang zhi de zheng fa yuan tong chang cai yong exing qiang 。zhen kong shi jie gou fen shang xia liang shi ,shang shi wei zheng du shi ,xia shi wei dian zi shu yuan de re si fa she shi ,liang shi zhi jian she you ya cha kong ,dian zi qiang fa she de dian zi shu jing ya cha kong pian zhuai ju jiao zai gan guo zhong xin shi mo cai jia re zheng fa 。cai yong zhe chong qiang ji ke jia re zheng fa gao rong dian jin shu ,you wei ji huo jin shu zheng qi li zi di gong le dian zi ,wei gao rong dian jin shu hua ge wu mo de zhi
论文参考文献
论文详细介绍
论文作者分别是来自真空的张以忱，发表于刊物真空2019年02期论文，是一篇关于,真空2019年02期论文的文章。本文可供学术参考使用，各位学者可以免费参考阅读下载，文章观点不代表本站观点，资料来自真空2019年02期论文网站，若本站收录的文献无意侵犯了您的著作版权，请联系我们删除。
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