导读:本文包含了金属光栅偏振分束器论文开题报告文献综述及选题提纲参考文献，主要关键词:偏振分束器,太赫兹器件,亚波长光栅
金属光栅偏振分束器论文文献综述
张晔岚,张昆,孔伟金,李采彧,夏峰[1]（2019）在《基于二氧化硅薄膜夹层式亚波长金属光栅的宽波段太赫兹偏振分束器（英文）》一文中研究指出设计出一种结构新颖的宽波段太赫兹偏振分束器,这种偏振分束器由夹层式亚波长金属光栅制成。亚波长金属光栅偏振分束器可以将入射的任意自然光分成两束偏振状态垂直的线偏振光。其中,TE模反射而TM模透射。设计的偏振分束器在3.5～5.5 THz波段可以达到很高的衍射效率与消光比。但是,在光栅的实际制作过程中,加工技术的缺陷引起的误差大大影响了光栅的性能,比如衍射效率,消光比等。因此文中对一些结构参数进行了计算,从计算结果可以看出这种偏振分束器也有很好的TM工艺容差。当覆盖层厚度D_1与底层介质厚度D_3的变化范围分别为1～1.2μm和2.8～3μm时,T_0~(TE)大于96.9%,R_0~(TE)大于98.7%。T_c和R_c分别大于31 d B和33.4 dB。结果显示,设计的偏振分束器在2 THz的带宽10°的大角度范围内,衍射效率高于90%,消光比大于20 dB。因此文中设计对于太赫兹调制器件的研究,以及太赫兹通信系统的集成都有很大的参考价值。(本文来源于《红外与激光工程》期刊2019年05期）
邓学松,方明,吴博,黄志祥[2]（2019）在《倒梯形双层金属光栅式偏振分束器》一文中研究指出为获得高衍射效率、高消光比、宽带宽及大角度容差的光栅结构,提出了一种在近红外波长区域工作的倒梯形双层金属光栅结构的偏振分束器。该结构引入了一层高折射率介质层,并且将光栅区的光刻胶斜切成倒梯形结构,新的设计增大了光栅的透射效率和消光比。使用严格耦合波分析方法,模拟和优化了偏振分束器的结构参数。结果表明,横磁波及横电波在1 290～1 840 nm波长范围内的透射效率和反射效率分别超过97%和95%。透射和反射的最大消光比分别为33 d B和53 d B。在波长为1 550 nm,入射角为-40°～40°时,光栅的透射和反射消光比都大于22 d B,达到了高性能偏振分束器的要求。相较于双层金属矩形光栅,所提出的倒梯形双层金属结构表现出更高的透射性与反射性,同时具有更好的设计灵活性。(本文来源于《红外与激光工程》期刊2019年03期）
车卫康,孔伟金,张晔岚,李采彧[3]（2018）在《夹层嵌入式金属光栅偏振分束器的设计》一文中研究指出为获得高性能的宽带偏振分束器,设计了夹层式金属光栅模型。应用遗传算法对光栅参数进行优化,设计出具有高消光比、宽带宽的偏振分束器。采用严格耦合波理论对其性能进行分析研究。模拟结果表明,该模型在波长范围900nm~1200nm之间,入射角-30°~30°,具有优良的偏振分束效果,衍射效率可达到95%以上。TE波反射效率和TM波透射效率最高分别可达到96.8%和97.5%,结构模型消光比高,TE波的反射消光比和TM波的透射消光比分别可达到37dB和33dB,该光栅结构简单紧凑,制作灵活且性能稳定。(本文来源于《青岛大学学报(自然科学版)》期刊2018年03期）
王定理[4]（2010）在《纳米压印技术及其在金属光栅偏振分束器和半导体激光器上的应用》一文中研究指出微纳米加工技术是实现微纳米技术的基础,它导致了集成电路的集成度每18个月翻一番。但随着器件加工特征尺寸的不断缩小,光学曝光技术的极限分辨率受到所使用光源波长的限制,生产成本急剧增长,传统的加工技术已无法满足纳米技术发展的需要。纳米压印技术作为一种全新的纳米尺度图形复制方法,具有超高分辨率、制作成本低以及生产效率高的特点,成为目前微纳加工技术中最为活跃的研究领域之一,可望成为一种工业化的生产技术。本论文对纳米压印的关键技术之一即压印模板的制作工艺进行了研究,并将纳米压印技术应用到金属光栅偏振分束器以及通信用半导体激光器的制作上。高质量压印模板的制作是纳米压印工艺研究与应用中最为关键的一项技术,压印模板的好坏直接影响着压印的质量,它决定了压印所能达到的最高分辨率本文采用电子束光刻结合反应离子刻蚀技术,进行了硅基以及石英基压印模板的制作,所制作的光栅压印模板图形线宽约100nm,光栅线条平直光滑,在大面积上均匀性良好。本论文的主要研究工作没有局限在纳米压印工艺技术本身,而是重点研究纳米压印技术在光电子器件微纳尺度图形制作上的应用,包括金属光栅偏振分束器以及DFB半导体激光器光栅制作上的应用研究,纳米压印工艺只是作为这些光电子器件制作中一个非常重要的技术手段。设计了掩埋型金属纳米光栅偏振分束器,采用纳米压印技术制作出了这种新型金属纳米光栅。研制了一套纳米光栅偏振特性测试系统,综合测试了金属纳米光栅在不同入射波长以及不同入射角度下的偏振特性。所制作的纳米光栅偏振分束器具有较坚固的表面,易于与其它器件进行集成,在整个通信用波段以及±30度的入射角范围内均具有较高的消光比以及低的插入损耗。在1550nm波长处其反射与透射消光比分别达到28dB和45dB,插入损耗均小于O.15dB,各项性能指标完全达到适用化要求。优化设计了1310nm波长的高速宽温度范围无致冷的应变多量子阱半导体激光器材料与结构；采用纳米压印技术制作了200nm周期的DFB悬浮型光栅。所制作的半导体激光器能实现在-40℃至85℃的宽温度范围内无致冷工作,其阈值电流的特征温度为65K,激射光谱的边模抑制比均大于45dB；在室温以及85℃下,激光器的3dB调制带宽分别达到16GHz和12GHz,完全满足高速光通信系统中半导体激光器10Gb/s直接调制速率的要求。优化设计了1550nm波段的单片多波长DFB半导体激光器材料与结构；采用纳米压印技术,以及干法刻蚀与湿法腐蚀相结合的方法制作出了多周期的DFB光栅；最终在同一个外延片上通过单次工艺流程,同时制作出了包含13个不同波长的DFB激光器芯片,其波长范围覆盖1544nm至1554nm,波长间隔0.8nm,所有激光器的边模抑制比均大于40dB。采用纳米压印技术进行单片多波长DFB光栅的制作,使得DWDM用DFB激光器大幅度降低成本、提高成品率并改善器件性能成为可能。纳米压印技术已展示了其广阔的应用领域,已广泛应用于各类微纳器件的制造,本文将这一新技术进一步应用到金属纳米光栅以及通信用半导体激光器芯片的制作上,开辟了纳米压印技术新的应用领域。(本文来源于《武汉大学》期刊2010-05-01）
金属光栅偏振分束器论文开题报告
（1）论文研究背景及目的
此处内容要求：
首先简单简介论文所研究问题的基本概念和背景，再而简单明了地指出论文所要研究解决的具体问题，并提出你的论文准备的观点或解决方法。
写法范例：
为获得高衍射效率、高消光比、宽带宽及大角度容差的光栅结构,提出了一种在近红外波长区域工作的倒梯形双层金属光栅结构的偏振分束器。该结构引入了一层高折射率介质层,并且将光栅区的光刻胶斜切成倒梯形结构,新的设计增大了光栅的透射效率和消光比。使用严格耦合波分析方法,模拟和优化了偏振分束器的结构参数。结果表明,横磁波及横电波在1 290～1 840 nm波长范围内的透射效率和反射效率分别超过97%和95%。透射和反射的最大消光比分别为33 d B和53 d B。在波长为1 550 nm,入射角为-40°～40°时,光栅的透射和反射消光比都大于22 d B,达到了高性能偏振分束器的要求。相较于双层金属矩形光栅,所提出的倒梯形双层金属结构表现出更高的透射性与反射性,同时具有更好的设计灵活性。
（2）本文研究方法
调查法：该方法是有目的、有系统的搜集有关研究对象的具体信息。
观察法：用自己的感官和辅助工具直接观察研究对象从而得到有关信息。
实验法：通过主支变革、控制研究对象来发现与确认事物间的因果关系。
文献研究法：通过调查文献来获得资料，从而全面的、正确的了解掌握研究方法。
实证研究法：依据现有的科学理论和实践的需要提出设计。
定性分析法：对研究对象进行“质”的方面的研究，这个方法需要计算的数据较少。
定量分析法：通过具体的数字，使人们对研究对象的认识进一步精确化。
跨学科研究法：运用多学科的理论、方法和成果从整体上对某一课题进行研究。
功能分析法：这是社会科学用来分析社会现象的一种方法，从某一功能出发研究多个方面的影响。
模拟法：通过创设一个与原型相似的模型来间接研究原型某种特性的一种形容方法。
金属光栅偏振分束器论文参考文献
[1].张晔岚,张昆,孔伟金,李采彧,夏峰.基于二氧化硅薄膜夹层式亚波长金属光栅的宽波段太赫兹偏振分束器（英文）[J].红外与激光工程.2019
[2].邓学松,方明,吴博,黄志祥.倒梯形双层金属光栅式偏振分束器[J].红外与激光工程.2019
[3].车卫康,孔伟金,张晔岚,李采彧.夹层嵌入式金属光栅偏振分束器的设计[J].青岛大学学报(自然科学版).2018
[4].王定理.纳米压印技术及其在金属光栅偏振分束器和半导体激光器上的应用[D].武汉大学.2010