杨仲秋：工作气压对磁控溅射薄膜的影响论文

本文主要研究内容

作者杨仲秋（2019）在《工作气压对磁控溅射薄膜的影响》一文中研究指出：结合近几年的相关研究报道,归纳总结磁控溅射法制备薄膜过程中,工作气体压力变化对膜层沉积速率、膜层形貌和表面粗糙度的影响及相关规律,为磁控溅射制备Mo薄膜、ZnO光学膜层时调控膜层厚度、透光率等性能提供参考。

Abstract

jie ge jin ji nian de xiang guan yan jiu bao dao ,gui na zong jie ci kong jian she fa zhi bei bao mo guo cheng zhong ,gong zuo qi ti ya li bian hua dui mo ceng chen ji su lv 、mo ceng xing mao he biao mian cu cao du de ying xiang ji xiang guan gui lv ,wei ci kong jian she zhi bei Mobao mo 、ZnOguang xue mo ceng shi diao kong mo ceng hou du 、tou guang lv deng xing neng di gong can kao 。

论文参考文献

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论文详细介绍

论文作者分别是来自黑龙江科学的杨仲秋，发表于刊物黑龙江科学2019年14期论文，是一篇关于磁控溅射论文,工作气压论文,薄膜论文,黑龙江科学2019年14期论文的文章。本文可供学术参考使用，各位学者可以免费参考阅读下载，文章观点不代表本站观点，资料来自黑龙江科学2019年14期论文网站，若本站收录的文献无意侵犯了您的著作版权，请联系我们删除。

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