作者李富军,叶涛,刘定富,李颖（2019）在《稳定剂对化学镀Ni-P-TiO2复合镀层性能的影响》一文中研究指出：研究了KIO3、CuSO4、硫脲对化学镀Ni-P-TiO2复合镀层性能的影响。结果表明:三种稳定剂中,硫脲的效果最好。另外,将硫脲和CuSO4复配使用时,沉积速率快,并且镀层的硬度较高。综合考虑镀层的各项性能,最终选取2.0 mg/L硫脲+8.0 mg/L CuSO4作为化学镀Ni-P-TiO2复合镀层的稳定剂。
yan jiu le KIO3、CuSO4、liu niao dui hua xue du Ni-P-TiO2fu ge du ceng xing neng de ying xiang 。jie guo biao ming :san chong wen ding ji zhong ,liu niao de xiao guo zui hao 。ling wai ,jiang liu niao he CuSO4fu pei shi yong shi ,chen ji su lv kuai ,bing ju du ceng de ying du jiao gao 。zeng ge kao lv du ceng de ge xiang xing neng ,zui zhong shua qu 2.0 mg/Lliu niao +8.0 mg/L CuSO4zuo wei hua xue du Ni-P-TiO2fu ge du ceng de wen ding ji 。
论文作者分别是来自电镀与环保的李富军,叶涛,刘定富,李颖，发表于刊物电镀与环保2019年04期论文，是一篇关于稳定剂论文,化学镀复合镀层论文,沉积速率论文,硬度论文,电镀与环保2019年04期论文的文章。本文可供学术参考使用，各位学者可以免费参考阅读下载，文章观点不代表本站观点，资料来自电镀与环保2019年04期论文网站，若本站收录的文献无意侵犯了您的著作版权，请联系我们删除。
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